LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统技术方案

本实用新型专利技术的一种LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统，主要包括：并联设置的第一过滤器单元和第二过滤器单元；其显影废液进口处分别设有流入压力传感器；其再生液出口处分别设有排出压力传感器；其显影废液进口分别与显影废液储罐相连接，其再生液出口，分别与再生显影液储罐相连接；其再生液出口分别设有浊度测量管，通过浊度计后再与显影废液储罐相连接；其显影废液进口还分别与清洗液储罐相连接。本实用新型专利技术可使显影废液连续再生，提高了生产效率；实现一组过滤单元运行时另一组过滤单元进行在线反冲洗；减少了过滤器更换维护费用，提高了显影液的再生效率。提高了显影液的再生效率。提高了显影液的再生效率。

【技术实现步骤摘要】
LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统


[0001]本技术属于TFT
‑
LCD光刻
，具体涉及一种LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统。

技术介绍

[0002]薄膜晶体管液晶显示器（TFT
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LCD，Thin Film Transistor Liquid Crystal Display）的制造工序中，需要对玻璃基板各层进行图案化，而这时使用的物质就是光致抗蚀剂（photoresist）。光致抗蚀剂分为正性光致抗蚀剂（positive photoresist）和负性光致抗蚀剂（negative photoresist）两种。在TFT
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阵列中，使用正性光致抗蚀剂为主，随着对画质的要求越来也高，在实际工艺中负性光致抗蚀剂的使用也变得越来越多。
[0003]本技术就是用于再生含成像用丙烯酸（photo acrylic），负性光致抗蚀剂的一种）的显影液的系统，在TFT
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LCD的光刻工艺中，除去显影废液中所含的成像用丙烯酸并且对显影液进行再生后重复利用。
[0004]TFT
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LCD的光刻工序中，被广泛应用的再生含有正性光致抗蚀剂成分的显影液的方法是通过纳米过滤系统对分子量进行过滤。由于纳米过滤器是以高分子分离膜组成，包含非多孔性活性层，当高分子运动（旋转，移动，振动等）时，在周围瞬间产生可接收显影液分子的自由体积（free volume），而又因非多孔性活性层的内外两侧形成压差，显影液分子透过自由体积扩散，可以穿过纳米过滤器；此时，由于光致抗蚀剂的分子直径大于纳米过滤器的孔径，因此会残留在过滤器上，而被去除光致抗蚀剂的显影液会通过纳米过滤器，从而达到分离显影液和光致抗蚀剂的目的。
[0005]但是，在此过程中，显影液包含的光致抗蚀剂会残留于纳米过滤器的内部，阻碍显影液的流动；虽然为了使含有光致抗蚀剂的显影液通过纳米过滤器，通常会采用高压供应泵来增加显影废液的动力，但纳米过滤器的再生效率仍然会大幅下降并且寿命也会缩短；尤其当再生浊度高的显影液时，再生效率会明显下降；由于上述原因纳米过滤器发生堵塞，需要经常进行更换，无法达到连续再生的要求，所以该纳米过滤系统不能用于再生成像用丙烯酸的显影液。

技术实现思路

[0006]本技术解决的第一个问题是如何将若干个独立的过滤单元（filter array）进行并联连接，并且当某一过滤单元发生脏堵时，通过感应元件可自动切换至另一过滤单元，如此可实现连续性不间断的再生；
[0007]本技术需要解决的第二个问题是如何在不拆卸过滤器的情况下对过滤器进行在线清洗，可实现一组过滤单元在清洗的同时另一组过滤单元工作，提高显影液再生工艺的再生效率。
[0008]本技术的目的是通过以下技术方案实现：
[0009]本技术的一种LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统，其特征在于，主
要包括：
[0010]第一过滤器单元，用于过滤包含成像用丙烯酸的显影废液；所述第一过滤器单元的显影废液进口处设有第一流入压力传感器，用于测量流入第一过滤器单元中的显影废液的压力；所述第一过滤器单元的再生液出口处设有第一排出压力传感器，用于测量从第一过滤器单元中排出的显影废液的压力；与所述第一过滤器单元并联设置的第二过滤器单元，用于过滤包含成像用丙烯酸的显影废液；所述第二过滤器单元的显影废液进口处设有第二流入压力传感器，用于测量流入第二过滤器单元中的显影废液的压力；所述第二过滤器单元的再生液出口处设有第二排出压力传感器，用于测量从第二过滤器单元中排出的显影废液的压力；
[0011]所述第一过滤器单元和所述第二过滤器单元的显影废液进口，分别通过流入管路与显影废液储罐相连接，该流入管路上设有动力泵，用于向所述第一过滤器单元和所述第二过滤器单元提供显影废液；所述第一过滤器单元和所述第二过滤器单元的再生液出口，分别通过流出管路与再生显影液储罐相连接，用于储存从所述第一过滤器单元和所述第二过滤器单元排出的再生显影液；
[0012]所述第一过滤器单元的再生液出口设有第一浊度测量管，所述第二过滤器单元的再生液出口设有第二浊度测量管，所述第一浊度测量管和第二浊度测量管分别通过设有浊度计的第三浊度测量管后，再通过排出管路与所述显影废液储罐相连接；
[0013]所述第一过滤器单元和所述第二过滤器单元的显影废液进口，还分别通过清洗液流入管路与清洗液储罐相连接，在该清洗液流入管路上设有驱动泵和清洗液总阀门，在清洗液进入所述第一过滤器单元和所述第二过滤器单元的入口处分别设有第一清洗液阀门和第二清洗液阀门，用于所述第一过滤器单元和所述第二过滤器单元的在线清洗；所述第一过滤器单元和所述第二过滤器单元的清洗液出口处分别通过带有阀门的管路与清洗液排干管路相连接。
[0014]本技术与现有技术相比，有如下好处：
[0015]由于使用了各自独立的过滤单元，在某一过滤单元脏堵的情况下，可自动切换到另一过滤单元，使显影废液得到了连续再生，提高了整个显影系统的生产效率；又因系统增加了在线清洗设备（CIP：Cleaning In Place），可对脏堵的过滤单元进行反冲洗；实现了一组过滤单元运行的同时另一组过滤单元进行在线反冲洗；在经济方面减少了过滤器更换维护费用，在运行方面提高了显影液的再生效率。
附图说明
[0016]图1为本技术的成像用丙烯酸显影液再生系统的结构示意图；
[0017]图2为图1中所示的两组过滤单元的局部放大图；
[0018]图3为过滤单元的过滤器的截面图；
[0019]图中：1
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显影剂缓存储罐，2
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显影废液储罐，3
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超纯水储罐，4
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显影液机控制系统，5
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新显影液储罐，6
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再生显影液储罐，7
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清洗液储罐，8
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清洗液排干管路，9
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稀释剂储罐，10
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排出管，20
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网状过滤器，21
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圆柱形外筒，22
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圆柱形网状物；23
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导流片；
[0020]F1
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第一过滤器单元，F2
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第二过滤器单元，T1
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第一流入压力传感器，T2
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第一排出压力传感器，T3
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第二流入压力传感器，T4
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第二排出压力传感器，P1
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动力泵，P2
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驱动泵，
P3
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供应泵，P4
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排液泵，M1、M2
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流量计，V1
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第一阀门，V2
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第二阀门，V3
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第三阀门，V4
‑...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种LCD工艺中的成像用丙烯酸显影液的再生系统，其特征在于，主要包括：第一过滤器单元（F1）；所述第一过滤器单元的显影废液进口处设有第一流入压力传感器（T1）；所述第一过滤器单元（F1）的再生液出口处设有第一排出压力传感器（T2）；与所述第一过滤器单元（F1）并联设置的第二过滤器单元（F2）；所述第二过滤器单元（F2）的显影废液进口处设有第二流入压力传感器（T3）；所述第二过滤器单元（F2）的再生液出口处设有第二排出压力传感器（T4）；所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的显影废液进口，分别通过流入管路与显影废液储罐（2）相连接，该流入管路上设有动力泵（P1）；所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的再生液出口，分别通过流出管路与再生显影液储罐（6）相连接；所述第一过滤器单元（F1）的再生液出口设有第一浊度测量管（L1），所述第二过滤器单元（F2）的再生液出口设有第二浊度测量管（L2），所述第一浊度测量管（L1）和第二浊度测量管（L2）分别通过设有浊度计（D1）的第三浊度测量管（L3）后，再通过排出管路与所述显影废液储罐（2）相连接；所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的显影废液进口，还分别通过清洗液流入管路与清洗液储罐（7）相连接，在该清洗液流入管路上设有驱动泵（P2）和清洗液总阀门（V29），在清洗液进入所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的入口处分别设有第一清洗液阀门（V9）和第二清洗液阀门（V19）；所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的清洗液出口处分别通过带有第十阀门（V10）和第二十阀门（V20）的管路与清洗液排干管路（8）相连接。2.根据权利要求1所述的再生系统，其特征在于，在所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的显影废液进口外，还分别设有第一阀门（V1）和第十一阀门（V11）；在所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的再生液出口外，还分别设有第三阀门（V3）和第十三阀门（V13）；在所述第一过滤器单元（F1）和所述第二过滤器单元（F2）的未被过滤的显影废液出口处，分别设有第四阀门（V4）和第十四阀门（V14），并通过流出管路与所述显影废液储罐（2）相连接；所述第一浊度测量管（L1）和第二浊度测量管（L2）的入口处，分别设有第二阀门（V2）和第十二阀门（V12）。3.根据权利要求2所述的再生系统，其特征在于，在所述第一过滤器单元（F1）的显影废液进口外，所述第一阀门（V1）与第一流入压力传感器（T1）之间，还设有带有第二十一阀门（V21）的管路与所述清洗液排干管路（8）相...

【专利技术属性】
技术研发人员：金太周，
申请(专利权)人：上海三盼半导体设备有限公司，
类型：新型
国别省市：