一种便于移动的扩散炉制造技术

本实用新型专利技术公开了一种便于移动的扩散炉，包括外箱体、炉体；炉体包括炉筒、气体均布件；外箱体的一侧内侧壁上设置有能够将硅片通过炉口送至炉体内腔中的送料机构；外箱体的底部设置有底座；底座的底部设置有四个滚轮；底座的四个直角处各设置有一个支撑螺柱；支撑螺柱的底端与支撑座通过轴承进行转动连接。本实用新型专利技术中设置有滚轮和支撑螺柱，当需要移动本申请扩散炉时，分别旋转四个支撑螺柱，使支撑螺柱向上移动，直至滚轮接触地面，通过滚轮移动本申请扩散炉；当需要固定本申请扩散炉时，反向旋转支撑螺柱，使支撑螺柱向下移动，直至支撑座接触支撑面起到支撑作用；因此，本申请扩散炉既便于移动，又能实现支撑固定作用。又能实现支撑固定作用。又能实现支撑固定作用。

【技术实现步骤摘要】
一种便于移动的扩散炉


[0001]本技术属于扩散炉
，具体涉及一种便于移动的扩散炉。

技术介绍

[0002]扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一，用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。
[0003]其中，扩散炉在使用过程中，需要将硅片传送至扩散炉炉体内，硅片在扩散炉炉内与反应气体进行相应反应，从而在硅片表面不断生成二氧化硅膜。
[0004]但是，现有的扩散炉都不易移动，需要调整位置时，大都采用人工推拉的方式，耗费的劳动强度较大。
[0005]因此，亟需设计一种便于移动的扩散炉。

技术实现思路

[0006]本技术的目的是为克服上述现有技术的不足，提供一种便于移动的扩散炉。
[0007]为实现上述目的，本技术采用如下技术方案：
[0008]一种便于移动的扩散炉，包括外箱体以及设置在外箱体内部的炉体；
[0009]所述炉体包括炉筒、气体均布件；所述炉筒呈两端封堵的卧式圆筒结构；所述炉筒的一端设置炉口；所述炉筒通过炉筒底座固定设置在外箱体内底面上；
[0010]所述气体均布件呈圆筒状结构，所述气体均布件的圆筒侧壁内设置有沿圆筒轴向方向延伸的环形均布腔；所述气体均布件的圆筒内侧壁上均匀设置有若干与环形均布腔相连通的气体均布孔；所述气体均布件的圆筒外侧壁上设置有与环形均布腔相连通的气体入口管；
[0011]所述气体均布件同轴设置在炉筒内部，所述炉筒的侧壁上、外箱体的侧壁上均设置有供气体入口管穿过的通孔；
[0012]所述炉筒的侧壁上设置有排气管，所述排气管延伸至外箱体的外部；
[0013]所述外箱体的一侧内侧壁上设置有能够将硅片通过炉口送至炉体内腔中的送料机构；
[0014]所述送料机构包括送料电机、送料螺杆、送料滑座、送料导轨；
[0015]所述送料电机固定设置在外箱体的一侧内侧壁上；
[0016]所述送料螺杆的一端与送料电机的转轴端部进行同轴固定连接；
[0017]所述送料滑座的中部螺纹孔与送料螺杆进行螺纹连接；所述送料滑座的侧面与送料导轨进行沿送料螺杆轴向方向的滑动连接；
[0018]所述送料滑座的上部设置有用来夹持硅片的夹头；所述夹头包括呈U型结构的调节座，所述调节座的开口面向炉体的炉口；所述调节座的两块水平板之间设置两块上下对称的水平夹持板；两块水平夹持板相向的侧面上沿长度方向对称设置有若干夹持柱；
[0019]所述调节座上设置有用来控制两块水平夹持板进行同步相向运动或同步背向运
动的调节件；
[0020]所述调节座中竖直板的外端面通过L型支架与送料滑座的顶端固定连接；所述L型支架上设置有能够封堵炉口的封堵板；
[0021]所述外箱体的底部设置有底座；所述底座的底部设置有四个滚轮；
[0022]所述底座的四个直角处各设置有一个支撑螺柱；
[0023]所述底座的四个直角处各设置有一个贯穿底座顶面、底面的螺纹孔；所述支撑螺柱与螺纹孔进行螺纹连接；
[0024]所述支撑螺柱的底端与支撑座通过轴承进行转动连接。
[0025]优选的，所述炉筒包括左右对称设置的第一炉筒和第二炉筒；
[0026]所述第一炉筒的右端设置第一连接法兰；所述第二炉筒的左端设置第二连接法兰；
[0027]所述气体均布件的外侧壁中部设置有环形安装板；所述环形安装板上沿圆周方向均匀设置若干连接孔；
[0028]所述环形安装板位于第一连接法兰、第二连接法兰之间；
[0029]所述第一连接法兰、环形安装板、第二连接法兰通过螺栓进行连接。
[0030]优选的，所述气体入口管上设置入口阀门；所述入口阀门前端的气体入口管上设置用来过滤气体的过滤件；
[0031]所述过滤件包括呈圆筒状结构的过滤筒，所述过滤筒的内侧面上沿轴向方向均匀内嵌有若干层钢丝过滤网；
[0032]所述过滤筒的两端与气体入口管进行法兰连接。
[0033]优选的，所述送料螺杆与送料电机的转轴通过联轴器进行同轴连接。
[0034]优选的，所述送料导轨上设置有沿送料螺杆轴向方向延伸的限位滑槽；
[0035]所述送料滑座的一侧面上设置有与限位滑槽进行滑动限位配合的限位滑块。
[0036]优选的，所述限位滑槽为T型滑槽，所述限位滑块为T型滑块。
[0037]优选的，位于上部的夹持柱的底端以及位于下部的夹持柱的顶端均设置有橡胶垫。
[0038]优选的，所述调节件为调节螺柱，所述调节螺柱的两端设置有旋向相反的外螺纹；
[0039]所述调节螺柱两端分别与相应的水平夹持板进行螺纹连接；
[0040]所述调节螺柱的顶端、底端分别与调节座中相应的水平板进行转动连接；
[0041]所述水平夹持板面向调节座的一端设置调节滑块，所述调节座的竖直板上设置有与调节滑块进行上下滑动配合的调节滑槽。
[0042]优选的，所述调节滑槽为T型滑槽，所述调节滑块为T型滑块。
[0043]优选的，所述调节螺柱的顶端、底端分别与调节座中相应的水平板通过轴承进行转动连接。
[0044]本技术的有益效果是：
[0045](1)本技术中设置有滚轮和支撑螺柱，当需要移动本申请扩散炉时，分别旋转四个支撑螺柱，使支撑螺柱向上移动，直至滚轮接触地面，通过滚轮移动本申请扩散炉；当需要固定本申请扩散炉时，反向旋转支撑螺柱，使支撑螺柱向下移动，直至支撑座接触支撑面起到支撑作用；因此，本申请扩散炉既便于移动，又能实现支撑固定作用。
[0046](2)本技术中设置有气体均布件，其内部环形均布腔的设置，第一、降低气体入口管内来气的流速，防止反应气体以较快的速度喷到硅片上，影响薄膜的产生；第二、作为反应气体的容纳以及缓冲空间；第三、环形的设计以及其内侧均布的气体均布孔的设计，使反应气体由圆周的各个方向扩散至炉体内腔中，极大地提升了反应气体的扩散均匀性，从而保证硅片上生成薄膜厚度的一致性。
[0047](3)本技术在限位滑槽、限位滑块的滑动限位配合以及送料滑座与送料螺杆的螺纹配合下，当启动送料电机时，会实现送料滑座沿送料螺杆轴向方向的直线运动，从而实现将夹持有硅片的夹头送入炉体以及退出炉体；当夹持有硅片的夹头通过炉口进入到炉体内时，L型支架上的封堵板会将炉口封闭。因此，本申请在将硅片送至炉体内的同时具有关闭炉体炉口的功能。
附图说明
[0048]构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。
[0049]图1是本技术便于移动的扩散炉的结构示意立体图；
[0050]图2是本技术中送料机构的结构示意立体图；
[0051]图3是本技术中送料机构的结构示意主视图；
[0052]图4是图3的A...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种便于移动的扩散炉，包括外箱体以及设置在外箱体内部的炉体；其特征是，所述炉体包括炉筒、气体均布件；所述炉筒呈两端封堵的卧式圆筒结构；所述炉筒的一端设置炉口；所述炉筒通过炉筒底座固定设置在外箱体内底面上；所述气体均布件呈圆筒状结构，所述气体均布件的圆筒侧壁内设置有沿圆筒轴向方向延伸的环形均布腔；所述气体均布件的圆筒内侧壁上均匀设置有若干与环形均布腔相连通的气体均布孔；所述气体均布件的圆筒外侧壁上设置有与环形均布腔相连通的气体入口管；所述气体均布件同轴设置在炉筒内部，所述炉筒的侧壁上、外箱体的侧壁上均设置有供气体入口管穿过的通孔；所述炉筒的侧壁上设置有排气管，所述排气管延伸至外箱体的外部；所述外箱体的一侧内侧壁上设置有能够将硅片通过炉口送至炉体内腔中的送料机构；所述送料机构包括送料电机、送料螺杆、送料滑座、送料导轨；所述送料电机固定设置在外箱体的一侧内侧壁上；所述送料螺杆的一端与送料电机的转轴端部进行同轴固定连接；所述送料滑座的中部螺纹孔与送料螺杆进行螺纹连接；所述送料滑座的侧面与送料导轨进行沿送料螺杆轴向方向的滑动连接；所述送料滑座的上部设置有用来夹持硅片的夹头；所述夹头包括呈U型结构的调节座，所述调节座的开口面向炉体的炉口；所述调节座的两块水平板之间设置两块上下对称的水平夹持板；两块水平夹持板相向的侧面上沿长度方向对称设置有若干夹持柱；所述调节座上设置有用来控制两块水平夹持板进行同步相向运动或同步背向运动的调节件；所述调节座中竖直板的外端面通过L型支架与送料滑座的顶端固定连接；所述L型支架上设置有能够封堵炉口的封堵板；所述外箱体的底部设置有底座；所述底座的底部设置有四个滚轮；所述底座的四个直角处各设置有一个支撑螺柱；所述底座的四个直角处各设置有一个贯穿底座顶面、底面的螺纹孔；所述支撑螺柱与螺纹孔进行螺纹连接；所述支撑螺柱的底端与支撑座通过轴承进行转动连接。2.如权利要求1所述的便于移动的扩散炉，其特征是，所述炉筒包括...

【专利技术属性】
技术研发人员：牛新海，李志坤，
申请(专利权)人：青岛微弘设备技术有限公司，
类型：新型
国别省市：