【技术实现步骤摘要】
一种硅片清洗架
本技术涉及硅片加工设备
,具体是指一种硅片清洗架。
技术介绍
硅片的制备工艺主要包括清洗、去损伤层、制绒、扩散制结、刻蚀、沉积减反射膜、丝网印刷、烧结、电池片测试等。现有的清洗架就是一个过滤篮结构,将硅片叠放在一起,进行清洗,相邻的硅片会因为叠放紧贴,局部压力过大,导致硅片碎裂,而且硅片与硅片贴合的一面清洗不到,清洗效果差。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是克服上述技术的缺陷,提供一种硅片清洗架。为解决上述技术问题,本技术提供的技术方案为:一种硅片清洗架,包括清洗箱和设置在清洗箱内的架体,所述清洗箱的上端设有冲水盘,所述冲水盘上设有冲洗喷头,所述冲水盘的一端通过输液管连接有储液箱,所述储液箱内设有泵机,所述架体为圆盘形结构,所述架体沿圆周方向均匀排布有放置硅片的插片孔,所述插片孔倾斜设置,所述插片孔的两端设有固定块,所述固定块朝向硅片的一侧设有缓冲垫,所述架体的下端设有伸缩的底板,所述底板上设有漏液孔,所述架体的中心处设有螺纹孔,所述螺纹孔内转动设有丝杆,所述丝杆的一端与清 ...
【技术保护点】
1.一种硅片清洗架,包括清洗箱(1)和设置在清洗箱(1)内的架体(2),其特征在于:所述清洗箱(1)的上端设有冲水盘(3),所述冲水盘(3)上设有冲洗喷头(4),所述冲水盘(3)的一端通过输液管(5)连接有储液箱(6),所述储液箱(6)内设有泵机(7),所述架体(2)为圆盘形结构,所述架体(2)沿圆周方向均匀排布有放置硅片的插片孔(8),所述插片孔(8)倾斜设置,所述插片孔(8)的两端设有固定块(9),所述固定块(9)朝向硅片的一侧设有缓冲垫(10),所述架体(2)的下端设有伸缩的底板(11),所述底板(11)上设有漏液孔(12),所述架体(2)的中心处设有螺纹孔,所述螺纹 ...
【技术特征摘要】
1.一种硅片清洗架,包括清洗箱(1)和设置在清洗箱(1)内的架体(2),其特征在于:所述清洗箱(1)的上端设有冲水盘(3),所述冲水盘(3)上设有冲洗喷头(4),所述冲水盘(3)的一端通过输液管(5)连接有储液箱(6),所述储液箱(6)内设有泵机(7),所述架体(2)为圆盘形结构,所述架体(2)沿圆周方向均匀排布有放置硅片的插片孔(8),所述插片孔(8)倾斜设置,所述插片孔(8)的两端设有固定块(9),所述固定块(9)朝向硅片的一侧设有缓冲垫(10),所述架体(2)的下端设有伸缩的底板(11),所述底板(11)上设有漏液孔(12),所述架体(2)的中心处设有螺纹孔,所述螺纹孔内转动设有丝杆(13),所述丝杆(13)的一端与清洗箱(1)转动连接,所述丝杆(13)的另一端通过联轴器连接有驱动电机(14),所述驱动电机(14)固定在清洗箱(1)上,所述清洗箱(1)的底部设有蓄水池(15),所述蓄水池(15)内设有超声波清洗器...
【专利技术属性】
技术研发人员:闫善韵,
申请(专利权)人:昆山林赛自动化科技有限公司,
类型:新型
国别省市:江苏;32
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