一种制备高性能铁磁性靶材的方法技术

本发明专利技术公开了属于靶材制备技术领域的一种制备高性能铁磁性靶材的方法。该方法包括将铁磁性靶坯通过旋压使靶坯均匀变形的步骤。利用本发明专利技术方法制备的铁磁性金属靶材透磁率高、均匀性好。均匀性好。

【技术实现步骤摘要】
一种制备高性能铁磁性靶材的方法


[0001]本专利技术属于靶材制备
，特别涉及一种制备高性能铁磁性靶材的方法。

技术介绍

[0002]磁控溅射技术是利用磁场控制辉光放电产生的等离子体来轰击出靶材表面的粒子并使其沉积到基片表面的一种技术，制备的薄膜致密度高、附着力强，是半导体领域制备金属电子薄膜的主要方法之一。但是，对于高导磁性靶材，特别是Fe、Co、Ni及合金等高饱和磁感应强度的靶材，由于材料具有对磁场屏蔽的作用，往往很难发生溅射。解决这一根本问题的办法是降低材料的磁导率，降低铁磁性材料磁屏蔽效应，增加靶材表面磁场。通常定义溅射磁场中近靶材表面同一位置有靶材存在时的磁场强度和无靶时的磁场强度之比为透磁率(PTF)。透磁率越高，靶材表面的磁场强度越高，靶材越容易发生溅射。
[0003]影响铁磁性靶材透磁率的因素有很多，主要包括微观组织织构、厚度及内应力等因素。通过增加靶材内应力，可以有效抑制铁磁性材料中磁畴的转动，这样可以降低磁性材料的饱和磁感应强度，进而降低靶材磁导率。因此，铁磁性靶材可以通过变形来提高透磁率。为了增加应力，专利U本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种制备高性能铁磁性靶材的方法，其特征在于，包括将铁磁性靶坯通过旋压使靶坯均匀变形的步骤。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述铁磁性靶坯的初始厚度3
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5mm。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述旋压为以圆形铁磁性靶坯圆心为中心点进行旋压。4.根据权利要求1～3任一项所述的方法，其特征在于，所述旋压用模具底部设置永磁铁。5.根据权利要求1～3任一项所述的方法，其特征在于，所述旋压总的压下变形量为5％
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30％，压下道次变形量5％
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15％。6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，旋...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗俊锋，张巧霞，徐国进，张博厚，李勇军，庞欣，熊晓东，冯昭伟，滕海涛，
申请(专利权)人：有研科技集团有限公司，
类型：发明
国别省市：