转印装置及利用其的实施了转印的基板的生产方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种转印装置及利用其的实施了转印的基板的生产方法。具体而言，根据本发明专利技术的一实施例，可以提供一种转印装置，其将粘接于膜的模的图案转印至基板，所述转印装置包括：脱模部，其能够在所述模的表面进行脱模性涂布；以及转印部，其能够将在所述脱模部进行脱模性涂布后的所述模的图案转印至基板。

【技术实现步骤摘要】
转印装置及利用其的实施了转印的基板的生产方法
本专利技术涉及一种转印装置及利用其的实施了转印的基板的生产方法。
技术介绍
以往，在半导体工艺中，为了在基板(例如，晶片(Wafer))的表面形成图案(例如，用于蚀刻或蒸镀的掩膜板图案)而利用光刻(PhotoLithography)工艺。这种光刻工艺是能够在基板表面涂布诸如光刻胶(Photoresist)的感光物质后照射光来形成期望的图案的工艺。然而，通过光刻工艺将纳米尺度的图案形成于基板表面的工艺存在量产性较低的问题，近来，为了改善这种问题，利用纳米压印光刻(NanoImprintLithography)工艺。纳米压印光刻工艺是一种能够经济有效地制作纳米结构物(nano-structure)的技术。具体地，纳米压印光刻工艺是利用转印装置(TransferApparatus)对形成有纳米尺度(nano-scale)的图案的模(Mold)和形成有树脂(Resin)的基板相互加压来将图案转印于基板表面的工艺。这种纳米压印光刻工艺中使用的转印装置通过将模的图案压接于基板之后从基板分离模来执行工艺。但是，就以往的转印装置而言，由于模的脱模性较低，同一个模使用多次后，模的转印效率下降，因而模以一次性地进行使用，为了改善这样的模的再使用性，曾利用旋涂将脱模剂涂布于模来进行使用。然而，当利用旋涂将脱模剂涂布于模来进行使用时，虽然模的再使用性增加，但由于脱模剂不均匀地涂布于模，因而存在涂布物成团或涂布时会留有异物的问题。此外，当将模的图案形成为50nm以下的微细图案时，涂布进行得较厚的旋涂会覆盖微细图案，因而存在难以将微细图案转印于基板的问题。此外，就以往的转印装置而言，转印模的空间与分离模的空间彼此分离着，为此追加模移动的工艺，因而存在工艺的效率下降的问题。因此，需要一种将脱模剂均匀地涂布于模，且涂布时不会留有异物的转印装置，且需要一种能够增加模的再使用性的转印装置。此外，需要一种能够通过省略模移动的工艺来提高工艺的效率的转印装置。
技术实现思路
技术问题本专利技术的一些实施例着眼于如上所述的背景而专利技术，旨在提供一种能够通过降低形成有图案的模的更换周期来提高在基板表面形成图案的工艺的效率的转印装置。此外，旨在提供一种去除模表面的异物来防止对模进行脱模性涂布时夹杂异物而成为不良的转印装置。此外，旨在提供一种能够省略模移动的工艺的转印装置。技术方案根据本专利技术的一方面，可以提供一种转印装置，其将粘接于膜的模的图案转印至基板，所述转印装置包括：脱模部，其能够在所述模的表面进行脱模性涂布；以及转印部，其能够将在所述脱模部进行脱模性涂布后的所述模的图案转印至基板，所述脱模部包括：等离子体处理模块，其以在对所述模的表面进行脱模性涂布之前利用等离子体处理所述模的表面的方式工作；以及蒸镀模块，其在进行所述等离子体处理后的模的表面进行脱模性涂布。根据本专利技术的另一方面，可以提供一种转印装置，其将粘接于膜的模的图转印移至基板，所述转印装置包括：脱模部，其能够在所述模的表面进行脱模性涂布；以及转印部，其能够将在所述脱模部进行脱模性涂布后的所述模的图案转印至基板，所述脱模部包括能够在所述模的表面进行脱模性涂布的蒸镀模块，在所述膜粘接有多个模，所述蒸镀模块中模所在的区域的中心点与所述转印部中模所在的区域的中心点之间的间距与相邻地配置于所述膜上的模的中心点之间的间距相同。此外，可以提供一种转印装置，其中，所述蒸镀模块通过使脱模剂气相化，并将气相化后的所述脱模剂提供至所述模的表面来涂布所述模的表面。此外，可以提供一种转印装置，其中，所述转印部构成为，当所述等离子体处理模块执行一次利用所述等离子体处理所述模的表面的过程，且所述蒸镀模块执行一次对所述模的表面进行脱模性涂布的过程时，执行多次将所述模的图案压接于脱模性涂布后的述基板的过程和从所述基板分离所述模的过程。此外，可以提供一种转印装置，其中，所述转印部包括：压接模块，其能够使所述模和所述基板压接来将所述模的图案压接于基板；以及脱模单元，其在由所述压接模块将所述模的图案压接于所述基板时从所述基板分离所述模。此外，可以提供一种转印装置，其还包括：膜供给部，其能够向所述脱模部供给粘接有所述模的所述膜；以及膜回收部，其能够回收并卷取所述膜，在被卷取于所述膜回收部的所述膜粘接有脱模性下降至规定范围以下的所述模。此外，可以提供一种转印装置，其还包括：位置检测部，其配置于所述蒸镀模块与所述转印部之间，由此检测先行的模位于所述转印部且后行的模位于所述蒸镀模。此外，可以提供一种转印装置，其还包括：膜供给部及膜回收部，其为了使所述膜移动而旋转，所述转印部构成为，在所述膜供给部及所述膜回收部中的一个以上未旋转的状态下，反复执行规定次数以上的将所述模的图案压接于所述基板的过程和从所述基板分离所述模的过程，所述转印装置还包括：控制部，其从所述位置检测部接收所述模的位置信息来控制所述膜供给部及膜回收部中的一个以上的驱动。根据本专利技术的另一方面，可以提供一种转印装置，包括蒸镀模块，该蒸镀模块包括：第一腔室部；第二腔室部，其配置于比所述第一腔室部靠下方，并与所述第一腔室部一同形成用于配置粘接有模的膜的涂布空间；以及流体供给部，其向所述涂布空间供给气相化的脱模剂，以便能够涂布所述模的表面，所述膜在所述第一腔室部与所述第二腔室部之间通过，所述流体供给部包括：罐，其能够容纳液体状态的所述脱模剂；以及起泡器，其能够向容纳于所述罐的液体状态的所述脱模剂供给规定压力以上的气体来使所述脱模剂气相化。此外，可以提供一种转印装置，其中，所述起泡器通过在容纳于所述罐的所述脱模剂的表面的下方向所述脱模剂排出所述气体来使所述脱模剂气相化。此外，可以提供一种转印装置，其中，所述蒸镀模块还包括：喷射装置，其能够通过在从液体状态的所述脱模剂的表面向上侧隔开规定距离的位置喷射所述气体来防止气相化的所述脱模剂成团。根据本专利技术的另一方面，可以提供一种转印装置，包括蒸镀模块，该蒸镀模块包括：第一腔室部；第二腔室部，其配置于比所述第一腔室部靠下方，并与所述第一腔室部一同形成用于配置粘接有模的膜的涂布空间；以及流体供给部，其向所述涂布空间供给脱模剂，以便能够对所述模的表面进行脱模性涂布，所述膜在所述第一腔室部与所述第二腔室部之间通过，在所述第二腔室部形成有流入口，该流入口的一侧与所述流体供给部连通，另一侧与所述涂布空间连通，所述流入口配置于比所述模靠下方。此外，可以提供一种转印装置，其中，在所述第二腔室部形成有排出口，该排出口用于向外部排出通过所述流入口流入所述涂布空间的所述脱模剂，从所述流入口流入所述涂布空间的所述脱模剂在通过所述排出口被排出至外部的期间与所述模的表面接触。根据本专利技术的另一方面，可以提供一种转印装置，包括蒸镀模块，该蒸镀模块包括：第一腔室部；第二腔室部，其配置于比所述第一腔室部靠下方，并与所述第一腔室部一同形成用于配置粘接有模的膜的涂布空间；以及流本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种转印装置，其将粘接于膜的模的图案转印至基板，所述转印装置的特征在于，包括：/n脱模部，其能够在所述模的表面进行脱模性涂布；以及/n转印部，其能够将在所述脱模部进行脱模性涂布后的所述模的图案转印至基板，/n所述脱模部包括：/n等离子体处理模块，其以在对所述模的表面进行脱模性涂布之前利用等离子体处理所述模的表面的方式工作；以及/n蒸镀模块，其在进行所述等离子体处理后的模的表面进行脱模性涂布。/n

【技术特征摘要】
20191104 KR 10-2019-0139796;20200318 KR 10-2020-001.一种转印装置，其将粘接于膜的模的图案转印至基板，所述转印装置的特征在于，包括：
脱模部，其能够在所述模的表面进行脱模性涂布；以及
转印部，其能够将在所述脱模部进行脱模性涂布后的所述模的图案转印至基板，
所述脱模部包括：
等离子体处理模块，其以在对所述模的表面进行脱模性涂布之前利用等离子体处理所述模的表面的方式工作；以及
蒸镀模块，其在进行所述等离子体处理后的模的表面进行脱模性涂布。


2.一种转印装置，其特征在于，包括蒸镀模块，该蒸镀模块包括：
第一腔室部；
第二腔室部，其配置于比所述第一腔室部靠下方，并与所述第一腔室部一同形成用于配置粘接有模的膜的涂布空间；以及
流体供给部，其向所述涂布空间供给气相化的脱模剂，以便能够涂布所述模的表面，
所述膜在所述第一腔室部与所述第二腔室部之间通过，
所述流体供给部包括：
罐，其能够容纳液体状态的所述脱模剂；以及
起泡器，其能够向容纳于所述罐的液体状态的所述脱模剂供给规定压力以上的气体来使所述脱模剂气相化。


3.一种转印装置，其特征在于，包括蒸镀模块，该蒸镀模块包括：
第一腔室部；
第二腔室部，其配置于比所述第一腔室部靠下方，并与所述第一腔室部一同形成用于配置粘接有模的膜的涂布空间；以及
流体供给部，其向所述涂布空间供给脱模剂，以便能够对所述模的表面进行脱模性涂布，
所述膜在所述第一腔室部与所述第二腔室部之间通过，
所述蒸镀模块还包括蒸镀密封部，该蒸镀密封部包围所述涂布空间，以进行所述第一腔室部与所述第二腔室部之间的密封，
所述蒸镀密封部包括设于所述第一腔室部的第一蒸镀密封部件及设于所述第二腔室部的第二蒸镀密封部件，
所述第一蒸镀密封部件及所述第二蒸镀密封部件中的某一个在不与另一个贴紧时具有平面形状，所述另一个在不与所述某一个贴紧时具有圆弧形状。


4.一种转印装置，其特征在于，包括：
压接模块，其包括能够朝向在一面粘接有形成有图案的模的膜移动的第一压接单元和能够支撑基板的第二压接单元；以及
脱模单元，其包括第一辊部，该第一辊部在作为所述膜的一面的相反侧的所述膜的另一面支撑所述膜，
所述第一压接单元与所述第二压接单元在所述膜的彼此相反的一侧朝向所述膜移动而相互贴紧来将形成于所述模的图案压接于所述基板，
所述第一辊部向所述第一压接单元与所述第二压接单元之间的将所述基板压接于所述模的空间移动来从所述基板分离被压接于所述基板的所述模。


5.一种转印装置，其特征在于，包括：
压接模块，其包括能够朝向在一面粘接有形成有图案的模的膜移动的第一压接单元和能够支撑基板的第二压接单元；以及
框架，其能够支撑所述压接模块，
所述第一压接单元与所述第二压接单元在所述膜的彼此相反的一侧朝向所述膜移动而相互贴紧来将形成于所述模的图案压接于所述基板，
所述框架包括第一框架部及第二框架部，
所述第一压接单元包括：
第一压接体，其能够对所述模加压；以及
第一导向部件，其固定支撑于所述第一框架部，且能够对所述第一压接体的移动进行导向，
所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：金泰完，权相民，金准基，郑熙锡，
申请(专利权)人：吉佳蓝科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR