芯片制造方法及芯片结构技术

技术编号:28447592 阅读:136 留言:0更新日期:2021-05-15 21:08
本公开公开了一种芯片制造方法及芯片结构。所述方法包括:在第一晶圆上制作多个第一掩膜单元,第一掩膜单元包括处理器簇群、第一存储器、存储通道、串行通道、控制器和总线接口模块中的一种或多种;在第一晶圆上制作第一连接点;在第二晶圆上制作多个第二掩膜单元,第二掩膜单元包括第二存储器、扩展模块和总线互联模块中的一种或多种;在第二晶圆上制作第二连接点;将第一晶圆和第二晶圆通过第一连接点和第二连接点键合在一起,对晶圆进行切割,切割得到的芯片尺寸与第二掩膜单元的尺寸相同。本公开技术方案可以大大节省芯片生产时产生的一次性费用,不仅能够节省时间和人力成本,还能够降低每个单一规格或性能产品的生产风险和生产成本。险和生产成本。险和生产成本。险和生产成本。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员:王逵
申请(专利权)人:北京比特大陆科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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