【技术实现步骤摘要】
一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备
本专利技术涉及磁控溅射镀膜工艺及磁控溅射镀膜设备制造
,尤其涉及一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备。
技术介绍
现有的单腔室溅射镀膜机,其溅射靶基本上都没有密封保护。当镀膜机开门之后,溅射靶便裸露在大气中,大气中的氧气、水蒸气及众多有机分子会吸附在溅射靶靶材的表面,将靶材氧化、污染。被氧化和污染的靶材会严重影响溅射膜层的品质,镀膜之前通常要先把它们溅射掉,此过程通常被称为洗靶。洗靶既浪费时间,又消耗靶材,甚至带来待镀工件被污染的风险。另外,溅射成膜质量也因靶材被氧化而受影响,具体表现在:溅射膜纯度低,反射率不够高;以及化合物反应不充分,化学计量比不够高,溅射膜的折射率不够高等。因此,如何使溅射靶表面不被氧化以提高溅射膜的产品质量,是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
为解决以上技术问题,本专利技术提供一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备。该封闭靶仓设备将溅射靶进行密封保存,使其始终处于真空环境中,避免在镀膜机破真空后溅射靶被大气污染而产生氧化,大大提 ...
【技术保护点】
1.一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备,其特征在于,包括舱体和溅射靶,所述溅射靶设于所述舱体内;所述舱体外还设有:门框、舱门和锁紧装置,所述舱体上设有开口,所述门框安装于所述开口上,所述舱门与所述门框相配合实现对所述舱体的关闭与打开;所述溅射靶朝向所述舱门的方向设置;所述锁紧装置作用于所述舱门,将所述舱门锁紧于所述门框上或将所述舱门从所述门框上解锁,所述舱门锁紧于所述门框上时,所述舱体形成一密闭容器。/n
【技术特征摘要】
1.一种实现免洗靶功能的封闭靶仓设备,其特征在于,包括舱体和溅射靶,所述溅射靶设于所述舱体内;所述舱体外还设有:门框、舱门和锁紧装置,所述舱体上设有开口,所述门框安装于所述开口上,所述舱门与所述门框相配合实现对所述舱体的关闭与打开;所述溅射靶朝向所述舱门的方向设置;所述锁紧装置作用于所述舱门,将所述舱门锁紧于所述门框上或将所述舱门从所述门框上解锁,所述舱门锁紧于所述门框上时,所述舱体形成一密闭容器。
2.根据权利要求1所述的实现免洗靶功能的封闭靶仓设备,其特征在于,还包括第一驱动装置,所述第一驱动装置设于所述舱体外,其动力输出端连接于所述锁紧装置。
3.根据权利要求2所述的实现免洗靶功能的封闭靶仓设备,其特征在于,所述锁紧装置包括:一伸缩杆和一拉手,所述伸缩杆一端连接于所述第一驱动装置的动力输出端,另一端连接于所述拉手,所述拉手随所述伸缩杆前后移动,并随所述伸缩杆转动以抵触于所述舱门上实现锁紧操作,或与所述舱门相脱离实现解锁操作。
4.根据权利要求3所述的实现免洗靶功能的封闭靶仓设备,其特征在于,所述锁紧装置和所述第一驱动装置的数量均为4,4个所述锁紧装置分别作用于所述舱门...
【专利技术属性】
技术研发人员:战永刚,战捷,冯红涛,周林,尹强,
申请(专利权)人:深圳市三束镀膜技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东;44
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