一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘制造技术

本实用新型专利技术公开了一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，包括研磨盘本体，研磨盘本体两端面上开设有用于放置超细纤维的网格状凹槽以及两端面中心位置处均开设有阶梯孔，研磨盘本体顶部设置有用于放置抛光粉并向工件散落抛光粉的放置盒。该清洁和抛光用氧化铈研磨盘上网格状凹槽内放置的超细纤维通过静电吸附，使研磨盘工作时产生的灰尘吸附在网格状凹槽内，减少灰尘的飘散，同时放置盒内提前放置好氧化铈抛光粉，在使用时自动的撒落，减少操作人员接触抛光粉的次数，工作者的身心安全，研磨盘两面均可使用，研磨盘一面损坏可以换取另一面接着使用，减少更换研磨盘的次数，从而提高工作效率，以及降低工具购买成本。以及降低工具购买成本。以及降低工具购买成本。

【技术实现步骤摘要】
一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘


[0001]本技术涉及研磨盘领域，具体为一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘。

技术介绍

[0002]氧化铈抛光粉具有抛光速度快、光洁度高和使用寿命长的优点，与传统抛光粉—铁红粉相比，不污染环境，易于从沾着物上除去等优点。用氧化铈抛光粉抛光透镜，一分钟完成的工作量，如用氧化铁抛光粉则需要30～60分钟。所以，稀土抛光粉具有用量少、抛光速度快以及抛光效率高的优点。而且能改变抛光质量和操作环境。一般稀土玻璃抛光粉主要用富铈氧化物。氧化铈之所以是极有效的抛光用化合物，是因为它能用化学分解和机械摩擦二种形式同时抛光玻璃。稀土铈抛光粉广泛用于照相机、摄影机镜头、电视显像管、眼镜片等的抛光。但是氧化铈稀土元素的盐能降低凝血酶原的含量，使其失活，并抑制凝血活素的生成，使纤维蛋白原沉淀，催化分解磷酸化合物，稀土元素的毒性随原子量增加而减弱。
[0003]使用氧化铈抛光粉抛光时会产生大量的灰尘，灰尘中会含有大量的铈粉尘和玻璃封尘，经过呼吸，那些小的粉尘可能会进入肺并沉积在肺中，久而久之有可能造成尘肺，其氯化物对皮肤有损伤，能刺激眼睛的黏膜。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是提供一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，减少抛光过程中灰尘的飘散，自动缓慢撒抛光粉，减少工作人员接触氧化铈的次数。
[0005]为了实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，包括研磨盘本体，所述研磨盘本体两端面上开设有用于放置超细纤维的网格状凹槽以及两端面中心位置处均开设有阶梯孔，所述研磨盘本体顶部设置有用于放置抛光粉并向工件散落抛光粉的放置盒。
[0006]作为优选，所述网格状凹槽的深度为所述研磨盘本体的1/10
‑
3/10以及宽度为1
‑
2.5mm。
[0007]作为优选，所述放置盒包括封盖和收集盒，所述封盖顶部对称设置有进入口，所述进入口螺纹配合设置有无头螺丝，所述收集盒内部底面上沿放置盒中心呈圆形陈列分布渗孔。
[0008]作为优选，所述收集盒内部底面上设置有遮挡渗孔的渗布，所述收集盒底面上设置有胶圈。
[0009]作为优选，所述放置盒的顶部设置有螺栓，所述螺栓底部贯穿放置盒并延伸至与所述放置盒相对一侧的阶梯孔内、且阶梯孔内设置有螺母螺纹配合锁紧。
[0010]作为优选，所述放置盒底部设置有与阶梯孔相配合填充块，所述填充块中心开设有螺栓通过的过孔。
[0011]在上述技术方案中，本技术提供的一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，网格状
凹槽内放置的超细纤维通过静电吸附，使研磨盘工作时产生的灰尘吸附在网格状凹槽内，减少灰尘的飘散，同时放置盒内提前放置好氧化铈抛光粉，在使用时自动的撒落，减少操作人员接触抛光粉的次数，工作者的身心安全，研磨盘两面均可使用，研磨盘一面损坏可以换取另一面接着使用，减少更换研磨盘的次数，从而提高工作效率，以及降低工具购买成本。
[0012]应当理解，前面的一般描述和以下详细描述都仅是示例性和说明性的，而不是用于限制本公开。
[0013]本申请文件提供本公开中描述的技术的各种实现或示例的概述，并不是所公开技术的全部范围或所有特征的全面公开。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1为本技术实施例提供的研磨盘本体的结构示意图；
[0016]图2为本技术实施例提供的研磨盘整体剖视的结构示意图；
[0017]图3为本技术实施例提供的渗布和渗孔的结构示意图；
[0018]图4为本技术实施例提供的放置盒的结构示意图；
[0019]附图标记说明：
[0020]1、研磨盘本体；2、放置盒；3、进入口；4、填充块；5、阶梯孔；6、螺栓；7、渗布；8、渗孔；11、网格状凹槽；21、封盖；22、收集盒。
具体实施方式
[0021]为了使本领域的技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面将结合附图对本技术作进一步的详细介绍。
[0022]参与图1
‑
4所示，一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，包括研磨盘本体1，研磨盘本体1两端面上开设有用于放置超细纤维的网格状凹槽11，网格状凹槽11的深度为研磨盘本体1的1/10
‑
3/10以及宽度为1
‑
2.5mm，研磨盘本体1两端面中心位置处均开设有阶梯孔5，研磨盘本体1顶部设置有用于放置抛光粉并向工件散落抛光粉的放置盒2。
[0023]上述方案中，根据图2、图3和图4可知，放置盒2包括封盖21和收集盒22，封盖21顶部对称设置有进入口3，操作人员先将氧化铈抛光粉从进入口3倒入，进入口3螺纹配合设置有无头螺丝将进入口3堵住防止氧化铈抛光粉漏出，收集盒22内部底面上沿放置盒2中心呈圆形陈列分布渗孔8，收集盒22内部底面上设置有遮挡渗孔8的渗布7，使氧化铈抛光粉撒出，减少氧化铈抛光粉的飞扬，外侧使用胶圈在不使用进行密封。
[0024]上述方案中，根据图2可知，放置盒2的顶部设置有螺栓6，螺栓6底部贯穿放置盒2并延伸至与放置盒2相对一侧的阶梯孔5内，并且阶梯孔5内设置有螺母螺纹配合锁紧，放置盒2底部设置有与阶梯孔5相配合填充块4，填充块4中心开设有螺栓6通过的过孔，螺母端面上设置有槽孔，使用角磨机扳手夹紧，填充块4给予一个支撑力，防止因底部空心，顶部夹紧造成研磨盘损坏。
[0025]工作原理：操作人员取下无头螺丝，将氧化铈抛光粉从进入口3倒入，然后将无头
螺丝重新锁紧，取下胶圈，开始运作研磨盘本体1，工作中，超细纤维吸附灰尘，放置盒2撒出氧化铈抛光粉，结束后，重新套上胶圈。
[0026]以上只通过说明的方式描述了本技术的某些示范性实施例，毋庸置疑，对于本领域的普通技术人员，在不偏离本技术的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，上述附图和描述在本质上是说明性的，不应理解为对本技术权利要求保护范围的限制。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，包括研磨盘本体(1)，其特征在于：所述研磨盘本体(1)两端面上开设有用于放置超细纤维的网格状凹槽(11)以及两端面中心位置处均开设有阶梯孔(5)，所述研磨盘本体(1)顶部设置有用于放置抛光粉并向工件散落抛光粉的放置盒(2)。2.根据权利要求1所述的一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，其特征在于，所述网格状凹槽(11)的深度为所述研磨盘本体(1)的1/10
‑
3/10以及宽度为1
‑
2.5mm。3.根据权利要求1所述的一种清洁和抛光用氧化铈研磨盘，其特征在于，所述放置盒(2)包括封盖(21)和收集盒(22)，所述封盖(21)顶部对称设置有进入口(3)，所述进入口(3)螺纹配合设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：李维民，
申请(专利权)人：深圳杰明纳微电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：