光刻机制造技术

本实用新型专利技术涉及光刻机。所述光刻机可以包括用于电接触式对准的配置，以用于相对于基板使探针、笔、尖端等的阵列调平对准，该光刻机包括机构，该机构用于相对于彼此定位探针阵列或基板，以使探针阵列和基板彼此平行地自动对准，从而用于随后的光刻制造，其中，通过将阵列的区域和基板区域配置成部分地导电并连接至相对的电极而形成多个独立的电路，反之亦然。反之亦然。反之亦然。

【技术实现步骤摘要】
光刻机


[0001]本技术涉及光刻机，并且更具体地涉及关于纳米/微米制造、纳米图案化或纳米印刷的光刻机，以及无悬臂式扫描探针光刻机中的电接触式自动对准笔阵列。

技术介绍

[0002]由西北大学的Chad A.Mirkin博士领导的Mirkin团队在扫描探针光刻技术方面的最新突破性进展已经解决了传统的纳米图案化策略的许多技术局限性，其使用创新的方法来控制纳米级和微米级(即长度为1nm
‑
10μm)的分子和材料结构。
[0003]在技术上与传统使用的基于悬臂的范例明显不同，Mirkin博士专利技术了无悬臂式扫描探针光刻技术(Cantilever
‑
Free Scanning Probe Lithography，CF
‑
SPL)，该技术依赖于一种新的结构，在该结构中，悬臂用便宜的弹性体薄膜替代，该弹性体薄膜包含在刚性基板上的多达数百万个金字塔形尖端，并且在保持高分辨率的同时提供大规模的缩放。
[0004]正如Mirkin博士所认识到的，大量平行的尖端阵列可以用于直接的分子印刷(称为本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻机，其特征在于，所述光刻机包括：探针阵列；以及机构，所述机构用于相对于彼此定位所述探针阵列或基板，以将所述探针阵列和所述基板彼此平行地自动对准，从而用于随后的光刻制造，其中，多个部件待通过光刻而被制造在所述基板上。2.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述机构包括与所述探针阵列或所述基板联接的机动化的倾翻/倾斜台，所述倾翻/倾斜台使得所述探针阵列或所述基板能够在两个正交平面中倾斜。3.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述自动对准向所述探针阵列或所述基板施加电压偏置来感应可测量的电流，以指示所述基板的一区域与所述探针阵列的对应区域之间的电接触。4.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述自动对准形成能够承载电流的电路。5.根据权利要求1所述的光刻机，其特征在于，所述自动对准包括：在测量所述探针阵列和所述基板的对应导电区域之间的电流的同时，进行...

【专利技术属性】
技术研发人员：安德烈，
申请(专利权)人：泰拉印刷有限责任公司，
类型：新型
国别省市：