一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术适用于二极管生产设备技术领域，提供了一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置，所述主体框架的内侧设置有横杆，且横杆的上下两侧均设置有移动机构，所述移动机构的下方设置有液压缸，且液压缸的下方设置有液压升降杆，所述液压升降杆的下方设置有爪手，且爪手的内侧设置有橡胶软垫，所述爪手的下方设置有清洗池，且清洗池的右方设置有超声仪，所述超声仪的下方设置有操作台，且操作台的下方均设置有稳固立柱，所述控制平台设置在主体框架的左方。设置有中空腔和隔音垫，这样可以通过中空腔和隔音垫配合将在对硅片进行去砂的过程中所产生的噪音，进行隔绝消减，避免因噪音过大，对周围环境造成污染，提高环保性。

【技术实现步骤摘要】
一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置
本技术属于二极管生产设备
，尤其涉及一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置。
技术介绍
二极管是最常用的电子元件之一，它最大的特性就是单向导电，也就是电流只可以从二极管的一个方向流过，二极管的作用有整流电路，检波电路，稳压电路，各种调制电路，主要都是由二极管来构成的，在二极管加工生产过程前，需要对硅片进行去砂处理，以去除表面氧化层，传统的二极管加工用硅片去砂装置在使用过程中存在以下弊端：传统的二极管加工用硅片去砂装置在使用过程中，无法有效的将产生的噪音进行隔绝消减，导致对周围环境容易造成噪音污染，降低了环保性。因此，需要提供一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置。
技术实现思路
本技术提供一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置，旨在解决传统的二极管加工用硅片去砂装置在使用过程中，无法有效的将产生的噪音进行隔绝消减，导致对周围环境容易造成噪音污染，降低了环保性的问题。本技术是这样实现的，一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置，包括主体框架和控制平台，所述主体框架的内侧设置有横杆，且本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置，包括主体框架(1)和控制平台(16)，其特征在于：所述主体框架(1)的内侧设置有横杆(4)，且横杆(4)的上下两侧均设置有移动机构(5)，所述移动机构(5)的下方设置有液压缸(6)，且液压缸(6)的下方设置有液压升降杆(7)，所述液压升降杆(7)的下方设置有爪手(8)，且爪手(8)的内侧设置有橡胶软垫(9)，所述爪手(8)的下方设置有清洗池(10)，且清洗池(10)的右方设置有超声仪(11)，所述超声仪(11)的下方设置有操作台(12)，且操作台(12)的下方均设置有稳固立柱(13)，所述控制平台(16)设置在主体框架(1)的左方，且控制平台(16)的左...

【技术特征摘要】
1.一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置，包括主体框架(1)和控制平台(16)，其特征在于：所述主体框架(1)的内侧设置有横杆(4)，且横杆(4)的上下两侧均设置有移动机构(5)，所述移动机构(5)的下方设置有液压缸(6)，且液压缸(6)的下方设置有液压升降杆(7)，所述液压升降杆(7)的下方设置有爪手(8)，且爪手(8)的内侧设置有橡胶软垫(9)，所述爪手(8)的下方设置有清洗池(10)，且清洗池(10)的右方设置有超声仪(11)，所述超声仪(11)的下方设置有操作台(12)，且操作台(12)的下方均设置有稳固立柱(13)，所述控制平台(16)设置在主体框架(1)的左方，且控制平台(16)的左方设置有旋转杆(17)，所述旋转杆(17)的左方设置有防尘盖(18)。


2.如权利要求1所述的一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置，其特征在于：所述主体框架(1)的内部设置有中空腔(2)，且中空腔(2)的内部还设置有隔音垫(3)，并且隔音垫(3)与中空腔(2)之间构成卡合结构。


3.如权利要求1所述的一种降噪型二极管加工用硅片去砂装置，其特征在于：所述移动机构(5)包括滑轨...

【专利技术属性】
技术研发人员：李想，
申请(专利权)人：深圳市珑威盛科电子有限公司，
类型：新型
国别省市：广东;44