【技术实现步骤摘要】
基板湿处理装置及基板清洗方法
本专利技术涉及一种湿处理装置，特别是涉及一种清洗基板的基板湿处理装置。
技术介绍
一种现有清洗基板的湿处理装置包括一装满溶液的浸泡槽，一设置在所述浸泡槽下游的喷除槽，一设置在所述喷除槽下游的干燥腔，及至少一传送机器。在操作时，所述运送机器首先将一批基板移入所述浸泡槽的溶液中，接着，在浸泡作业完成后，将所述基板移出所述浸泡槽以进行接下来的喷除及干燥作业。然而，在进行喷除及干燥作业时，所述基板较佳地是被逐一处理。因此，需要额外的空间与支撑结构以存放刚完成浸泡作业的所述基板。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的，即在提供一种可克服现有缺陷的基板湿处理装置。于是，本专利技术基板湿处理装置适用于清洗基板，并包含浸泡模块，设置在所述浸泡模块下游的喷除模块，可相对所述浸泡模块及所述喷除模块移动的进程机器，及连接所述进程机器的控制模块。所述浸泡模块包括用于装满溶液的浸泡槽，及至少部分浸泡在所述溶液中的浸泡支架。所述喷除模块包括多个喷除支架及至少一个喷嘴，每一喷除支架用来支撑一个垂直...
【技术保护点】
1.一种基板湿处理装置，适用于清洗基板,其特征在于：所述基板湿处理装置包含：/n浸泡模块，包括用于装满溶液的浸泡槽，及至少部分浸泡在所述溶液中的浸泡支架；/n设置在所述浸泡模块下游的喷除模块，所述喷除模块包括多个喷除支架及至少一个喷嘴，每一喷除支架用来支撑一个垂直摆放的基板；/n可相对所述浸泡模块及所述喷除模块移动的进程机器，所述进程机器配置成一次一个地运送垂直摆放的基板；及/n连接所述进程机器的控制模块，所述控制模块用于控制所述进程机器的动作，使得所述进程机器一次一个地将基板移动到所述浸泡支架，一次一个地将所述浸泡支架上的基板移动到所述喷除支架上，及一次一个地将所述喷除支...
【技术特征摘要】
1.一种基板湿处理装置，适用于清洗基板,其特征在于：所述基板湿处理装置包含：
浸泡模块，包括用于装满溶液的浸泡槽，及至少部分浸泡在所述溶液中的浸泡支架；
设置在所述浸泡模块下游的喷除模块，所述喷除模块包括多个喷除支架及至少一个喷嘴，每一喷除支架用来支撑一个垂直摆放的基板；
可相对所述浸泡模块及所述喷除模块移动的进程机器，所述进程机器配置成一次一个地运送垂直摆放的基板；及
连接所述进程机器的控制模块，所述控制模块用于控制所述进程机器的动作，使得所述进程机器一次一个地将基板移动到所述浸泡支架，一次一个地将所述浸泡支架上的基板移动到所述喷除支架上，及一次一个地将所述喷除支架上的基板移出所述喷除模块。
2.根据权利要求1所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述进程机器包括可相对所述浸泡模块及所述喷除模块移动的进程座，设置在所述进程座且可相对所述进程座沿上下方向移动的基架，两个互相间隔并由所述基架向下延伸的延伸架，及两个分别设置在所述延伸架末端并相向延伸，且共同支撑基板的下部的进程爪。
3.根据权利要求2所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述进程机器以一种方式运送所述基板，使得所述基板的法向量与其前进方向平行，且，由所述基架、所述延伸架及所述进程爪共同界定的空间的尺寸大于所述基板具有所述法向量的面，使得所述基板可以通过所述空间。
4.根据权利要求2所述的基板湿处理装置，其特征在于：所述浸泡支架可相对所述浸泡槽沿着所述上下方向往复移动，由所述进程机器的所述基架，所述延伸架及所述进程爪共同界定的所述空间的尺寸，足以让所述基板受到所述浸泡支架的带动在其中上下移动，所述进程爪间的距离大于所述浸泡支架沿横向的宽度。
5.根据权利要求1所述的基板湿处理装置，其特征在于：每个喷除支架包括架体，两个支撑轮，及定位件，所述支撑轮互相间隔并可转动地设置在所述架体上，并用于共同支撑所述垂直摆放的基板，所述定位件可移动地设置在所述架体上，并用于定位所述基板上部。
6.根据权利要求5所述的基板湿处理装置，其特征在于：每个支撑轮形成有环型定位槽，用于嵌合所述基板的周围的一部...
【专利技术属性】
技术研发人员：冯传彰，吴庭宇，蔡文平，刘茂林，李威震，
申请(专利权)人：辛耘企业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71
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