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【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于cvd涂层设备,尤其涉及一种cvd涂层设备内置式加热组件及其安装方法。
技术介绍
1、化学气相沉积(cvd)涂层设备是一种用于在基材表面沉积薄膜的工艺设备,这些设备通过将气体前体输送到反应室中,在特定的温度、压力和气氛条件下使其发生化学反应来生成所需的薄膜。
2、反应室是cvd涂层设备的核心部件,用于放置基材并进行涂层反应,通常采用高温石英玻璃或金属材料制成,以承受高温和化学腐蚀,加热系统用于提供所需的温度条件,以促进反应的进行。
3、目前采用较为普遍的加热系统包括内部加热系统,加热元件直接安装在反应室的内部,通常位于基材周围或基材下方,内部加热系统可以提供更加均匀的加热分布,因为加热元件在基材周围,可以较为快速地将热量传递给基材,避免了通过反应室壁传导的不均匀性。现有的方式中,为了便于加热元件的安装,将加热系统设计为模块化的结构,使得加热系统更易于安装、调试和维护,模块化设计也提高了系统的灵活性和可扩展性,可以根据具体需求进行组合和调整,以满足不同工艺条件和加工要求。
4、然而,由于加热系统需要进行绝缘保护,上述模块化的结构形式对绝缘保护提出了更高的要求,如何针对模块化的加热元件进行合理的绝缘保护,成为了本领域需要解决的一项技术问题之一。对每个加热元件进行独立的绝缘保护,往往会在加热元件损坏而更换时,绝缘保护结构也同样被更换而做废品处理,在一定程度上造成了成本的浪费;而对各个加热元件进行整体的绝缘保护时,如何保持每个独立加热元件的便捷安装又成为了绝缘保护结构的设计难点。
...【技术保护点】
1.一种CVD涂层设备内置式加热组件,其特征在于,包括均为环状结构的骨架结构和两个端板,以及若干加热元件;
2.根据权利要求1所述的CVD涂层设备内置式加热组件,其特征在于,还包括环状结构的内封板,与所述骨架结构连接,且对各所述敞口端进行封堵;
3.根据权利要求1所述的CVD涂层设备内置式加热组件,其特征在于,所述陶瓷纤维固化结构内表层包括沿所述骨架结构的轴线均匀分布的若干模块部分,各所述模块部分的边缘对接形成所述陶瓷纤维固化结构内表层。
4.根据权利要求3所述的CVD涂层设备内置式加热组件,其特征在于,所述陶瓷纤维固化结构内表层边缘对接后的各模块部分,在所述硅胶主环体从液态到固态成型的过程中,通过与所述硅胶主环体的连接而获得完整的陶瓷纤维固化结构内表层。
5.根据权利要求3或4所述的CVD涂层设备内置式加热组件,其特征在于,所述金属带在所述硅胶主环体从液态到固态成型的过程中,通过置于成型空间中,从而在硅胶固化后固定于所述侧壁中。
6.根据权利要求4所述的CVD涂层设备内置式加热组件,其特征在于,所述模块部分包括:
>7.根据权利要求6所述的CVD涂层设备内置式加热组件,其特征在于,所述连接部分与所述限位凸沿之间形成供硅胶流入的间隙。
8.根据权利要求7所述的CVD涂层设备内置式加热组件,其特征在于,所述金属带为T型,且局部插入所述间隙内。
9.一种如权利要求1所述的CVD涂层设备内置式加热组件的安装方法,其特征在于,包括:
10.根据权利要求9所述的CVD涂层设备内置式加热组件的安装方法,其特征在于,所述端板和硅胶主环体通过连接件或者粘接的方式固定连接。
...【技术特征摘要】
1.一种cvd涂层设备内置式加热组件,其特征在于,包括均为环状结构的骨架结构和两个端板,以及若干加热元件;
2.根据权利要求1所述的cvd涂层设备内置式加热组件,其特征在于,还包括环状结构的内封板,与所述骨架结构连接,且对各所述敞口端进行封堵;
3.根据权利要求1所述的cvd涂层设备内置式加热组件,其特征在于,所述陶瓷纤维固化结构内表层包括沿所述骨架结构的轴线均匀分布的若干模块部分,各所述模块部分的边缘对接形成所述陶瓷纤维固化结构内表层。
4.根据权利要求3所述的cvd涂层设备内置式加热组件,其特征在于,所述陶瓷纤维固化结构内表层边缘对接后的各模块部分,在所述硅胶主环体从液态到固态成型的过程中,通过与所述硅胶主环体的连接而获得完整的陶瓷纤维固化结构内表层。
5.根据权利要求3或4所述的...
【专利技术属性】
技术研发人员:冯磊,
申请(专利权)人:常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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