等离子体处理装置中的处理信息管理制造方法及图纸

技术编号:2822711 阅读:132 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
一种用于管理衬底处理数据的计算机执行方法。当在组合装置的等离子体处理室中处理衬底时获取衬底处理数据。该方法包括接收用于识别衬底的标识和过程中的至少一个的元数据。该方法还包括从传感器接收多个处理数据流,处理数据流中的每一个都与正被监测的工艺参数有关。根据第一方法和第二方法中的一种收集在每个处理数据流中的独立数据项。第一方法表示时间上周期性的数据收集。第二方法表示当预定事件发生时的数据收集。该方法也包括将与处理数据流相关的独立数据项存储在单个文件中。该单个文件仅存储与用于处理衬底的单个配方有关的数据。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】等离子体处理装置中的处理信息管理
技术介绍
组合装置(cluster tool )可以由一个或多个等离子体处理室(即, 才莫块)和用于方〗更衬底处理的其它部件组成。每个等离子体处理室 都可具有多个传感器(即,感测器)。每个传感器都能够检测该装 置的等离子体处理室和/或其它部件的特定工艺参数(即,条件)。 工艺参数的实例包括但不限于,温度、压力、步数、及气流。随着衬底(即,晶片)在等离子体处理室中被处理,组合装置 与用于收集衬底处理(SP) It据的lt据主交互。衬底处理数据涉及 可被收集的两类数据(即,元数据(meta-data)和处理数据)。元 凄t据是识别衬底(即,衬底id、 4比id等)或工艺(即,配方名称等) 的独立数据项。其它类型的数据(处理数据)涉及关于由多个传感 器(即,设置在组合装置中的传感器)监测的工艺参数(即,压力、 气流、步lt等)的独立数据项。如文中所述,数据主涉及与数据源交互的软件接口 ,以收集关 于组合装置及其子部件的数据。数据源可以包括但不限于,4企测组 合装置或其子部件的条件的传感器。由传感器收集的数据通常被称 作处理数据。同样,数据源可涉及包括与衬底或工艺相关的信息的 预存储数据(即,元数据)。在等离子体处理室中发生改变时可以 收集lt据,或者可以周期性地收集数据。改变可以包括温度、压力、 气流等的增加/减小。为了方《更讨i仑,图1示出了凄t据如何乂人组合装置流向数据库。在组合装置102中,由每个数据主(104a、 104b、和104c )来收集数据。例如,由每个数据主收集的数据可以是数据点的名称、发生 改变时的绝对时间戳、以及每个绝对时间戳的值。例如,凄t据主104a 可以是与才企测压力变化的传感器交互的软件接口。因此,由数据主 104a收集的数据可包括作为数据点名称的压力、压力发生变化时的 绝对时间戳、以及每个绝对时间戳的压力值。一旦收集了数据,则由数据主(即,104a)通过可用于上传数 据的路径108通知数据库接口 106。然后,凄t据库接口 106经由管 线110将数据发送给数据库112以进行存储。数据库112可位于组 合装置102上或网络服务器上。由于可由组合装置102收集的数据 的绝对尺寸,管线110将必须足够大,以处理将大量数据发送给数 据库112所需的大的带宽。生成的数据被存储到数据库112上的独立表(114a、 114b、和 114c)上。根据数据主布置每个表。例如,表114a存储由数据主 104a收集的信息(例如,数据点、值、和绝对时间戳),该数据主 监测压力变化。在这些表之间的一个公用变量是绝对时间戳。在关 于图2的论述中提供了关于绝对时间戳如何在不同的表中起作用的 更i羊细描述。图2提供了可能存在于数据库112中的表的实例。每个表都存 储关于特定的工艺参数的数据或元数据(即,数据点、绝对时间戳、 和值)。例如,表202存储关于衬底id的数据,表204存储关于批 id的数据,表206存储关于光符阅读器(OCR) id的数据,表208 存储关于步数的数据,以及表210存储关于压力的数据。因为收集的数据不是专门针对衬底的,所以在问题出现时用户 可能很难有时间重建对于特定衬底的处理条件。为了重建处理条^牛,首先用户可以确定^H"底进入等离子体处J里室的时间。 一旦用户具有了衬底进入等离子体处理室时的绝对时间戳(即,202a或 202b ),用户就能够使用绝对时间戳以使其与其它表上的绝对时间 戳(即,204a、 204b、 206a、 206b、 208a、 208b、 208c、 208d、 208e、 210a、 210b、 210c、 210d、 210e、 210f、 210g)进行比较。然而, 在其它表上的绝对时间戳将不会产生完全匹配。对于不能完全匹配 的原因可能涉及如何在工艺参数发生改变时收集存储在每个表上 的凄t据。例如,在衬底A已经开始其在相同的组合装置中的处理循环之 后,一于底B进入等离子体处理室。当衬底B进入等离子体处理室时, 衬底id的数据主收集表示衬底B已进入处理环境的数据。同时, 因为两个衬底都发生压力改变,所以压力的凌t据主要求多个彩:才居 点。结果,因为衬底A的压力在衬底B的压力开始改变时发生改变, 所以记录在衬底id表上的绝对时间戳将不能与压力表上的绝对时 间瞿乂中的4壬意一个完全匹配。例如,用户对衬底123的问题进行研究。查看衬底id表202 , 用户能够确定4十底123在9:58:09:015的纟色对时间戳202a进入等离 子体处理室。因为每个表上的公用变量都是绝对时间戳,所以用户 将绝对时间戳202a作为导向柱(guiding post),以通过使绝对时间 戳202a与其它表上的绝对时间戳进行比较来从其它表中检索数据。 在一些情况下,因为绝对时间戳202a与其它表上的绝对时间戳相 匹配,所以用户能够提耳又相应的值。例如,绝对时间戳202a与步 凄t表210上的纟色乂十时间戮208c对目匹酉己。然而,所有表上的绝对时间戳不可能总是相匹配的。在那种情 况下,用户不得不基于与存在于表上的绝对时间戳相对应的值进行 内插。例如,绝对时间戳202a不与压力表210上的绝对时间戳中 的4壬意一个相匹配。相反,绝对时间戳202a处于绝对时间戳210b和绝对时间戳210c之间。即-使用户能够确定范围(即,实际压力 值处于59和68毫托之间),用户也发现其难以确定实际值。用于收集组合装置中的数据的当前方法存在几个问题。第一 , 因为数据可能存储在本地的组合装置上或者存储在网络服务器上, 所以不能经常容易地存取数据。为了才全索数据,用户将必须访问组 合装置或网络服务器。第二,当前在时间片(time slide )上收集数据,由数据主对数 据进4亍分组,并将^:据作为独立表存^f诸到^t据库中。例如,关于压 力的凄t据都存储在单个表上,而关于气体流的^t据^皮存储在不同的 表上。因为用于特定衬底的数据不能被很容易地使用,所以重建特 定衬底的处理条件将花费一些时间。第三,由于存储了路线数据,所以在不做一些分析情况下,用 户将不能自动请求H据以确定凄t据的可用性。此外,因为通过多个 表存储了关于衬底的数据,所以用户将不得不使用多次查询来提取 所需的数据。因为在表中的公用变量是绝对时间戳,由于用户必须 将变量表上的数据同步,所以收集的数据不可能总是给出所产生的 精确情况。结果,数据的精确性和质量可能较差。
技术实现思路
在一个实施例中,本专利技术涉及用于管理村底处理教:据的计算^L 执行方法。在组合装置的等离子体处理室中处理衬底时获取衬底处 理数据。该方法包括接收用于识别衬底的标识和工艺中至少一个的 元数据。该方法还包括从多个传感器中接收多个处理数据流,多个 处理数据流中的每一个涉及正被监测的工艺参数。根据第一方法和 第二方法中的一个来收集在多个处理凄t据流的每一个中的独立数 据项。第一种方法表示周期性的数据收集。第二种方法表示当发生预定事件时进行的数据收集。该方法还包括将与多个处理数据流相 关的独立tt据项存储在单个文件中。该单个文件仅存储与用于处理 衬底相关的单个配方的衬底处理数据。在另 一实施例中,本专利技术涉及用于管理衬底处理数据的计算枳J 本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种在衬底处理环境中,用于管理衬底处理数据的计算机执行方法,当在组合装置的等离子体处理室中处理衬底时获取所述衬底处理数据,包括:    接收元数据,所述元数据用于识别所述衬底的标识和工艺中的至少一个;    从多个传感器中接收多个处理数据流,所述多个处理数据流中的每一个都与正被监测的工艺参数有关,根据第一种方法和第二种方法中的一种收集所述多个处理数据流中的每一个中的独立数据项,所述第一种方法表示时间上周期性的数据收集,所述第二种方法表示在预定事件发生时进行的数据收集;以及    将与所述多个处理数据流相关的所述独立数据项存储在单个文件中,所述单个文件仅存储与用于处理所述衬底的单个配方有关的所述衬底处理数据。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:查德R威特曼黄忠河杰奎琳塞托约翰詹森
申请(专利权)人:朗姆研究公司
类型:发明
国别省市:US[美国]

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