一种基于RGBW的Micro-LED制备系统技术方案

本发明专利技术提出一种基于RGBW的Micro

【技术实现步骤摘要】
一种基于RGBW的Micro
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LED制备系统


[0001]本专利技术涉及显示器
，尤其是一种基于RGBW的Micro
‑
LED制备系统。

技术介绍

[0002]Micro
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LED(微型发光二极管)是新一代显示技术，比现有的OLED(有机发光二极管)技术亮度更高、发光效率更好、但功耗更低。Micro
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LED技术，将LED结构设计进行薄膜化、微小化、阵列化，其尺寸仅在1～10μm等级左右。Micro
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LED最大的优势来自于微米等级的间距，每一点像素(pixel)都能定址控制及单点驱动发光、寿命长、应用范畴广。
[0003]RGBW显示屏相对传统RGB显示屏而言，除红(R)、绿(G)、蓝(B)子像素外还包含白色(W)子像素，白色子像素的加入可以极大提高LCD的穿透率、OLED显示器单位面积的发光效率等，由此可实现低功耗，节能环保的目的。
[0004]量子点QDs是一种由II
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VI或III
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V族元素组成的半导体纳米颗粒,其尺寸一般为几纳米至数十纳米之间。量子点材料由于量子限域效应的存在,原本连续的能带变成分立的能级结构,受外界激发后可发射可见光。量子点材料由于其发光峰具有较小的半高宽且发光颜色可通过量子点材料的尺寸、结构或成分进行调节,应用在Micro
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LED显示领域将会提升颜色的饱和度和色域。量子点材料由于其特性，作为发光晶粒常应用于Micro<br/>‑
LED中。
[0005]在量子点封装中，封装红、绿、蓝、白四种颜色对应的量子点时一般采用相同大小的储液槽（凹槽），但是不同颜色对应的量子点胶体封装的量不同，导致对储液槽进行封胶时，封胶厚度也不同，进一步导致不同颜色子像素的发光亮度不均衡，显示效果变差。

技术实现思路

[0006]本专利技术提出一种基于RGBW的Micro
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LED制备系统，可解决由于对量子点的封胶厚度不同导致子像素发光亮度不均衡的问题。
[0007]本专利技术采用以下技术方案。
[0008]一种基于RGBW的Micro
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LED制备系统，用于在阵列基板上制备Micro
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LED显示像素中四个子像素结构内的储液槽，所述制备系统包括显影机、刻蚀机、用于光刻胶曝光的光源模组，还包括在光源模组发光方向上顺序设置的掩膜版和覆有光刻胶的阵列基板；所述光源模组包括光线方向不同的四组光源，每组光源对应显示像素内的一个子像素结构，掩膜版包括多个透光区，在光源模组照射下，每个透光区的中心在阵列基板上的投影均位于与该透光区相对应的子像素结构的中心；当对光刻胶曝光时，四组光源同时透过掩膜版透光区对阵列基板子像素结构处的光刻胶进行曝光，各组光源的曝光光照强度、曝光光照时长根据与该光源对应的子像素结构需填充的量子点胶体体积决定；所述显影机、刻蚀机对曝光后的阵列基板进行后续加工以使储液槽成型。
[0009]所述四个子像素结构为填充有不同体积量子点胶体的红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素以及白色子像素；每个子像素结构包括一个储液槽，每个储液槽下方设置UV
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LED，每个所述储液槽中填充有量子点胶体；
每个所述子像素的长和宽分别为第一长度和第一宽度，位于同一个所述显示像素中的所述子像素之间的间隙为第一间隙；四组所述光源的入射方向与所述阵列基板的夹角均相等为第一角度；当对光刻机曝光时，由于红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素、白色子像素处的光刻胶承受的曝光光照强度、曝光光照时长不同，因此红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素、白色子像素内最终成型的储液槽深度不同。
[0010]所述第一角度、所述第一距离、所述第一长度、所述第一宽度以及所述第一间隙具有的关系。
[0011]当通过控制所述掩膜版，使所述掩膜版与所述阵列基板之间的所述第一距离d保持不变时，可通过控制所述光源模组，调整四组所述光源光线的入射方向，改变所述第一角度使四组所述光源分别对显示像素内不同的子像素进行曝光。
[0012]当通过控制所述光源模组，保持四组所述光源光线的入射方向不变，也就是使所述第一角度保持不变时，可通过控制所述掩膜版，调整所述掩膜版与所述阵列基板之间的所述第一距离d使四组所述光源分别对显示像素内不同的子像素进行曝光。
[0013]在光源光线朝向上，所述显示像素包括的四个所述子像素结构为等大的矩形，且所述子像素和所述掩膜版上对应的透光区大小相同。
[0014]所述光刻胶为正性光刻胶；所述显影机可向曝光后的阵列基板喷洒显影液以对曝光后的光刻胶进行溶解处理；所述刻蚀机可对经显影机处理后的阵列基板进行刻蚀处理，以使显示像素中四个子像素结构内形成深度不同的储液槽。
[0015]所述制备系统还包括用于装载阵列基板的装载平台、用于固定掩膜板的掩膜版模组、用于烘干阵列基板的烘干机、用于在储液槽底部安装UV
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LED的UV
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LED安装模组、用于往储液槽中加入与储液槽深度对应体积的量子点胶体的量子点胶体封装模组、用于对储液槽槽口封胶处理的封胶模组。
[0016]当对储液槽槽口封胶处理时，各储液槽槽口处的封胶层厚度相同。
[0017]所述显示像素在阵列基板处纵向横向阵列排布；在各显示像素内，不同颜色子像素结构的分布位置相同。
[0018]本专利技术的有益效果在于：1、本专利技术在维持掩膜版与阵列基板相对位置不变的情况下，光源模组提供的四组光源在同一时间透过掩膜版的透光区对不同颜色的子像素进行曝光。本专利技术维持掩膜版和阵列基板相对位置不变就可以完成全部子像素的曝光，不用进行对位，避免了对位误差导致的曝光不完全，而且本专利技术只进行一次曝光，减少了曝光次数，提高生产效率。
[0019]2、本专利技术根据的关系式，可以调整第一距离或者第一角度使得四组光源对不同组别的子像素进行曝光。从而保证了对子像素曝光的精准度。
[0020]3、本专利技术中每个显示像素包括红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素以及白色子像素，分别与入射方向不同的四组光源对应，且每组光源的光照强度和光照时间是根据与该组光源对应颜色的子像素需填充的量子点胶体体积决定。光刻胶由于光照强度和光照时间的不同，在显影液中的溶解度也不同，这样的特点可以保证不同组光源对应的储液槽在
刻蚀时形成的深度也不同。
[0021]综上，本专利技术系统通过同一时间提供四组光照强度和光照时间不同的光源对四种不同颜色的子像素进行曝光，然后经过显影机和刻蚀机进行显影刻蚀形成四种深度不同的储液槽，这样可以使不同颜色子像素的储液槽封装相对应体积的量子点胶体，进而可以保证每一个储液槽的封胶厚度一致，提高子像素的发光亮度均衡，提升显示效果。
[0022]本专利技术可以有效解决由于对量子点的封胶厚度不同导致子像素发光亮度不均衡的问题，此外本专利技术所提供的基于RGBW的Micro
‑本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于RGBW的Micro
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LED制备系统，用于在阵列基板上制备Micro
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LED显示像素中四个子像素结构内的储液槽，其特征在于：所述制备系统包括显影机、刻蚀机、用于光刻胶曝光的光源模组，还包括在光源模组发光方向上顺序设置的掩膜版和覆有光刻胶的阵列基板；所述光源模组包括光线方向不同的四组光源，每组光源对应显示像素内的一个子像素结构，掩膜版包括多个透光区，在光源模组照射下，每个透光区的中心在阵列基板上的投影均位于与该透光区相对应的子像素结构的中心；当对光刻胶曝光时，四组光源同时透过掩膜版透光区对阵列基板子像素结构处的光刻胶进行曝光，各组光源的曝光光照强度、曝光光照时长根据与该光源对应的子像素结构需填充的量子点胶体体积决定；所述显影机、刻蚀机对曝光后的阵列基板进行后续加工以使储液槽成型。2.根据权利要求1所述的一种基于RGBW的Micro
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LED制备系统，其特征在于：所述四个子像素结构为填充有不同体积量子点胶体的红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素以及白色子像素；每个子像素结构包括一个储液槽，每个储液槽下方设置UV
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LED，每个所述储液槽中填充有量子点胶体；每个所述子像素的长和宽分别为第一长度和第一宽度，位于同一个所述显示像素中的所述子像素之间的间隙为第一间隙；四组所述光源的入射方向与所述阵列基板的夹角均相等为第一角度；当对光刻机曝光时，由于红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素、白色子像素处的光刻胶承受的曝光光照强度、曝光光照时长不同，因此红色子像素、绿色子像素、蓝色子像素、白色子像素内最终成型的储液槽深度不同。3.根据权利要求2所述的一种基于RGBW的Micro
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LED制备系统，其特征在于：所述第一角度、所述第一距离、所述第一长度、所述第一宽度以及所述第一间隙具有的关系。4.根据权利要求2所述的一种基于RGBW的Micro
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LED制备系统，其特征在于：当通过控制所述掩膜版，使所述掩膜版与所述阵列基板之间的所述第一距离d保持不...

【专利技术属性】
技术研发人员：张永爱，范贵星，周雄图，吴朝兴，林坚普，林志贤，郭太良，
申请(专利权)人：闽都创新实验室，
类型：发明
国别省市：