【技术实现步骤摘要】
运送系统、处理系统以及物品制造方法
本专利技术涉及运送系统、处理系统和物品制造方法。
技术介绍
通常,在用于组装工业产品的生产线、半导体曝光设备等中使用运送系统。特别是,生产线中的运送系统在工厂自动化生产线内的多个工位之间或在各工厂自动化生产线之间运送工件,例如零部件。此外,这样的运送系统可以用作处理设备内的运送设备。作为运送系统,已经提出了具有可移动磁体型线性电机的运送系统。在具有可动磁体型线性电机的运送系统中,使用涉及机械接触的引导装置(例如线性引导件)来构造运送系统。然而,在使用诸如线性引导件之类引导装置的运送系统中,存在的问题是由线性引导件的滑动部产生的污染物(例如,轨道或轴承的磨损件或润滑油、挥发物等)所导致的生产率降低。此外,还存在的问题是由于在高速运送时滑动部摩擦增大导致线性引导件使用寿命缩短。因此,日本专利第5439762号和日本专利申请特开第2000-24816号公开了一种设备,可消除施加在可动部或移动构件上的自重。日本专利第5349762号中公开的设备具有辅助机构,该辅助机构与支撑可动部并 ...
【技术保护点】
1.一种运送系统,包括:/n定子,具有沿运送方向布置的多个线圈,其中,所述多个线圈中的每一个线圈均包括绕组和铁芯;和/n动子,具有布置成面对所述多个线圈的多个磁体,并且配置成通过在所述多个线圈和磁体之间产生的电磁力而沿运送方向移动,/n其中,定子具有第一运送构件和第二运送构件中的一个,第一运送构件和第二运送构件在运送方向上引导移动的动子,/n其中,第一运送构件包括上侧运送构件和下侧运送构件,上侧运送构件和下侧运送构件分别安装成位于第二运送构件的上方和下方。/n其中,动子具有第一运送构件和第二运送构件中的另一个,并且动子的运送位置被调整为使得至少一个磁体的顶面位于平衡位置的下 ...
【技术特征摘要】
20200205 JP 2020-0183501.一种运送系统,包括:
定子,具有沿运送方向布置的多个线圈,其中,所述多个线圈中的每一个线圈均包括绕组和铁芯;和
动子,具有布置成面对所述多个线圈的多个磁体,并且配置成通过在所述多个线圈和磁体之间产生的电磁力而沿运送方向移动,
其中,定子具有第一运送构件和第二运送构件中的一个,第一运送构件和第二运送构件在运送方向上引导移动的动子,
其中,第一运送构件包括上侧运送构件和下侧运送构件,上侧运送构件和下侧运送构件分别安装成位于第二运送构件的上方和下方。
其中,动子具有第一运送构件和第二运送构件中的另一个,并且动子的运送位置被调整为使得至少一个磁体的顶面位于平衡位置的下方或上方,在平衡位置中,铁芯和磁体之间产生的磁吸引力和作用在动子上的重力相互平衡,并且
其中,根据运送位置在第二运送构件接触下侧运送构件或上侧运送构件的状态下运送动子。
2.根据权利要求1所述的运送系统,
其中,定子具有第一运送构件,
其中,动子具有第二运送构件,
其中,动子的运送位置被调整成使得磁体的顶面位于平衡位置的下方,并且
其中,在第二运送构件与下侧运送构件接触的状态下运送动子。
3.根据权利要求2所述的运送系统,其中,在第二运送构件的底部与下侧运送构件之间形成的第一间隙小于在铁芯与磁体之间形成的第二间隙。
4.根据权利要求1所述的运送系统,
其中,定子具有第一运送构件,
其中,动子具有第二运送构件,
其中,动子的运送位置被调整成使得磁体的顶面位于平衡位置的上方,并且
其中,在第二运送构件与上侧运送构件接触的状态下运送动子。
5.根据权利要求4所述的运送系统,其中,在第二运送构件的上部与上侧运送构件之间形成的第一间隙小于在铁芯与磁体之间形成的第二间隙。
6.根据权利要求1所述的运送系统,其中,所述多个线圈布置在磁体上方并且布置成能够面对磁体。
7.根据权利要求1所述的运送系统,
其中,第一运送构件是轨道式构件,并且
其中,第二运送构件是在与第一运送构件接触的同时旋转的旋转构件。
8.根据权利要求1所述的运送系统,
其中,第二运送构件包括多个第二运送构件,并且
其中,所述多个第二运送构件中的全部或一些与下侧运送构件或上侧运送构件接触。
9.根据权利要求1所述的运送系统,还包括控制设备,控制设备向线圈供给电流以在消除作用在动子上的重力的方向上产生力,使第二运送构件压靠在下侧运送构件上或上侧运送构件上,并且使动子沿运送方向移动。
10.根据权利要求9所述的运送系统,还包括检测单元,检测单元检测动子的高度,
其中,控...
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