【技术实现步骤摘要】
一种适用于水下粗糙基底的碳纳米管干胶及其制备方法
[0001]本专利技术属于碳纳米管干胶相关
,更具体地,涉及一种适用于水下粗糙基底的碳纳米管干胶及其制备方法。
技术介绍
[0002]干胶材料存在于生活中的方方面面,它能使各种物体相互粘附,以满足不同的需要。干胶材料已经被广泛用于产品包装、家装建筑、机械组装、军工探索等各个领域,是生产生活不可或缺的一部分。根据应用的性质,干胶材料会受到各种环境的影响,从日常室温下使用的胶带之类化学聚合物基胶粘剂,到适应科学研究等目的的特定操作过程(如太阳能电池板、航天飞机发射等)的陶瓷或金属永久胶。但是,常规的粘合剂在温度的变化下往往会显示出结构或性能的下降,而这有时甚至会导致灾难性的后果,例如,高温应用往往采用陶瓷粘合剂或是金属焊接,但由于粘合剂层和目标表面之间的不同热膨胀程度,在宽温度范围内的热转变时不能防止界面剥离。因此,常规的干胶材料有其运用范围的局限性和能达到效果的有限性。
[0003]随着海洋强国意识的不断贯彻,对海洋探测的逐步推进,水下压力传感器在海底资源勘探、监 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种适用于水下粗糙基底的碳纳米管干胶的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:将碳纳米管阵列进行等离子体刻蚀,以刻蚀掉所述碳纳米管阵列端部的非阵列结构而形成结点结构,继而得到适用于水下粗糙基底的碳纳米管干胶。2.如权利要求1所述的适用于水下粗糙基底的碳纳米管干胶的制备方法,其特征在于:所述碳纳米管阵列的高度为50μm~1200μm,密度为15mg/cm3~65mg/cm3。3.如权利要求2所述的适用于水下粗糙基底的碳纳米管干胶的制备方法,其特征在于:所述碳纳米管阵列的高度为250μm~400μm,密度为25mg/cm3~35mg/cm3。4.如权利要求1所述的适用于水下粗糙基底的碳纳米管干胶的制备方法,其特征在于:步骤(2)中等离子体刻蚀时,先将等所述碳纳米管阵列放置于等离子体刻蚀机中,并控制等离子体处理的气体,在预定的功率下刻蚀预定时间。5.如权利要求4所述的适用于水下粗糙基底的碳纳米管...
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