一种双面曝光机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种双面曝光机，涉及晶闸管生产设备，解决了对硅片单面曝光工作效率低、且容易污染硅片的技术问题。它包括机体，机体内安装有两个相对布置的安装座，安装座之间设有上下布置的两个安装支架，安装支架通过第一驱动组件活动的安装在安装座上；安装支架上设有光刻板定位支架，光刻板定位支架通过第二驱动组件活动的安装在安装支架上；两个安装支架之间设有硅片定位支架，硅片定位支架固定的安装在两个安装座之间；位于安装支架上方的机体上安装有上曝光灯，位于安装支架下方的机体上安装有下曝光灯。本实用新型专利技术能同时曝光硅片的两个面，大大的提高了工作效率，同时也避免了硅片容易受到污染的问题。了硅片容易受到污染的问题。了硅片容易受到污染的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种双面曝光机


[0001]本技术涉及晶闸管生产设备，更具体地说，它涉及一种双面曝光机。

技术介绍

[0002]晶闸管又可称做可控硅整流器。它是一种大功率开关型半导体器件，能在高电压、大电流条件下工作，且其工作过程可以控制、被广泛应用于可控整流、交流调压、无触点电子开关、逆变及变频等电子电路中。晶闸管主要以硅片为基材，在生产的过程中需要通过曝光工艺，使硅片上的光刻胶根据光刻板上的图形硬化，以形成保护层。但现有的曝光机大多只能对硅片进行单面曝光，当曝光硅片上另外的一个面时，需要对硅片进行翻转，重新对准再曝光。这样的方式不仅工作效率低，且在翻转硅片的过程中容易对硅片造成污染。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是针对现有技术的不足，提供一种双面曝光机，解决了对硅片单面曝光工作效率低、且容易污染硅片的问题。
[0004]本技术的技术方案是在于：一种双面曝光机，包括机体，所述机体内安装有两个相对布置的安装座，两个所述安装座之间设有上下布置的两个安装支架，所述安装支架通过第一驱动组件活动的安装在安装座上；所述安装支架上设有光刻板定位支架，所述光刻板定位支架通过第二驱动组件活动的安装在安装支架上，且所述第一驱动组件的运行方向与第二驱动组件的运动方向垂直；两个所述安装支架之间设有硅片定位支架，所述硅片定位支架固定的安装在两个安装座之间；所述安装支架与机体之间设有遮光帘；位于所述安装支架上方的机体上安装有上曝光灯，位于所述安装支架下方的机体上安装有下曝光灯。
[0005]作进一步的改进，所述第一驱动组件包括轴承座、步进电机、丝杆和导杆；所述轴承座安装在安装座的一端，所述步进电机安装在安装座的另一端，所述丝杆安装在步进电机的驱动端，所述丝杆的末端转动的安装在轴承座中；所述安装支架的一侧安装有螺纹套，所述螺纹套与丝杆螺纹连接；所述安装支架的另一侧安装有滑套，所述滑套与导杆滑动连接。
[0006]进一步的，所述螺纹套呈方形状；所述安装座上开设有与螺纹套相适配的滑槽，所述螺纹套滑动的安装在滑槽中。
[0007]更进一步的，所述第二驱动组件包括两根直线滑轨；两根所述直线滑轨安装在安装支架上，且所述直线滑轨与丝杆垂直布置，所述光刻板定位支架安装在直线滑轨的滑块上。
[0008]更进一步的，所述遮光帘为黑色的折叠帘。
[0009]更进一步的，所述上曝光灯和下曝光灯均通过升降组件安装在机体的内壁上。
[0010]更进一步的，所述升降组件包括电动推杆和用于安装曝光灯的支撑座；所述机体的内壁上开设有T型导向槽，所述支撑座通过滑轨滑动的安装在T型导向槽中，所述电动推
杆安装在机体上，所述电动推杆的驱动端与支撑座连接。
[0011]有益效果
[0012]本技术的优点在于：通过安装支架、硅片定位支架、光刻板定位支架以及遮光帘将机体分隔成上下两部分，以使曝光机在对硅片曝光时能同时曝光硅片的上下两个面，解决了对硅片单面曝光工作效率低、且容易污染硅片的问题。
附图说明
[0013]图1为本技术侧面剖视结构示意图；
[0014]图2为本技术的内部俯视结构示意图。
[0015]其中：1
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机体、2
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安装座、3
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安装支架、4
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光刻板定位支架、5
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硅片定位支架、6
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上曝光灯、7
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下曝光灯、8
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轴承座、9
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步进电机、10
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丝杆、11
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导杆、12
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螺纹套、13
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滑套、14
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滑槽、15
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直线滑轨、16
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电动推杆、17
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支撑座、18
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滑轨、19
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T型导向槽。
具体实施方式
[0016]下面结合实施例，对本技术作进一步的描述，但不构成对本技术的任何限制，任何人在本技术权利要求范围所做的有限次的修改，仍在本技术的权利要求范围内。
[0017]参阅图1
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图2，本技术的一种双面曝光机，包括机体1。机体1内安装有两个相对布置的安装座2，安装座2之间设有上下布置的两个安装支架3，安装支架3通过第一驱动组件活动的安装在安装座2上。具体的，第一驱动组件包括轴承座8、步进电机9和丝杆10。轴承座8安装在安装座2的一端，步进电机9安装在安装座2的另一端，丝杆10安装在步进电机9的驱动端，丝杆10的末端转动的安装在轴承座8中；安装支架3的一侧安装有螺纹套12，螺纹套12与丝杆10螺纹连接；安装支架3的另一侧安装有滑套13，滑套13与导杆11滑动连接。当步进电机9驱动丝杆10转动时，螺纹套12会沿着丝杆10的轴心方向运动，使安装支架3能左右运动，实现安装在安装支架3上的光刻板左右移动。
[0018]优选的，螺纹套12呈方形状；安装座2上开设有与螺纹套12相适配的滑槽14，螺纹套12滑动的安装在滑槽14中。在安装支架3运动的过程中，通过滑槽14对螺纹套12的定位，使安装支架3能更加稳定的沿着丝杆10的轴心方向运动，避免因机械振动导致光刻板位移的现象。
[0019]安装支架3上设有光刻板定位支架4，光刻板定位支架4中安装有光刻板，光刻板定位支架4通过第二驱动组件活动的安装在安装支架3上，且第一驱动组件的运行方向与第二驱动组件的运动方向垂直。具体的，第二驱动组件包括两根直线滑轨15。两根直线滑轨15安装在安装支架3上，且直线滑轨15与丝杆10垂直布置，光刻板定位支架4安装在直线滑轨15的滑块上。即光刻板定位支架4的一侧与其中一根直线滑轨15的滑块连接，另一侧与另一根直线滑轨15的滑块连接。当直线滑轨15上的滑块移动时，光刻板定位支架4被驱动，实现光刻板定位支架4的前后移动。
[0020]本实施例中，位于机体1上部分的光刻板定位支架4位于安装支架的下方，位于机体1下部分的光刻板定位支架4位于安装支架的上方，以使光刻板能尽量的靠近硅片。此外，光刻板定位支架4中开设有用于定位光刻板的定位槽。
[0021]两个安装支架3之间设有硅片定位支架5，硅片定位支架5固定的安装在两个安装座2之间。硅片定位支架5用于安装待曝光的硅片。安装支架3与机体1之间设有遮光帘，位于安装支架3上方的机体1上安装有上曝光灯6，位于安装支架3下方的机体1上安装有下曝光灯7。其中，遮光帘用于将机体1的上部分与下部分隔开，避免在对硅片曝光时，上曝光灯6产生的灯光与下曝光灯7产生的灯光相互影响。此外，硅片定位支架5中开设有用于定位硅片的定位槽。
[0022]优选的，遮光帘为黑色的折叠帘。
[0023]本实施例的上曝光灯6和下曝光灯7均通过升降组件安装在机体1的内壁上。具体的，升降组件包括电动推杆16和用于安装曝光灯的支撑座17。机体1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双面曝光机，包括机体(1)，其特征在于，所述机体(1)内安装有两个相对布置的安装座(2)，两个所述安装座(2)之间设有上下布置的两个安装支架(3)，所述安装支架(3)通过第一驱动组件活动的安装在安装座(2)上；所述安装支架(3)上设有光刻板定位支架(4)，所述光刻板定位支架(4)通过第二驱动组件活动的安装在安装支架(3)上，且所述第一驱动组件的运行方向与第二驱动组件的运动方向垂直；两个所述安装支架(3)之间设有硅片定位支架(5)，所述硅片定位支架(5)固定的安装在两个安装座(2)之间；所述安装支架(3)与机体(1)之间设有遮光帘；位于所述安装支架(3)上方的机体(1)上安装有上曝光灯(6)，位于所述安装支架(3)下方的机体(1)上安装有下曝光灯(7)。2.根据权利要求1所述的一种双面曝光机，其特征在于，所述第一驱动组件包括轴承座(8)、步进电机(9)、丝杆(10)和导杆(11)；所述轴承座(8)安装在安装座(2)的一端，所述步进电机(9)安装在安装座(2)的另一端，所述丝杆(10)安装在步进电机(9)的驱动端，所述丝杆(10)的末端转动的安装在轴承座(8)中；所述安装支架(3)的一侧安装有螺纹套(12)，所述螺纹套(12)与丝杆(10)螺纹...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋解放，
申请(专利权)人：襄阳先泰电子有限公司，
类型：新型
国别省市：