一种用于晶片衬底片的金刚石研磨液制造技术

一种用于晶片衬底片的金刚石研磨液，其属于精细化工技术领域。该研磨液中醇醚有机溶剂的加入，使该研磨液的表面张力降低，增加了润湿渗透能力。多功能金属离子捕捉剂的分子结构中含有酰胺官能团，酰胺键与一个氧原子相连。金属离子捕捉剂与有机溶剂的协同作用可显著降低研磨屑对晶片表面以及边缘的吸附力，易被冲洗，避免将研磨屑带入去蜡槽。并且采用高性能的分散剂对金刚石微粉进行均匀分散，是研磨液具有良好的分散稳定性。液具有良好的分散稳定性。液具有良好的分散稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种用于晶片衬底片的金刚石研磨液


[0001]本专利技术涉及研磨液领域，尤其涉及一种研磨后易清洗的金刚石研磨液，属于精细化工领域。

技术介绍

[0002]金刚石研磨液由磨粒分散于介质制备而成，是一种具有优良化学机械性能的研磨产品，可用于硅片、工程陶瓷、化合物晶体、精密光学器件、液晶面板、宝石、金属工件等的研磨抛光。
[0003]在晶片衬底制程中的研磨、抛光工序后，需要对研磨颗粒的残留、有机物的残留、金属氧化物的残留等进行清洗。清洗效果对后端制程有着重要的影响，因此不仅对研磨后的清洗剂有着较高的要求，也对研磨液的易清洗能力提出了新的要求。例如在蓝宝石衬底片铜抛研磨后，晶片表面会有磨屑残留，这些残留需要初步使用去离子水对陶瓷盘上的晶片表面磨屑进行清洗(尤其是片子边缘的粘贴蜡更容易吸附研磨屑等)，得到符合质量要求的蓝宝石晶片，才能进一步放入去蜡槽里进行清洗。若该步骤磨屑不易被水冲洗，将会被带到去蜡槽里，造成电极的污染。
[0004]目前，常用的金刚石研磨液通常使用的是混合烷烃类溶剂如白油、煤油等，该类研磨液移除率高、成本低等优点，但是本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于晶片衬底片的金刚石研磨液，其特征在于，它包括的组分及其质量百分比为：金刚石微粉0.5
‑
5％；表面活性剂0.1
‑
5％；金属离子捕捉剂0.1
‑
5％；分散剂0.1
‑
10％；润滑剂15
‑
70％；醇醚类有机溶剂20
‑
60％；所述金刚石微粉为非团聚的粉末，粒度为2
‑
10微米；所述金属离子捕捉剂为甘氨酸、赖氨酸、氨基三甲叉膦酸、三乙烯四乙二胺四亚甲基膦酸、乙二胺二邻苯基乙酸钠中的一种或多种；所述分散剂为聚丙烯酸酯、聚丙烯酸盐、聚羧酸盐、嵌段磷酸酯聚合物；所述表面活性剂为聚氧乙烯烷基胺、聚氧乙烯烷基醇酰胺、聚炔醇或脂肪...

【专利技术属性】
技术研发人员：侯军，王凯丽，
申请(专利权)人：江苏奥首材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：