工件盘镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种工件盘镀膜装置，包括：真空室，所述真空室的底部安装有蒸发源和/或溅射源；公转传动件，设置于所述真空室内，并与设置于所述真空室外的公转电机传动连接；自转电机，设置于所述真空室内，并通过密封件与所述真空室的其余空间相隔离，所述自转电机与所述公转传动件相连接，并随所述公转传动件绕所述公转电机的轴线公转；所述自转电机的电机线依次经所述公转传动件内部、所述公转电机的空心轴内部由导电滑环导出至所述真空室外。自转电机和公转传动件均通过空心轴的气连通结构与外界大气相连，使得自转电机可以采用非真空电机的形式，使用普通电机即可，从而降低了设备成本，延长了电机的使用寿命，保证了镀膜质量。质量。质量。

【技术实现步骤摘要】
工件盘镀膜装置


[0001]本技术涉及光学薄膜制备
，尤其涉及一种工件盘镀膜装置。

技术介绍

[0002]在光学薄膜制备过程中，可采用溅射法进行制备，为了保证镀膜均匀，多采用能够自转和公转的工件盘镀膜装置。在现有方案中，由于带动基片转动的自转电机需要处于真空腔内，因此自转电机使用的是真空电机。但是，真空电机的价格比普通电机贵很多，导致设备成本较高；并且，真空环境中没有空气对流，电机散热很难解决，长时间使用容易损坏，影响电机使用寿命；同时，真空电机中要使用大量润滑脂，镀膜环境中需要加热，温度高了润滑脂会污染真空环境，影响镀膜质量。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本技术提供一种工件盘镀膜装置，以至少部分解决现有技术中存在的问题。
[0004]为解决上述问题，本技术提供一种工件盘镀膜装置，包括：
[0005]真空室，所述真空室的底部安装有蒸发源和/或溅射源；
[0006]公转传动件，所述公转传动件设置于所述真空室内，并与设置于所述真空室外的公转电机传动连接；
[0007]自转电机，所述自转电机设置于所述真空室内，并通过密封件与所述真空室的其余空间相隔离，所述自转电机与所述公转传动件相连接，并随所述公转传动件绕所述公转电机的轴线公转；所述自转电机的电机线依次经所述公转传动件内部、所述公转电机的空心轴内部由导电滑环导出至所述真空室外；
[0008]基片，所述基片设置于所述公转传动件外，并通过自转磁流体密封轴与所述自转电机的输出轴传动连接。
[0009]进一步地，所述公转传动件包括：
[0010]公转箱体，所述自转电机安装于所述公转箱体内，所述基片安装于所述公转箱体外，所述自转磁流体密封轴穿过所述公转箱体的底壁，并将所述自转电机的输出轴与所述基片传动连接；
[0011]所述公转箱体形成所述密封件，所述自转电机的电机线经所述公转箱体内部进入所述公转电机的空心轴内部。
[0012]进一步地，所述公转传动件包括：
[0013]公转盘，所述公转盘与所述公转电机传动连接，所述自转电机安装于所述公转盘上。
[0014]进一步地，所述密封件包括：
[0015]电机罩，所述电机罩罩设于所述自转电机和所述自转磁流体密封轴外，所述电机罩通过波纹管与所述公转电机的空心轴相连接，所述自转电机的电机线经所述波纹管的内
部进入所述公转电机的空心轴内部。
[0016]进一步地，所述自转电机设置有多组，各所述自转电机分别通过所述自转磁流体密封轴与所述基片一一对应地相连接。
[0017]进一步地，所述公转传动件与所述公转电机的空心转子相连接，所述公转电机的定子通过公转磁流体密封轴与所述真空室相连接。
[0018]进一步地，还包括：
[0019]卡盘，所述基片通过所述卡盘可拆卸地安装于所述自转磁流体密封轴。
[0020]在上述一种或几种具体实施方式中，本技术所提供的工件盘镀膜装置具有如下技术效果：
[0021]该装置设置了公转传动件和将自转电机与真空室相隔离的密封件，使得所述自转电机设置于所述真空室内，并通过密封件与所述真空室的其余空间相隔离，所述自转电机的电机线依次经所述公转传动件内部、所述公转电机的空心轴内部由导电滑环导出至所述真空室外。这样，自转电机和公转传动件均通过空心轴的气连通结构与外界大气相连，使得自转电机可以采用非真空电机的形式，使用普通电机即可，从而降低了设备成本；并且，由于与大气连通，使得自转电机所处的环境存在空气对流，实现了电机散热，延长了电机的使用寿命；同时，电机环境与大气连通，与真空室隔绝，避免了润滑脂污染真空环境。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
[0023]图1为本技术所提供的工件盘镀膜装置在一种实施例中的结构示意图；
[0024]图2为图1所示工件盘镀膜装置的纵向剖视图；
[0025]图3为本技术所提供的工件盘镀膜装置在另一种实施例中的结构示意图；
[0026]图4为图3所示工件盘镀膜装置的纵向剖视图。
[0027]附图标记说明：
[0028]1‑
真空室
ꢀꢀ2‑
公转箱体
ꢀꢀ3‑
基片
ꢀꢀ4‑
溅射源
ꢀꢀ5‑
蒸发源
ꢀꢀ6‑
公转电机
[0029]7‑
导电滑环
ꢀꢀ8‑
电机线
ꢀꢀ9‑
公转磁流体密封轴
ꢀꢀ
10
‑
自转磁流体密封轴
[0030]11
‑
自转电机
ꢀꢀ
12
‑
电机罩
ꢀꢀ
13
‑
波纹管
ꢀꢀ
14
‑
公转盘
具体实施方式
[0031]下面结合附图对本技术实施例进行详细描述。
[0032]需说明的是，在不冲突的情况下，以下实施例及实施例中的特征可以相互组合；并且，基于本公开中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
[0033]需要说明的是，下文描述在所附权利要求书的范围内的实施例的各种方面。应显而易见，本文中所描述的方面可体现于广泛多种形式中，且本文中所描述的任何特定结构及/或功能仅为说明性的。基于本公开，所属领域的技术人员应了解，本文中所描述的一个
方面可与任何其它方面独立地实施，且可以各种方式组合这些方面中的两者或两者以上。举例来说，可使用本文中所阐述的任何数目个方面来实施设备及/或实践方法。另外，可使用除了本文中所阐述的方面中的一或多者之外的其它结构及/或功能性实施此设备及/或实践此方法。
[0034]在一种具体实施方式中，如图1
‑
4所示，本技术提供的工件盘镀膜装置用于溅射法或蒸发法真空镀膜工艺中，其包括真空室1、公转传动件、自转电机11和基片3。其中，所述真空室1的底部安装有蒸发源5和/或溅射源4，真空室1作为镀膜的主要工作场所，通过蒸发源5和/或溅射源4向工件上喷射镀膜材料；真空室1中可仅设置蒸发源5或仅设置溅射源4，也可以既设置蒸发源5，又设置溅射源4。
[0035]公转传动件设置于所述真空室1内，并与设置于所述真空室1外的公转电机6传动连接，公转传动件用于将真空室1外的公转电机6的运动传递给真空室1内的自转电机11，从而带动自转电机11的公转。
[0036]上述自转电机11设置于所述真空室1内，并通过密封件与所述真空室1的其余空间相隔离；也就是说，自转电机11处于与大气的连通状态本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种工件盘镀膜装置，其特征在于，包括：真空室(1)，所述真空室(1)的底部安装有蒸发源(5)和/或溅射源(4)；公转传动件，所述公转传动件设置于所述真空室(1)内，并与设置于所述真空室(1)外的公转电机(6)传动连接；自转电机(11)，所述自转电机(11)设置于所述真空室(1)内，并通过密封件与所述真空室(1)的其余空间相隔离，所述自转电机(11)与所述公转传动件相连接，并随所述公转传动件绕所述公转电机(6)的轴线公转；所述自转电机(11)的电机线(8)依次经所述公转传动件内部、所述公转电机(6)的空心轴内部由导电滑环(7)导出至所述真空室(1)外；基片(3)，所述基片(3)设置于所述公转传动件外，并通过自转磁流体密封轴(10)与所述自转电机(11)的输出轴传动连接。2.根据权利要求1所述的工件盘镀膜装置，其特征在于，所述公转传动件包括：公转箱体(2)，所述自转电机(11)安装于所述公转箱体(2)内，所述基片(3)安装于所述公转箱体(2)外，所述自转磁流体密封轴(10)穿过所述公转箱体(2)的底壁，并将所述自转电机(11)的输出轴与所述基片(3)传动连接；所述公转箱体(2)形成所述密封件，所述自转电机(11)的电机线(8)经所述公转箱体(2)内部进入所述公转电机(6)的空心轴内部。3.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘亮，闫海涛，
申请(专利权)人：布勒莱宝光学设备北京有限公司，
类型：新型
国别省市：