柱塞及接触探针制造技术

技术编号:29767413 阅读:25 留言:0更新日期:2021-08-20 21:22
柱塞(10)具有导电性的基材层(11)、和设于上述基材层的外侧的以铂族元素为主成分的铂族层(13)。柱塞中,母材为上述基材层,在与检查对象物接触的顶端部中,在上述基材层的外侧具有上述铂族层。接触探针(1)具备上述柱塞、和端部与上述柱塞抵接的弹簧(40)。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】柱塞及接触探针
本专利技术涉及柱塞及具备柱塞的接触探针。
技术介绍
在对使用了半导体元件的集成电路和大规模集成电路等电子部件的电气特性检查中,为了将检查对象物和检查用基板电连接而使用接触探针。接触探针具有能够沿着长度方向移动的柱塞,使该柱塞的顶端部与作为检查对象物的电子部件的电极弹性接触来进行通电检查(例如参照专利文献1)。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2015-215223号公报
技术实现思路
在通电检查中,产生了在与检查对象物接触的柱塞的顶端部产生磨损或损耗这一问题。若柱塞的顶端部磨损或损耗,则柱塞的顶端部与检查对象物之间的接触电阻值会变得不稳定,而难以准确地进行通电检查。近年来,该问题由于伴随着半导体部件的高电流化产生的检查电流的高电流化,而变得更加显著。本专利技术的目的的一个例子为在通电检查中使磨损和损耗难以产生。本专利技术的一个方案是一种柱塞,具有导电性的基材层、和设在上述基材层的外侧的以铂族元素为主成分的铂族层。本专利技术的另一方案是一种接触探针,具备上述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种柱塞,具有:/n导电性的基材层;和/n设在所述基材层的外侧的以铂族元素为主成分的铂族层。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190129 JP 2019-0127251.一种柱塞,具有:
导电性的基材层;和
设在所述基材层的外侧的以铂族元素为主成分的铂族层。


2.如权利要求1所述的柱塞,其中,
母材为所述基材层,
在与检查对象物接触的顶端部中,在所述基材层的外侧具有所述铂族层。


3.如权利要求2所述的柱塞,其中,
在所述基材层的外侧具有以金(Au)或钯(Pd)为主成分的包覆层,
在所述顶端部中,在所述包覆层的外侧具有所述铂族层。


4.如权利要求1~3中任一项所述的柱塞,其中,
所述铂族层为表面层。

【专利技术属性】
技术研发人员:佐藤贤一
申请(专利权)人:株式会社友华
类型:发明
国别省市:日本;JP

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