蒸镀罩清洗系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种蒸镀罩清洗系统，包括清洗设备，清洗设备包括支架，支架的一侧面间隔设置有多个第一喷头，第一喷头设置有圆形喷嘴，支架的周部间隔设置有多个第二喷头，第二喷头设置有椭圆形喷嘴，第一喷头和第二喷头均能够喷洒清洗剂对位于支架一侧的蒸镀罩进行清洗处理。通过在支架上设置第一喷头和第二喷头，第一喷头具有圆形喷嘴，圆形喷嘴的喷洒区域较大，有利于减少第二喷头的设置数量且保证喷洒区域。第二喷头设置在支架的周部，且第二喷头采用椭圆形喷嘴，椭圆形喷嘴喷洒的力度较大，有利于对位于蒸镀罩周部的污染物进行清洗，保证清洗质量。保证清洗质量。保证清洗质量。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀罩清洗系统


[0001]本技术涉及蒸镀设备
，尤其涉及一种蒸镀罩清洗系统。

技术介绍

[0002]蒸镀是通过将蒸镀材料在真空环境中加热，使之气化后沉积在基片上而获得薄膜材料。在实际应用中，参照图1所示，通常使用蒸镀罩2支撑、固定基片。蒸镀罩2为框架结构，蒸镀罩2的周部设置有用于限制基片移动的限位件21，蒸镀罩2的中部设置有遮挡部，遮挡部用于遮挡基片上不需要蒸镀的区域。蒸镀完成后，需要利用清洗剂对蒸镀罩2上的蒸镀材料进行清洗以便循环使用。现有的清洗设备包括支架，支架上设置有多个清洗喷头，并通过喷淋的方式对蒸镀罩2进行清洗。由于清洗喷头设置在安装基片的区域以及蒸镀罩2与基片的贴合区域，造成清洗喷头喷洒出的清洗剂无法覆盖蒸镀罩2的周围区域。在清洗时位于蒸镀罩2中部区域的污染物会随清洗剂飞溅至周围区域，造成蒸镀罩2的周围区域清洗不到位。同时，由于蒸镀罩2的周部设置有限位件21或避让槽、螺丝孔等其他结构，清洗喷头喷洒出的清洗剂力度不够，也会造成蒸镀罩2的周围区域清洗不彻底，进而降低蒸镀罩2的清洗质量。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提出一种蒸镀罩清洗系统，其能够对蒸镀罩的周围区域进行清洗，保证蒸镀罩的清洗质量。
[0004]为达此目的，本技术采用以下技术方案：
[0005]提供的一种蒸镀罩清洗系统，包括清洗设备，所述清洗设备包括支架，所述支架的一侧面间隔设置有多个第一喷头，所述第一喷头设置有圆形喷嘴，所述支架的周部间隔设置有多个第二喷头，所述第二喷头设置有椭圆形喷嘴，所述第一喷头和所述第二喷头均能够喷洒清洗剂对位于所述支架一侧的蒸镀罩进行清洗处理。
[0006]作为蒸镀罩清洗系统的一种优选方案，还包括检测设备，所述检测设备用于检测所述蒸镀罩的周部的污染物。
[0007]作为蒸镀罩清洗系统的一种优选方案，所述检测设备为CCD视觉检测设备。
[0008]作为蒸镀罩清洗系统的一种优选方案，所述支架为矩形框架结构，至少在所述支架的四角位置设置有所述第二喷头。
[0009]作为蒸镀罩清洗系统的一种优选方案，所述椭圆形喷嘴到所述蒸镀罩的距离小于所述圆形喷嘴到所述蒸镀罩的距离。
[0010]作为蒸镀罩清洗系统的一种优选方案，所述第二喷头活动设置于所述支架上，并使所述第二喷头能够与所述蒸镀罩相互靠近或者远离。
[0011]作为蒸镀罩清洗系统的一种优选方案，所述第二喷头转动设置于所述支架上，并使所述椭圆形喷嘴能够绕所述第二喷头与所述支架的连接点转动。
[0012]作为蒸镀罩清洗系统的一种优选方案，所述支架还包括设置于所述支架周部的横
梁，所述横梁上设置有驱动件，所述第二喷头与所述驱动件连接，所述驱动件能够驱动所述第二喷头沿所述横梁的长度方向运动。
[0013]作为蒸镀罩清洗系统的一种优选方案，所述支架上平行且间隔设置有多个输液管，每个所述输液管上设置有多个所述第一喷头，所述第一喷头与所述输液管连通，相邻两个所述输液管上的所述第一喷头错位分布。
[0014]作为蒸镀罩清洗系统的一种优选方案，所述清洗设备为两个，两个所述清洗设备间隔设置，清洗时，所述蒸镀罩位于两个所述清洗设备之间，两个所述清洗设备分别对所述蒸镀罩相对的两侧面进行清洗处理。
[0015]本技术相比于现有技术的有益效果：
[0016]本技术的蒸镀罩清洗系统，通过在支架上设置第一喷头和第二喷头，第一喷头具有圆形喷嘴，圆形喷嘴的喷洒区域较大，有利于减少第二喷头的设置数量且保证喷洒区域。第二喷头设置在支架的周部，且第二喷头采用椭圆形喷嘴，椭圆形喷嘴喷洒的力度较大，有利于对位于蒸镀罩周部的污染物进行清洗。同时，由于蒸镀罩的周部设置有限位件或者其他结构，造成位于狭缝、转角处的污染物难以清理，通过设置第二喷头，有利于对该位置区域的污染物进行清理，最终保证蒸镀罩的清洗质量。
附图说明
[0017]图1为本技术的蒸镀罩的示意图。
[0018]图2为实施例一的蒸镀罩清洗系统的示意图。
[0019]图3为实施例三的蒸镀罩清洗系统的示意图。
[0020]图4为实施例四的蒸镀罩清洗系统的示意图。
[0021]图5为实施例五的蒸镀罩清洗系统的示意图。
[0022]图6为实施例六的横梁的剖视图。
[0023]图中：
[0024]1、支架；11、第一喷头；12、第二喷头；13、输液管；14、横梁；141、导向槽；15、伸缩件；16、驱动件；2、蒸镀罩；21、限位件。
具体实施方式
[0025]参考下面结合附图详细描述的实施例，本技术的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本技术不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本技术的公开并且使本领域技术人员充分地了解本技术的范围，并且本技术仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。
[0026]以下，参照附图来详细描述本技术。
[0027]实施例一
[0028]如图2所示，提供一种蒸镀罩清洗系统，包括清洗设备，清洗设备包括支架1、第一喷头11和第二喷头12，支架1包括两个平行且间隔设置的横梁14，两个横梁14之间间隔设置有多个输液管13，输液管13与横梁14的长度方向相互垂直，每个输液管13上间隔设置有多个第一喷头11，第一喷头11与输液管13连通，以使输液管13内的清洗剂可通过第一喷头11
喷洒到位于支架1的下方的蒸镀罩2上。第二喷头12为多个，多个第二喷头12沿支架1的周部均匀间隔分布，第二喷头12与输液管13连通，以使输液管13内的清洗剂可通过第二喷头12喷洒到蒸镀罩2的周部。清洗时，蒸镀罩2放置于支架1的一侧，支架1上的第一喷头11和第二喷头12均朝向蒸镀罩2，以使第一喷头11和第二喷头12能够向蒸镀罩2朝向支架1的侧面喷洒清洗剂。本实施例中，输液管13的数量、第一喷头11的数量、第二喷头12的数量，以及相邻两个第一喷头11之间的间距和相邻两个第二喷头12之间的间距均根据蒸镀罩2的具体尺寸做适应性选择，以满足多个第一喷头11和多个第二喷头12喷洒的清洗剂能够覆盖蒸镀罩2朝向支架1的一侧的表面，实现对蒸镀罩2的清洗作业。第一喷头11朝向蒸镀罩2的一端设有圆形喷嘴，设置圆形喷嘴有利于使从第一喷头11喷出的清洗剂形成圆锥状的喷洒区域，以扩大第一喷头11在蒸镀罩2上对应的清洗面积，保证清洗时清洗剂对蒸镀罩2的覆盖面。第二喷头12朝向蒸镀罩2的一端设有椭圆形喷嘴，设置椭圆形喷嘴有利于使第二喷头12喷出的清洗剂形成扁平状水柱，且清洗剂由于在喷嘴处受到挤压而使喷洒力度较大，以便于对位于蒸镀罩2的周部污染物进行清洗，尤其是针对位于蒸镀罩2周部的限位件21与蒸镀罩2表面的相交处的污染物，以及位于蒸镀罩2周部的狭缝、凹坑、孔等结构的污染物。通过采用喷洒力度更强的第二喷头12对蒸镀罩2的周部难以清理的污染物进行清洗处理，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀罩清洗系统，其特征在于，包括清洗设备，所述清洗设备包括支架，所述支架的一侧面间隔设置有多个第一喷头，所述第一喷头设置有圆形喷嘴，所述支架的周部间隔设置有多个第二喷头，所述第二喷头设置有椭圆形喷嘴，所述第一喷头和所述第二喷头均能够喷洒清洗剂对位于所述支架一侧的蒸镀罩进行清洗处理。2.根据权利要求1所述的蒸镀罩清洗系统，其特征在于，还包括检测设备，所述检测设备用于检测所述蒸镀罩的周部的污染物。3.根据权利要求2所述的蒸镀罩清洗系统，其特征在于，所述检测设备为CCD视觉检测设备。4.根据权利要求1所述的蒸镀罩清洗系统，其特征在于，所述支架为矩形框架结构，至少在所述支架的四角位置设置有所述第二喷头。5.根据权利要求1所述的蒸镀罩清洗系统，其特征在于，所述椭圆形喷嘴到所述蒸镀罩的距离小于所述圆形喷嘴到所述蒸镀罩的距离。6.根据权利要求1所述的蒸镀罩清洗系统，其特征在于，所述第二喷头活动设置于所述支架上，...

【专利技术属性】
技术研发人员：金珉洙，
申请(专利权)人：乐金显示光电科技中国有限公司，
类型：新型
国别省市：