原盘、原盘的制造方法和转印物的制造方法技术

本发明专利技术的课题是，以更高的效率制造转印不良被抑制的转印物。解决方法是一种原盘，具备：基材，设于前述基材的一个面且形成有微细凹凸结构的图形层，以及以夹在前述基材与前述图形层之间的方式设置且光吸收系数比前述图形层大的吸收层。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】原盘、原盘的制造方法和转印物的制造方法
本专利技术涉及原盘、原盘的制造方法和转印物的制造方法。
技术介绍
近年来，作为微细加工技术之一的压印技术的开发正在不断推进。压印技术是通过在使表面形成有微细凹凸结构的原盘抵接在被转印材上之后使被转印材固化从而将原盘表面的凹凸结构转印至被转印材的技术。作为这样的压印技术，例如，已知通过使卷状原盘连续地抵接于被转印材而将原盘表面的凹凸结构连续地转印至被转印材的卷对卷压印技术。但在这样的使用卷状原盘的连续转印中，有时，在转印前被转印材会非有意地开始固化，从而凹凸结构的转印变得不良。具体地，被转印材为光固化性树脂时，被转印材的非有意的固化是由于通过原盘的基材的光对被转印材的非有意的照射而产生的。例如，由于通过原盘的基材的波导光或透过光照射在非有意区域的被转印材上，非有意区域的被转印材有可能会固化。例如，下述专利文献1中公开了下述技术：在压印用的卷状模具中，在基材中形成的微细结构层上设置由金属构成的UV吸收层，抑制在基材中通过的波导光或透过光，从而抑制转印不良的产生。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开2013-45792号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题另一方面，作为以更低的价格和更高的效率制造转印物的方法，正在研究对转印后的原盘进行清洗而将附着在原盘表面的被转印材除去，从而能够对原盘进行重复使用的方案。但专利文献1中，并未对作为原盘的卷状模具的重复使用进行充分的研究。因此，需要适合通过清洗而重复使用的原盘。因此，本专利技术是鉴于上述情况做出的，本专利技术的目的在于，提供能够以更高的效率制造转印不良被抑制的转印物的、新的而且经改良的原盘，该原盘的制造方法和使用该原盘的转印物的制造方法。用于解决课题的方法为了解决上述课题，提供一种原盘，具备：基材，设于前述基材的一个面且形成有微细凹凸结构的图形层，以及以夹在前述基材与前述图形层之间的方式设置且光吸收系数比前述图形层大的吸收层。前述吸收层可以由非金属材料形成。前述图形层可以由透明材料形成。可以是前述图形层由SiO2形成、前述吸收层由Si形成。前述基材可以由陶瓷材料或玻璃材料形成。前述微细凹凸结构可以是蛾眼结构。前述基材的前述一个面的表面粗糙度可以是前述微细凹凸结构的凹凸的高低差的1/100以下。前述图形层的膜厚可以比前述微细凹凸结构的凹凸的高低差大。前述吸收层由Si形成时，前述吸收层的膜厚可以为5nm以上。前述基材的形状可以是圆筒型形状。可以是前述基材的前述一个面为前述圆筒型形状的外周面、前述图形层沿前述外周面设置。此外，为了解决上述课题，提供一种原盘的制造方法，包括：在基材的一个面形成吸收层的步骤，以及在前述吸收层上形成光吸收系数比前述吸收层小且形成有微细凹凸结构的图形层的步骤。此外，为了解决上述课题，提供一种转印物的制造方法，包括：在上述原盘的前述图形层上涂布光固化性树脂而形成树脂层的步骤，使前述树脂层固化后将前述树脂层剥离、从而将前述微细凹凸结构转印至前述树脂层而形成转印物的步骤，以及对剥离前述树脂层后的前述原盘进行清洗、从而将残留于前述原盘的前述光固化性树脂除去的步骤；重复使用清洗后的前述原盘，制造多个前述转印物。根据上述构成，能够提供一种原盘，其抑制在原盘内部透过或进行波导的传播光的产生，而且即使重复对原盘进行清洗，抑制产生传播光的效果也不会降低。专利技术效果如上所述，根据本专利技术，能够以更高的效率制造转印不良被抑制的转印物。附图说明[图1]为示意性显示本专利技术的一个实施方式涉及的原盘的构成的截面图。[图2A]为示意性显示改变了吸收层的配置的比较例1涉及的原盘的截面图。[图2B]为示意性显示改变了吸收层的配置的比较例2涉及的原盘的截面图。[图3A]为对该实施方式涉及的原盘和转印物的制造工序进行说明的流程图。[图3B]为对该实施方式涉及的原盘和转印物的制造工序进行说明的流程图。[图4]为说明对转印物进行的光反射率的测定方法的示意图。[图5]为显示对转印物进行的光反射率的测定结果的曲线图。[图6]为说明对原盘进行的光透过率的测定方法的示意图。[图7]为显示对氧等离子体处理前后的原盘进行的光透过率的测定结果的曲线图。[图8]为显示针对每种吸收层的材质算出损失透过率的模拟结果的曲线图。具体实施方式以下，参照附图详细地对本专利技术的优选实施方式进行说明。需说明的是，本说明书和附图中，对于具有实质上相同的功能构成的构成要素标记同一符号，从而省略了重复说明。需说明的是，以下说明中参照的各附图中，为了便于说明，有时会将一部分构成要素的大小夸大表现。因此，各附图中显示的构成要素彼此的相对大小不一定准确表现实际的构成要素彼此的大小关系。<1.原盘的构成>首先，参照图1，对本专利技术的一个实施方式涉及的原盘的构成进行说明。图1为示意性显示本实施方式涉及的原盘的构成的截面图。本实施方式涉及的原盘1例如是卷对卷(roll-to-roll)方式的压印中使用的原盘。原盘1可以通过使设于外周面的图形层12一边旋转一边抵接在被转印材而将图形层12中形成的微细凹凸结构30转印至被转印材。使用原盘1将微细凹凸结构30转印至被转印材后，对原盘1进行清洗，从而能够再次使用原盘1向被转印材转印微细凹凸结构30。这是因为，转印后的原盘1的图形层12中，附着有从被转印材剥离的被转印物的一部分或用于提高原盘1与被转印材的剥离性的剥离剂等。通过清洗将附着物除去，从而原盘1能够再次高精度地将微细凹凸结构30转印至被转印材。原盘1的清洗例如可以通过将原盘1在使用强酸、强碱或氧化剂等的清洗液中浸泡来进行。例如，原盘1的清洗可以通过将原盘1在混合了硫酸和过氧化氢水的食人鱼溶液中浸泡来进行。更具体地，如图1所示，原盘1具备基材11、吸收层20、以及形成有微细凹凸结构30的图形层12。基材11例如是内部具有空洞的中空圆筒型形状的构件。但基材11也可以是内部没有空洞的实心圆柱型形状的构件。通过基材11为这样的形状，原盘1能够被用于卷对卷(roll-to-roll)方式的压印。具体地，基材11的形状可以是高度(轴向长度)为100mm以上、底面或上表面的圆的直径(与轴向正交的径向外径)为50mm以上300mm以下、径向厚度(壁厚)为2mm以上50mm以下的圆筒型形状。但基材11的形状或大小不受上述例示的限定。例如，基材11的形状也可以是平板形状。在基材11的一个面(基材11为圆筒型形状时为基材11的外周面)，如后述那样设有形成有微细凹凸结构30的图形层12。因此，为了使微细凹凸结构30的凹凸结构的形成性更好，基材11的一个面(即外周面)的表面粗糙度(算术平均粗糙度Ra)优选设为微细凹凸结构30的凹凸的高低差的1/100以下，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种原盘，具备：/n基材，/n设于所述基材的一个面且形成有微细凹凸结构的图形层，以及/n以夹在所述基材与所述图形层之间的方式设置且光吸收系数比所述图形层大的吸收层。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20181022 JP 2018-198346;20191018 JP 2019-1911591.一种原盘，具备：
基材，
设于所述基材的一个面且形成有微细凹凸结构的图形层，以及
以夹在所述基材与所述图形层之间的方式设置且光吸收系数比所述图形层大的吸收层。


2.根据权利要求1所述的原盘，所述吸收层由非金属材料形成。


3.根据权利要求1或2所述的原盘，所述图形层由透明材料形成。


4.根据权利要求1～3中任一项所述的原盘，所述图形层由SiO2形成，所述吸收层由Si形成。


5.根据权利要求1～4中任一项所述的原盘，所述基材由陶瓷材料或玻璃材料形成。


6.根据权利要求1～5中任一项所述的原盘，所述微细凹凸结构为蛾眼结构。


7.根据权利要求1～6中任一项所述的原盘，所述基材的所述一个面的表面粗糙度为所述微细凹凸结构的凹凸的高低差的1/100以下。


8.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员：梶谷俊一，
申请(专利权)人：迪睿合株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP