LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统技术方案

本实用新型专利技术的一种LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统，主要包括：并联设置的第一过滤器单元和第二过滤器单元；其显影废液进口处分别设有流入压力传感器；其再生液出口处分别设有排出压力传感器；其显影废液进口分别与显影废液储罐相连接，其再生液出口，分别与再生显影液储罐相连接；其再生液出口分别设有浊度测量管，通过浊度计后再与显影废液储罐相连接；其显影废液进口还分别与清洗液储罐相连接。本实用新型专利技术可使显影废液连续再生，提高了生产效率；实现一组过滤单元运行时另一组过滤单元进行在线反冲洗；减少了过滤器更换维护费用，提高了显影液的再生效率。提高了显影液的再生效率。提高了显影液的再生效率。

【技术实现步骤摘要】
LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统


[0001]本技术属于TFT
‑
LCD光刻
，具体涉及一种LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统。

技术介绍

[0002]薄膜晶体管液晶显示器（TFT
‑
LCD，Thin Film Transistor Liquid Crystal Display）的制造工序中，需要对玻璃基板各层进行图案化，而这时使用的物质就是光致抗蚀剂（photoresist）。光致抗蚀剂分为正性光致抗蚀剂（positive photoresist）和负性光致抗蚀剂（negative photoresist）两种。在TFT
‑
阵列中，使用正性光致抗蚀剂为主，随着对画质的要求越来也高，在实际工艺中负性光致抗蚀剂的使用也变得越来越多。
[0003]本技术就是用于再生含成像用丙烯酸（photo acrylic），负性光致抗蚀剂的一种）的显影液的系统，在TFT
‑
LCD的光刻工艺中，除去显影废液中所含的成像用丙烯酸并且对显影液进行再生后重复利用。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统，其特征在于，主要包括：第一过滤器单元（F1）；所述第一过滤器单元的显影废液进口处设有第一流入压力传感器（T1）；所述第一过滤器单元（F1）的再生液出口处设有第一排出压力传感器（T2）；与所述第一过滤器单元（F1）并联设置的第二过滤器单元（F2）；所述第二过滤器单元（F2）的显影废液进口处设有第二流入压力传感器（T3）；所述第二过滤器单元（F2）的再生液出口处设有第二排出压力传感器（T4）；所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的显影废液进口，分别通过流入管路与显影废液储罐（2）相连接，该流入管路上设有动力泵（P1）；所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的再生液出口，分别通过流出管路与再生显影液储罐（6）相连接；所述第一过滤器单元（F1）的再生液出口设有第一浊度测量管（L1），所述第二过滤器单元（F2）的再生液出口设有第二浊度测量管（L2），所述第一浊度测量管（L1）和第二浊度测量管（L2）分别通过设有浊度计（D1）的第三浊度测量管（L3）后，再通过排出管路与所述显影废液储罐（2）相连接；所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的显影废液进口，还分别通过清洗液流入管路与清洗液储罐（7）相连接，在该清洗液流入管路上设有驱动泵（P2）和清洗液总阀门（V29），在清洗液进入所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的入口处分别设有第一清洗液阀门（V9）和第二清洗液阀门（V19）；所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的清洗液出口处分别通过带有第十阀门（V10）和第二十阀门（V20）的管路与清洗液排干管路（8）相连接。2.根据权利要求1所述的再生系统，其特征在于，在所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的显影废液进口外，还分别设有第一阀门（V1）和第十一阀门（V11）；在所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的再生液出口外，还分别设有第三阀门（V3）和第十三阀门（V13）；在所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的未被过滤的显影废液出口处，分别设有第四阀门（V4）和第十四阀门（V14），并通过流出管路与所述显影废液储罐（2）相连接；所述第一浊度测量管（L1）和第二浊度测量管（L2）的入口处，分别设有第二阀门（V2）和第十二阀门（V12）。3.根据权利要求2所述的再生系统，其特征在于，在所述第一过滤器单元（F1）的显影废液进口外，所述第一阀门（V1）与第一流入压力传感器（T1）之间，还设有带有第二十一阀门（V21）的管路与所述清洗液排干管路（8）相...

【专利技术属性】
技术研发人员：金太周，
申请(专利权)人：上海三盼半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：