【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及提高了耐久性的光学层叠体以及使用该光学层叠体的防反射膜。本申请基于2021年10月1日于日本申请的特愿2021-162974而主张优先权，将其内容引用于此。
技术介绍
1、以往，将光的波长左右的厚度的透明材料重叠多个而成的光学多层膜(光学层叠体)被应用于各种领域。例如，通过错开反射的相位来减少光的表面反射的防反射膜、仅使特定的波长透射或反射的波长选择膜等被用于照相机的镜头、窗玻璃等。另外，电视机等显示器有时因外部光的反射而可视性降低，通过设置防反射膜，能够提高可视性。
2、另一方面，随着近年来的电子技术的发展所带来的小型、轻量化，在可移动性的设备中搭载显示器的情况增多，在笔记本型个人计算机、智能手机等中搭载有高精细的显示器。此外，近年来，随着汽车的it化的发展，在速度表等仪表以及导航系统等中搭载多个显示各种信息的显示器。
3、对于这样的光学多层膜的用途，从可移动性的观点出发，期望轻量化，要求不在以往那样的重量比较大的玻璃上而在树脂等轻量的膜上形成防反射膜。另外，即使在显示器由玻璃构成的情况下，为了防止破损时的飞散，也优选将膜预先贴合在表面，兼具防止这样的飞散的目的而粘贴防反射膜的情况较多。
4、作为光学多层膜的形成方法，通常已知有在大气中涂布折射率不同的材料的湿式成膜法和在真空中使成膜材料通过溅射等堆积而成膜的干式成膜法。湿式成膜法简便，但能够涂布的材料有限，难以形成具有高功能的光学多层膜所需的光学特性的光学功能层，另外，难以形成层叠有多个光学功能层的层叠体。
5、与
6、另外，特别是若使用溅射法，则能够长时间地以均匀的膜厚分布进行成膜，因此将溅射成膜装置与膜输送装置组合而成的辊对辊溅射装置能够一次性进行大面积的成膜，具有工业上的优点。
7、然而，在光学多层膜中，特别是随着使用防反射膜的应用范围扩大，防反射膜的损伤就成为问题。防反射膜由数nm～数百nm的薄膜构成，即使仅其一部分剥离、脱落，光学干涉条件也被破坏，与非脱离部的光学特性的差异变得显著，因此存在能够容易地目视确认这样的缺陷部位的课题。例如，在笔记本型个人计算机、智能手机中，在触控面板上搭载笔触控模块，通过前端尖锐的手写笔等反复滑动反射防止膜等，负荷局部地集中于防反射膜，这样的使用环境增多，要求提高防反射膜自身的硬度(机械强度)。
8、例如，在专利文献1中公开了为了提高透明导电膜对笔输入的耐久性，在成膜时提高膜基板的温度，或者通过除去成膜气氛中的水分、有机物等杂质，使薄膜的表面硬度为0.4～0.8gpa，由此能够维持透明导电膜的耐久性。
9、另外，在专利文献2中公开了通过使用ecr(电子旋风共振)等离子体，使透明塑料材料的吸水率为0.02％以下，使膜的维氏硬度为15以上，从而能够提高膜的耐擦伤性。
10、另外，在专利文献3中公开了通过使用五氧化二钽通过离子辅助蒸镀进行高折射率层成膜，使压缩应力为150～250mpa，从而能够提高耐热性和硬度。
11、进而，在专利文献4中公开了多层膜中包含金刚石层，该金刚石层具有金刚石晶体或者由金刚石晶体构成，并且作为覆盖其上部的覆盖层，使用氧化铝、结晶性氧化铝或者al2o3与sio2的混合物，由此，能够形成高硬度的膜而赋予耐刮取性。
12、现有技术文献
13、专利文献
14、专利文献1：日本特开2002-163932号公报
15、专利文献2：日本特开2005-066937号公报
16、专利文献3：日本特开2009-217018号公报
17、专利文献4：日本特许第6713485号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、但是，专利文献1是仅能够适用于氧化铟和氧化锡的复合氧化物等限定了成分的一部分导电性氧化物的技术，不适合用于不需要导电性的防反射膜。
3、另外，专利文献2难以稳定地长时间形成ecr等离子体，特别是在对于连续地在膜上成膜的辊对辊溅射而稳定地生产的生产率方面存在困难。
4、另外，在专利文献3中，由于使用离子辅助蒸镀，因此难以应用于通过溅射形成防反射膜。
5、进而，在专利文献4中，由于灯丝为800～2500℃的高热，因此对基板要求耐热性，无法使用耐热性低的树脂基板。另外，覆盖层使用磁控溅射成膜，成膜速度的差异大且工艺真空度大不相同，因此在同时且连续成膜处理中发生设备的大型化、复杂化，难以大量生产。
6、另一方面，在由电介质多层膜构成防反射膜时，最表层大多使用折射率为1.5左右的低折射率材料，特别是大多使用氧化硅和以氧化硅为主要成分的复合氧化物，但在基于笔输入等的反复的滑动等中，有可能产生剥离。
7、另外，氧化锆等所谓的硬质材料与氧化硅相比硬度高，但折射率高达2.0左右，难以应用于防反射膜的表面。此外，作为折射率比较低(1.7左右)且硬质的材料可以举出氧化铝，但基于溅射的成膜速度非常低，成膜工艺也复杂，光学特性也比氧化硅低。
8、由此，期望即使在笔滑动等严酷的条件下也不产生剥离、能够实现充分的防反射特性且容易制造的光学层叠体。
9、本专利技术是考虑这样的情况而完成的，其目的在于提供对于物理应力的耐久性高、折射率低且容易制造的光学层叠体以及使用其的防反射膜。
10、用于解决课题的方法
11、为了解决上述课题，本专利技术人发现，通过使用氧化硅等低折射率材料将最表层的光学功能膜形成为特定范围的厚度，使用高硬度的材料将其下层侧的光学功能膜形成为特定范围的厚度，能够得到对物理应力的耐久性高、反射率低且容易制造的光学层叠体。
12、即，为了解决上述课题，本专利技术提出了以下的方案。
13、本专利技术的光学层叠体的特征在于，是使至少2层以上的可见光透射性的光学功能层层叠而成的光学层叠体，上述光学功能层包括第一功能层和第二功能层；该第一功能层至少包含氧化铈，波长550nm时的折射率为1.8以上且2.6以下的范围，膜厚为60nm以上且130nm以下的范围；该第二功能层与上述第一功能层的上表面相接地形成，波长550nm时的折射率为1.4以上且1.6以下的范围，膜厚为80nm以上且100nm以下的范围。
14、根据本专利技术，通过以与成为光学层叠体的最表层的第二功能层的下表面相接的方式在60nm～130nm的厚度范围内形成由包含氧化铈的材料形成的第一功能层，能够得到作为光学层叠体例如防反射膜的充分的光学特性，并且即使施加使笔等在表面滑动等强的物理应力，也能够通过第一功能层的耐久性提高功能，得到防止损伤等充分的耐久性。
15、另外，在本专利技术中，上述第二功能层也可以本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种光学层叠体，其特征在于，是使至少2层以上的可见光透射性的光学功能层层叠而成的光学层叠体，
2.根据权利要求1所述的光学层叠体，其特征在于，所述第二功能层构成所述光学层叠体的最上层。
3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其特征在于，所述第一功能层包含以元素比率计为0.1％以上且50％以下的范围的除氧化铈以外的至少1种以上的金属氧化物。
4.根据权利要求2所述的光学层叠体，其特征在于，所述第二功能层至少包含硅。
5.一种防反射膜，其特征在于，使用权利要求1或2所述的光学层叠体。
6.根据权利要求5所述的防反射膜，其特征在于，所述光学层叠体支承于由可见光透射性的高分子膜构成的透明基材。
7.根据权利要求6所述的防反射膜，其特征在于，在所述光学层叠体与所述透明基材之间形成有密合层。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种光学层叠体，其特征在于，是使至少2层以上的可见光透射性的光学功能层层叠而成的光学层叠体，
2.根据权利要求1所述的光学层叠体，其特征在于，所述第二功能层构成所述光学层叠体的最上层。
3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其特征在于，所述第一功能层包含以元素比率计为0.1％以上且50％以下的范围的除氧化铈以外的至少1种以上的金属氧化物。
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