一种用于CVD涂层设备用的反应腔体制造技术

本实用新型专利技术涉及金属切削刀具和工模具涂层技术领域，且公开了该用于CVD涂层设备用的反应腔体，通过挂钩，方便车间实用现有的行车系统或者专用的起吊系统吊起和放置反应室腔体，更加容易移动反应室腔体，由于本装置带有散热片，降低了反应室腔体底部密封法兰环的温度，缓解了密封法兰环下部的橡胶密封圈的使用温度，正对挂钩方向，带有挂钩指示孔位，在安装反应腔体时可以准确定位反应腔体的挂钩位置，由于本装置带有带弹簧支脚的保温环，可以在加热装置给反应室腔体加热时，避免热量流失，减少能量损耗，降低用电成本，由于本实用新型专利技术装置带有清洁固定槽，在挂钩吊起反应腔体清洁时，通过夹块夹住清洁固定槽，使得反应腔体保持固定位置不动。持固定位置不动。持固定位置不动。

【技术实现步骤摘要】
一种用于CVD涂层设备用的反应腔体


[0001]本技术涉及金属切削刀具和工模具涂层
，具体为一种用于CVD涂层设备用的反应腔体。

技术介绍

[0002]CVD是在其它材料(基材)的金属加工用工件例如模具、切削工具等的表面上成膜的方法，尤其是薄膜形成方法，化学气相沉积的特点是反应气体所含化合物的化学反应的进行，所期望的化学反应主要产物沉积在基材表面上并在那里形成涂层或者说覆膜，可能的反应副产物以气体形态出现并且必须从气体混合物中被除去以保证层膜性能，这通过排气管路来实现。
[0003]但是现有常见的技术也是有一些缺陷的，不带挂钩，不带散热片，不带带弹簧支脚的保温环，不带清洁固定凹槽，不带挂钩方向指示标识等这些缺陷。

技术实现思路

[0004]技术方案
[0005]为实现上述移动反应室腔体，缓解了橡胶密封圈的使用温度与降低用电成本目的，本技术提供如下技术方案：一种用于CVD涂层设备用的反应腔体，包括腔体，所述腔体的顶部焊接安装有封头，所述封头的顶部固定安装有挂钩，所述腔体的底端外侧分别固定安装有带弹簧支脚的保温环与散热片，所述腔体的底部固定安装有密封法兰环。
[0006]优选的，所述腔体的形状为圆筒形。
[0007]优选的，所述密封法兰环内包含有清洁固定槽、挂钩指示孔位与密封法兰面。
[0008]优选的，所述带弹簧支脚的保温环位于散热片的顶部。
[0009]有益效果
[0010]与现有技术相比，本技术提供了一种用于CVD涂层设备用的反应腔体，具备以下有益效果：
[0011]该用于CVD涂层设备用的反应腔体，通过本装置带有挂钩，方便车间实用现有的行车系统或者专用的起吊系统吊起和放置反应室腔体，更加容易移动反应室腔体，同时，由于本装置带有散热片，降低了反应室腔体底部密封法兰环的温度，缓解了密封法兰环下部的橡胶密封圈的使用温度，正对挂钩方向，带有挂钩指示孔位，在安装反应腔体时可以准确定位反应腔体的挂钩位置，由于本装置带有带弹簧支脚的保温环，可以在加热装置给反应室腔体加热时，避免热量流失，减少能量损耗，降低用电成本，由于本技术装置带有清洁固定槽，在挂钩吊起反应腔体清洁时，通过夹块夹住清洁固定槽，使得反应腔体保持固定位置不动。
附图说明
[0012]图1为本技术整体结构示意图；
[0013]图2为本技术图1中A处放大图。
[0014]图中：1
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腔体、2
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封头、3
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挂钩、4
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带弹簧支脚的保温环、5
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散热片、6
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清洁固定槽、7
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密封法兰环、8
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挂钩指示孔位、9
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密封法兰面。
具体实施方式
[0015]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0016]请参阅图1
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2，一种用于CVD涂层设备用的反应腔体，包括腔体1，腔体1采用整体铸造结构，腔体1也可以用卷板焊接，腔体1的外部还可以间断增加圆环焊接在腔体1的外壁上，这样是为了方便减缓反应室外部变形，腔体1的顶部焊接安装有封头2，封头2的顶部固定安装有挂钩3，挂钩3可以采用不同结构设计，腔体1的底端外侧分别固定安装有带弹簧支脚的保温环4与散热片5，腔体1的底部固定安装有密封法兰环7。
[0017]其中，优选的，腔体1的形状为圆筒形。
[0018]其中，优选的，密封法兰环7内包含有清洁固定槽6、挂钩指示孔位8与密封法兰面9，清洁固定槽6也可以不需要使用，挂钩指示孔位8可以不需要使用，挂钩指示孔位8可以采用竖线方式标记挂钩3方向指向。
[0019]其中，优选的，带弹簧支脚的保温环4位于散热片5的顶部。
[0020]本技术的工作原理及使用流程：本装置带有挂钩3，方便车间实用现有的行车系统或者专用的起吊系统吊起和放置反应室腔体1，更加容易移动反应室腔体1，同时，由于本装置带有散热片5，降低了反应室腔体1底部密封法兰环7的温度，缓解了密封法兰环7下部的橡胶密封圈的使用温度，正对挂钩3方向，带有挂钩指示孔位8，在安装反应腔体1时可以准确定位反应腔体1的挂钩3位置，由于本装置带有带弹簧支脚的保温环4，可以在加热装置给反应室腔体1加热时，避免热量流失，减少能量损耗，降低用电成本，由于本技术装置带有清洁固定槽6，在挂钩3吊起反应腔体1清洁时，通过夹块夹住清洁固定槽6，使得反应腔体1保持固定位置不动。
[0021]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于CVD涂层设备用的反应腔体，包括腔体(1)，其特征在于：所述腔体(1)的顶部焊接安装有封头(2)，所述封头(2)的顶部固定安装有挂钩(3)，所述腔体(1)的底端外侧分别固定安装有带弹簧支脚的保温环(4)与散热片(5)，所述腔体(1)的底部固定安装有密封法兰环(7)。2.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备用的反应腔体...

【专利技术属性】
技术研发人员：王彤，
申请(专利权)人：常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：