一种CVD金刚石高真空光学窗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种CVD金刚石高真空光学窗装置，包括底座、连接件、压紧件、压紧组件、透光组件、金刚石光窗和真空设备固定孔，所述连接件设于底座上，所述压紧件设于连接件远离底座的一端，所述压紧组件一端设于压紧件上，所述压紧组件另一端设于底座上，所述透光组件一端设于压紧件上，所述透光组件另一端设于底座上，所述金刚石光窗设于透光组件内，所述真空设备固定孔贯穿设于底座上，所述金刚石光窗为含有铅元素和磷元素的金刚石光窗，所述金刚石光窗通过CVD化学气相沉积法制得。本发明专利技术属于真空设备技术领域，具体是指一种莫氏硬度高，结构强度高，防电磁辐射，可观察等离子体辉光的高真空光学窗装置。

【技术实现步骤摘要】
一种CVD金刚石高真空光学窗装置
本专利技术属于真空设备
，具体是指一种CVD金刚石高真空光学窗装置。
技术介绍
在真空低温环境下，采用摄影测量方法对航天器形变进行测量时，需要将摄影测量相机在容器内于不同位置对试件进行拍摄，然后进行测量，目前国内在真空低温环境下，用于摄影测量的保护舱采用的都是传统光学窗口，在工作过程中，真空设备光学窗口莫氏硬度低，对不均匀外力的抵抗能力弱，在发生碰撞时，容易漏气，导致实验最终失败，目前测量设备不具备抗电磁辐射干扰的能力，试验数据误差大，同时目前常见的真空设备光学窗口不具备观察等离子体辉光的功能，难以满足实验需求。
技术实现思路
为了解决上述难题，本专利技术提供了一种莫氏硬度高，结构强度高，防电磁辐射，可观察等离子体辉光的高真空光学窗装置。为了实现上述功能，本专利技术采取的技术方案如下：一种CVD金刚石高真空光学窗装置，包括底座、连接件、压紧件、压紧组件、透光组件、金刚石光窗和真空设备固定孔，所述连接件设于底座上，所述压紧件设于连接件远离底座的一端，所述压紧组件一端设于压紧件上，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种CVD金刚石高真空光学窗装置，其特征在于：包括底座、连接件、压紧件、压紧组件、透光组件、金刚石光窗和真空设备固定孔，所述连接件设于底座上，所述压紧件设于连接件远离底座的一端，所述压紧组件一端设于压紧件上，所述压紧组件另一端设于底座上，所述透光组件一端设于压紧件上，所述透光组件另一端设于底座上，所述金刚石光窗设于透光组件内，所述金刚石光窗底部设于底座顶部，所述金刚石光窗顶部设于压紧件底部，所述真空设备固定孔贯穿设于底座上，所述金刚石光窗为金刚石单晶材质的金刚石光窗，所述金刚石光窗含有铅元素和磷元素，所述金刚石光窗通过CVD化学气相沉积法制得的金刚石光窗，所述金刚石光窗的整体尺寸为直径8c...

【技术特征摘要】
1.一种CVD金刚石高真空光学窗装置，其特征在于：包括底座、连接件、压紧件、压紧组件、透光组件、金刚石光窗和真空设备固定孔，所述连接件设于底座上，所述压紧件设于连接件远离底座的一端，所述压紧组件一端设于压紧件上，所述压紧组件另一端设于底座上，所述透光组件一端设于压紧件上，所述透光组件另一端设于底座上，所述金刚石光窗设于透光组件内，所述金刚石光窗底部设于底座顶部，所述金刚石光窗顶部设于压紧件底部，所述真空设备固定孔贯穿设于底座上，所述金刚石光窗为金刚石单晶材质的金刚石光窗，所述金刚石光窗含有铅元素和磷元素，所述金刚石光窗通过CVD化学气相沉积法制得的金刚石光窗，所述金刚石光窗的整体尺寸为直径8cm且厚度1cm。


2.根据权利要求1所述的一种CVD金刚石高真空光学窗装置，其特征在于：所述真空设备固定孔呈圆周均匀分布设于底座上。


3.根据权利要求1所述的一种CVD金刚石高真空光学窗装置，其特征在于：所述底座为316不锈钢材质的底座，所述底座为直径28cm且厚度2.0cm的圆柱形底座。
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【专利技术属性】
技术研发人员：赵芬霞，蒋荣方，刘宏明，王骏，
申请(专利权)人：湖州中芯半导体科技有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33