【技术实现步骤摘要】
显示装置及制造显示装置的方法
[0001]本公开涉及显示装置及制造该显示装置的方法。
技术介绍
[0002]液晶显示器(LCD)和有机发光二极管(OLED)显示器被广泛用作显示装置。近来,使用微型发光二极管(micro-LED)制造高分辨率显示装置的技术已经引起了关注。然而,需要高效率和小的LED芯片来制造使用micro-LED的高分辨率显示装置,并且需要高水平的转移技术来将小的LED芯片布置在适当的位置。
技术实现思路
[0003]提供了具有提高的耐久性的显示装置及制造该显示装置的方法。
[0004]提供了制造显示装置的方法,其提供了提高的产量。
[0005]另外的方面将在下面的描述中部分地阐述,并且部分地将从描述变得明显,或者可以通过实践本公开的提出的实施方式而获知。
[0006]根据本公开的一方面,提供一种制造显示装置的方法,该方法包括:在支撑衬底上形成第一发光区域;以及通过从第一发光区域发射第一光,在第一发光区域上形成第一颜色调节图案,其中,形成第一发光区域包括:提供第一半导体层、第一有源层和第二半导体层,第一有源层在第一半导体层和第二半导体层之间;提供电连接支撑衬底和第一半导体层的第一接触;提供电连接到所述第二半导体层的第一初始公共电极。
[0007]在支撑衬底上形成第一发光区域包括:在生长衬底上顺序地形成第二半导体层、第一有源层和第一半导体层;在第一半导体层上形成第一接触;在第一接触上形成支撑衬底;去除生长衬底;以及在第二半导体层的通过去除生长衬底而暴露的表 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种制造显示装置的方法,所述方法包括:在支撑衬底上形成第一发光区域;以及通过从所述第一发光区域发射第一光,在所述第一发光区域上形成第一颜色调节图案,其中,所述第一发光区域的形成包括:提供第一半导体层、第一有源层和第二半导体层,所述第一有源层在所述第一半导体层和所述第二半导体层之间;提供电连接所述支撑衬底和所述第一半导体层的第一接触;以及提供电连接到所述第二半导体层的第一初始公共电极。2.根据权利要求1所述的方法,其中,在所述支撑衬底上形成所述第一发光区域包括:在生长衬底上顺序地形成所述第二半导体层、所述第一有源层和所述第一半导体层;在所述第一半导体层上形成所述第一接触;在所述第一接触上形成所述支撑衬底;去除所述生长衬底;以及在所述第二半导体层的通过去除所述生长衬底而暴露的表面上形成所述第一初始公共电极。3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述支撑衬底直接接合到所述第一接触。4.根据权利要求2所述的方法,还包括:在所述支撑衬底和所述第一接触之间形成接合层,其中,所述支撑衬底和所述第一接触通过所述接合层彼此接合。5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述第一颜色调节图案的形成包括:在所述第一有源层上提供第一颜色调节材料层;通过将所述第一光发射到所述第一颜色调节材料层而固化所述第一颜色调节材料层的一部分;以及去除所述第一颜色调节材料层的未固化部分。6.根据权利要求1所述的方法,还包括:在所述第二半导体层的上表面上提供第一光提取图案。7.根据权利要求1所述的方法,其中,形成所述第一发光区域还包括:形成第一初始驱动晶体管,其中,所述第一初始驱动晶体管的源极区电连接到所述第一接触。8.根据权利要求1所述的方法,还包括:在所述支撑衬底上形成第二发光区域;以及通过从所述第二发光区域发射第二光,在所述第二发光区域上形成第二颜色调节图案,其中,所述第二发光区域的形成包括:提供第三半导体层;在所述第三半导体层上提供第四半导体层;在所述第三半导体层和所述第四半导体层之间提供第二有源层;
提供电连接所述支撑衬底和所述第三半导体层的第二接触;以及提供电连接到所述第四半导体层的第二初始公共电极,其中,所述第一发光区域和所述第二发光区域沿着与所述支撑衬底的上表面平行的第一方向彼此间隔开。9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一光的发射包括:将第一电压施加到所述第一初始公共电极;将不同于所述第一电压的第二电压施加到所述第二初始公共电极;以及将接地电压施加到所述支撑衬底,其中,所述第一电压的大小大于所述第二电压的大小。10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述第二光的发射包括:将第三电压施加到所述第一初始公共电极;将不同于所述第三电压的第四电压施加到所述第二初始公共电极;以及将接地电压施加到所述支撑衬底,其中,所述第四电压的大小大于所述第三电压的大小。11.根据权利要求8所述的方法,还包括:在所述第一发光区域和所述第二发光区域之间形成隔离区域;其中,所述隔离区域通过离子注入工艺形成。12.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第二颜色调节图案的形成包括:在所述第二发光区域上提供第二颜色调节材料层;通过将所述第二光照射到所述第二颜色调节材料层而固化所述第二颜色调节材料层的一部分;以及去除所述第二颜色调节材料层的未固化部分。13.根据权利要求8所述的方法,还包括在所述第一颜色调节图案和所述第二颜色调节图案之间形成光吸收分隔壁。14.根据权利要求13所述的方法,还包括:在所述光吸收分隔壁和所述第一颜色调节图案之间形成第一反射膜;以及在所述光吸收分隔壁和所述第二颜色调节图案之间形成第二反射膜。15.根据权利要求14所述的方法,还包括在所述光吸收分隔壁的上表面上形成第三反射膜。16.根据权利要求8所述的方法,还包括:在所述第一颜色调节图案和所述第二颜色调节图案之间形成绝缘分隔壁;在所述绝缘分隔壁和所述第一颜色调节图案之间形成第一反射膜;以及在所述绝缘分隔壁和所述第二颜色调节图案之间形成第二反射膜,其中,所述绝缘分隔壁具有透光性。17.根据权利要求16所述的方法,其中,所述绝缘分隔壁的宽度在垂直于所述支撑衬底的所述上表面的第二方向上减小,以及其中,所述绝缘分隔壁的所述宽度是所述绝缘分隔壁的沿所述第一方向的尺寸。
18.根据权利要求16所述的方法,其中,所述绝缘分隔壁的宽度是恒定的,其中,所述绝缘分隔壁的宽度是所述绝缘分隔壁的沿所述第一方向的尺寸。19.根据权利要求8所述的方法,还包括:在所述第一颜色调节图案上形成第一滤色器;以及在所述第二颜色调节图案上形成第二滤色器,其中,所述第一滤色器允许第一颜色光通过,所述第二滤色器允许第二颜色光通过,所述第一颜色光不同于所述第二颜色光。20.一种制造显示装置的方法,所述方法包括:在生长衬底上形成第一半导体层;在所述第一半导体层上形成沿第一方向布置的有源图案,所述第一方向与所述第一半导体层的上表面平行;在所述有源图案上分别形成第二半导体层;在所述第二半导体层上分别形成一个或更多个接触;将支撑衬底接合到所述一个或更多个接触上;去除所述生长衬底;在所述有源图案的与所述第二半导体层相反的一侧上形成分别对应于所述有源图案中的一个或更多个有源图案的一个或更多个初始公共电极;以及通过从所述有源图案发射光而在所述有源图案上分别形成颜色调节图案。21.根据权利要求20所述的方法,还包括:通过对由去除所述生长衬底而暴露的所述第一半导体层执行蚀刻工艺,减小所述第一半导体层的厚度。22.根据权利要求20所述的方法,还包括图案化所述第一半导体层以分别在所述有源图案上形成光提取图案。23.根据权利要求20所述的方法,还包括在所述初始公共电极中分别形成开口,所述开口暴露所述第一半导体层。24.根据权利要求20所述的方法,其中去除所述生长衬底包括对所述生长衬底执行抛光工艺和干蚀刻工艺,其中所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:金洛铉,崔濬熙,孔基毫,郑得锡,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:
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