一种tBu--azaBODIPY光热染料极其制备方法技术

技术编号:29608927 阅读:22 留言:0更新日期:2021-08-10 18:14
一种tBu‑‑azaBODIPY光热染料极其制备方法,涉及光热染料及其制备方法,本发明专利技术染料其通式如式I所示:

【技术实现步骤摘要】
一种tBu--azaBODIPY光热染料极其制备方法
本专利技术涉及一种光热染料及其制备方法,特别是涉及一种tBu--azaBODIPY光热染料极其制备方法。
技术介绍
众多染料中,氮杂氟硼二吡咯甲川(BF2-azadipyrrolemethene,简称azaBODIPY)染料是近年来受到广泛关注的一类新型近红外荧光染料,该类染料吸收和发射波长位于可见-近红外区域,易于调控而被广泛研究。其具有窄的半峰宽、量子产率高、摩尔消光系数大等特点,在生物、医药、材料等领域具有广阔的应用前景,已经成为近年来研究的热点。但有分子难修饰的不足,其分子结构单一。近年来,氮杂氟硼二吡咯甲川得到广泛的发展,O’Shea小组,Jiao小组和Jiang小组等做了系统的研究工作(Chem.Soc.Rev.,2016,45,3846-3864)。但azaBODIPY母核结构中1,7-位都是芳基取代(Chem.Soc.Rev.,2020,49,7533-7567)。至今为止并未有1,7-位叔丁基取代的氮杂氟硼二吡咯甲川结构的报道。<br>
技术实现思路
<本文档来自技高网
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【技术保护点】
1.一种tBu-azaBODIPY光热染料,其特征在于,所述染料其通式如式Ⅰ所示:/n

【技术特征摘要】
1.一种tBu-azaBODIPY光热染料,其特征在于,所述染料其通式如式Ⅰ所示:



在式I中,Ar选自Ar1、Ar2、Ar3、Ar4、Ar5、Ar6、Ar7、Ar8、Ar9和Ar10芳基基团;




2.一种tBu-azaBODIPY光热染料制备方法,其特征在于,所述方法包括如下制备步骤:
(1)化合物M3:在单口圆底烧瓶中加入芳基乙酮M2和氢氧化钾,向体系中加入乙醇/水溶液,再加入三甲基乙醛M1,室温搅拌24h;反应结束后,过滤,得到的固体再用乙醇重结晶,得到浅白色固体化合物M3;



M2中Ar选自所述的Ar1-Ar10基团;M3中Ar选自所述的Ar1-Ar10基团;
(2)化合物M4:将化合物M3加入反应瓶中,加入干燥的甲醇使其溶解,再向体系中加入硝基甲烷和三乙胺,加热回流6h...

【专利技术属性】
技术研发人员:姜新东苏亚军张东享赵君竹
申请(专利权)人:沈阳化工大学
类型:发明
国别省市:辽宁;21

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