光聚合物组合物制造技术

本公开内容涉及光聚合物组合物，使用其的全息图记录介质、光学元件和全息记录方法，所述光聚合物组合物包含具有预定化学结构的聚合物基体或其前体；光反应性单体；和光引发剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光聚合物组合物
相关申请的交叉引用本申请要求于2019年7月2日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2019-0079367号的优先权和权益，其公开内容通过引用整体并入本文。本公开内容涉及光聚合物组合物、全息图记录介质、光学元件和全息记录方法。
技术介绍
全息图(hologram)记录介质通过经由曝光过程改变介质中的全息记录层的折射率来记录信息，读取由此记录的介质中的折射率变化，并使信息再现。当使用光聚合物(光敏树脂)时，通过低分子量单体的光聚合可以容易地将光干涉图案存储为全息图。因此，光聚合物可以用于各种领域，例如光学透镜；反射镜；偏转镜；滤光器；漫射屏；衍射元件；光导；波导；具有投影屏和/或掩模功能的全息光学元件；光漫射板和光学存储系统的介质；光学波长多路复用器；反射型、透射型滤色器；等等。通常，用于全息图制造的光聚合物组合物包含聚合物粘合剂、单体和光引发剂，并且用激光干涉光照射由这样的组合物制造的光敏膜以诱导局部单体的光聚合。在这样的光聚合过程中，在存在相对大量的单体的部分中，折射率变高。而在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于形成全息图记录介质的光聚合物组合物，包含：/n通过使含有至少一个硅烷官能团(Si-H)的基于硅氧烷的聚合物与(甲基)丙烯酸多元醇交联而形成的聚合物基体或其前体；光反应性单体；和光引发剂。/n

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20190702 KR 10-2019-00793671.一种用于形成全息图记录介质的光聚合物组合物，包含：
通过使含有至少一个硅烷官能团(Si-H)的基于硅氧烷的聚合物与(甲基)丙烯酸多元醇交联而形成的聚合物基体或其前体；光反应性单体；和光引发剂。


2.根据权利要求1所述的光聚合物组合物，其中所述含有至少一个硅烷官能团(Si-H)的基于硅氧烷的聚合物包含由以下化学式1表示的重复单元或由以下化学式2表示的重复单元：
[化学式1]



在化学式1的各所述重复单元中，R1至R2彼此相同或不同并且为氢、卤素或具有1至10个碳原子的烷基，
n为所述重复单元的重复数，n为1至10,000，以及
在所述重复单元的至少一者中，R1为具有1至10个碳原子的烷基且R2为氢，
[化学式2]



在化学式2的各所述重复单元中，R11至R13彼此相同或不同并且为氢、卤素或具有1至10个碳原子的烷基，
n为所述重复单元的重复数，n为1至10,000，以及
在所述重复单元的至少一者中，R11和R13为具有1至10个碳原子的烷基，R12为氢，或者R11和R12为具有1至10个碳原子的烷基且R13为氢。


3.根据权利要求1所述的光聚合物组合物，其中所述含有至少一个硅烷官能团(Si-H)的基于硅氧烷的聚合物的数均分子量为200至4,000。


4.根据权利要求1所述的光聚合物组合物，其中所述丙烯酸多元醇具有其中两个或更多个羟基键合至基于(甲基)丙烯酸酯的聚合物的主链或侧链的结构，并且
具有200,000至1,000,000的重均分子量。

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【专利技术属性】
技术研发人员：张锡勋，金宪，权洗铉，张影来，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：韩国;KR