一种均匀混合氧化铈泥浆的装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种均匀混合氧化铈泥浆的装置，涉及氧化铈技术领域，包括底座，所述底座的上方设置有第一混合室，且底座上表面位于第一混合室的一侧位置处设置有第二混合室，所述第一混合室的内部设置有搅拌机构，且第一混合室的顶部设置有上料斗，所述第二混合室的内部设置有混合机构，且第二混合室的一侧设置有出料口；所述底座的内部设置有驱动机构，所述驱动机构用于驱动搅拌机构和混合机构工作。本发明专利技术通过设置的驱动机构能够同时带动搅拌机构和混合机构工作，实现第一混合室与第二混合室对氧化铈泥浆的混合处理，在保证氧化铈泥浆混合均匀性的同时不增加动力源，有效提高混合速率，降低生产成本，保证氧化铈泥浆混合的均匀性。

【技术实现步骤摘要】
一种均匀混合氧化铈泥浆的装置
本专利技术涉及氧化铈
，具体是一种均匀混合氧化铈泥浆的装置。
技术介绍
氧化铈可用作抛光材料、催化剂、催化剂载体(助剂)、紫外线吸收剂、燃料电池电解质、汽车尾气吸收剂、电子陶瓷等。在使用氧化铈泥浆时需要借助混合装置，对氧化铈泥浆进行均匀混合，以保证其加工质量。现有专利如中国专利公开号为：CN202683130U，该专利的名称为“一种保持氧化铈泥浆均匀混合的装置”，该专利包括电机、底座、支撑架、传动轴，所述的电机轴线朝上安装在底座上，底座上固定有支撑架；电机的输出端安装有传动轴，传动轴上固定有水平转动体，传动轴一端设置有伞齿轮；水平转动体上设置有安装轴，安装轴上安装有两个垂直旋转夹具，两个垂直旋转夹具分别与传动轴的伞齿轮配合。用于对氧化铈泥浆进行混合。但是，目前市场上的氧化铈泥浆混合装置在实际使用过程中多为单轴搅拌混合，搅拌速率较慢，且易出现混合不均匀的现象，现有技术中为提高氧化铈泥浆混合的均匀性，有的设置有多个搅拌机构，进行多次搅拌，但每个搅拌机构均需要借助不同的动力源，生产成本较高，已不能满本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种均匀混合氧化铈泥浆的装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上方设置有第一混合室(2)，且底座(1)上表面位于第一混合室(2)的一侧位置处设置有第二混合室(3)，所述第一混合室(2)的内部设置有搅拌机构(4)，且第一混合室(2)的顶部设置有上料斗(8)，所述第二混合室(3)的内部设置有混合机构(5)，且第二混合室(3)的一侧设置有出料口(9)；/n所述底座(1)的内部设置有驱动机构(6)，所述驱动机构(6)用于驱动搅拌机构(4)和混合机构(5)工作；/n所述第一混合室(2)与第二混合室(3)之间设置有连通机构(7)。/n

【技术特征摘要】
1.一种均匀混合氧化铈泥浆的装置，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上方设置有第一混合室(2)，且底座(1)上表面位于第一混合室(2)的一侧位置处设置有第二混合室(3)，所述第一混合室(2)的内部设置有搅拌机构(4)，且第一混合室(2)的顶部设置有上料斗(8)，所述第二混合室(3)的内部设置有混合机构(5)，且第二混合室(3)的一侧设置有出料口(9)；
所述底座(1)的内部设置有驱动机构(6)，所述驱动机构(6)用于驱动搅拌机构(4)和混合机构(5)工作；
所述第一混合室(2)与第二混合室(3)之间设置有连通机构(7)。


2.根据权利要求1所述的一种均匀混合氧化铈泥浆的装置，其特征在于：所述搅拌机构(4)包括贯穿第一混合室(2)设置的搅拌轴(41)，所述搅拌轴(41)的两侧通过固定杆(42)连接有刮板(43)，且搅拌轴(41)上转动设置有搅拌桨(44)，所述搅拌桨(44)与刮板(43)之间设置有弹簧(45)。


3.根据权利要求1所述的一种均匀混合氧化铈泥浆的装置，其特征在于：所述混合机构(5)包括贯穿第二混合室(3)设置的混合轴(51)，所述混合轴(51)的上段部设置有螺旋刀片(52)，且混合轴(51)的下段部混合桨(53)。


4.根据权利要求3所述的一种均匀混合氧化铈泥浆的装置，其特征在于：所述混合机构(5)的内部设置有第一容纳腔(31)，所述第一容纳腔(31)的下方设置有第二容纳腔(32)，且第一容纳腔(31)与第二容纳腔(32)贯通连接；
所述螺旋刀片(52)设置在第一容纳腔(31)内，所述混合桨(53)设置在第二容纳腔(32)内。


5.根据权利要求1所述的一种均匀混合氧化铈泥浆的装置，其特征在于：所述驱动机构(6)包括固...

【专利技术属性】
技术研发人员：李维民，
申请(专利权)人：深圳杰明纳微电子科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44