一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体，包括腔体，所述腔体上设置有进气口，所述腔体上设置有出气口，所述腔体的底部内壁固定连接有固定杆，所述固定杆的外侧固定套接有导流片，所述导流片与腔体的内壁接触。本实用新型专利技术通过将待加热气体通过圆筒型预热腔体后，达到了充分预热的效果，通过导流片的作用，可降低气体的流速，解决了当气体流量较大时加热效果不理想的问题，使得气体更加容易达到所需的设定温度，从而使得气体后续能够充分反应。充分反应。充分反应。

【技术实现步骤摘要】
一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体


[0001]本技术涉及CVD涂层
，具体为一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体。

技术介绍

[0002]CVD是在其它材料(基材)的金属加工用工件例如模具、切削工具、耐磨损、耐腐蚀零件等的表面上成膜的方法，尤其是薄膜形成方法，化学气相沉积的特点是反应气体所含化合物的化学反应的进行，所期望的化学反应主要产物沉积在基材表面上并在那里形成涂层或者说覆膜，可能的反应副产物以气体形态出现并且必须从气体混合物中被除去以保证层膜性能，这通过排气管路来实现，通往反应腔中即将参加反应的各种气体，在进入反应腔之前需要达到一定的温度，目前通常采用在气体输送的管道外缠绕伴热带来加热输送的气体，从而达到预加热气体的效果，当气体流量较大时，加热效果往往不理想，无法在规定的时间内达到所需的温度，从而影响后续的化学反应的充分性。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体，解决了当气体流量较大时加热效果不理想的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体，包括腔体(2)，其特征在于：所述腔体(2)上设置有进气口(1)，所述腔体(2)上设置有出气口(5)，所述腔体(2)的底部内壁固定连接有固定杆(3)，所述固定杆(3)的外侧固定套接有导流片(4)，所述导流片(4)与腔体(2)的内壁接触。2.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体，其特征在于：所述腔体(2)为圆筒形。3.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层的圆筒型气体预热腔体，其特征在于：所述导流片(4)的...

【专利技术属性】
技术研发人员：王彤，
申请(专利权)人：常州艾恩希纳米镀膜科技有限公司，
类型：新型
国别省市：