一种晶圆清洗设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶圆清洗设备，包括箱体，所述箱体的正面固定连接有缓冲箱，所述箱体的背面固定连接有操作箱。本实用新型专利技术通过箱体、缓冲箱、操作箱、电机、U型轴、传动杆、活动座、第一移动杆、第一挡板、筛框、第二挡板、第二移动杆、移动板、滑轮、支撑板、水箱、抽水管、水泵、出水管、喷水管、进水管、排水管、凹槽、过滤板、通孔、滑槽、滑块、弹簧和喷头的设置，达到了清洗效果好且具备水循环功能的优点，解决了现有的清洗设备清洗效果差且不具备水循环功能的问题，当人们使用清洗设备时，可以有效的对晶圆原料进行清洗，不会导致晶圆原料清洗不彻底，不影响晶圆生产的质量，且清洗后的水能重复利用。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆清洗设备
本技术涉及晶圆生产加工
，具体为一种晶圆清洗设备。
技术介绍
晶圆是指制作硅半导体积体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅，高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅，硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆，晶圆在生产加工过程中会用到清洗设备。目前现有的清洗设备，清洗效果差且不具备水循环功能，当人们使用清洗设备时，无法有效的对晶圆原料进行清洗，导致晶圆原料清洗不彻底，影响晶圆生产的质量，且清洗后的水不能重复利用，浪费水资源，不方便人们使用。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种晶圆清洗设备，具备清洗效果好且具备水循环功能的优点，解决了现有的清洗设备清洗效果差且不具备水循环功能的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种晶圆清洗设备，包括箱体，所述箱体的正面固定连接有缓冲箱，所述箱体的背面固定连接有操作箱，所述操作箱内腔底部的后侧固定连接有电机，所述电机的输出端固定连接有U型轴，所述U型轴的表面通过活动轴活动连接有传动杆，所述传动杆的正面通过本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种晶圆清洗设备，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)的正面固定连接有缓冲箱(2)，所述箱体(1)的背面固定连接有操作箱(3)，所述操作箱(3)内腔底部的后侧固定连接有电机(4)，所述电机(4)的输出端固定连接有U型轴(5)，所述U型轴(5)的表面通过活动轴活动连接有传动杆(6)，所述传动杆(6)的正面通过活动轴活动连接有活动座(7)，所述活动座(7)的正面固定连接有第一移动杆(8)，所述第一移动杆(8)的正面贯穿至箱体(1)的内腔并固定连接有第一挡板(9)，所述第一挡板(9)的正面固定连接有筛框(10)，所述筛框(10)的正面固定连接有第二挡板(11)，所述第二挡板(11)的正面固...

【技术特征摘要】
1.一种晶圆清洗设备，包括箱体(1)，其特征在于：所述箱体(1)的正面固定连接有缓冲箱(2)，所述箱体(1)的背面固定连接有操作箱(3)，所述操作箱(3)内腔底部的后侧固定连接有电机(4)，所述电机(4)的输出端固定连接有U型轴(5)，所述U型轴(5)的表面通过活动轴活动连接有传动杆(6)，所述传动杆(6)的正面通过活动轴活动连接有活动座(7)，所述活动座(7)的正面固定连接有第一移动杆(8)，所述第一移动杆(8)的正面贯穿至箱体(1)的内腔并固定连接有第一挡板(9)，所述第一挡板(9)的正面固定连接有筛框(10)，所述筛框(10)的正面固定连接有第二挡板(11)，所述第二挡板(11)的正面固定连接有第二移动杆(12)，所述第二移动杆(12)的正面贯穿至缓冲箱(2)的内腔并固定连接有移动板(13)，所述筛框(10)底部的四周固定连接有滑轮(14)，所述滑轮(14)的底部设置有支撑板(15)，所述支撑板(15)的两侧与箱体(1)内腔的两侧固定连接，所述支撑板(15)的顶部与滑轮(14)的底部接触，所述支撑板(15)的底部固定连接有水箱(16)，所述水箱(16)的底部与箱体(1)内腔的底部固定连接，所述水箱(16)的两侧均连通有抽水管(17)，所述抽水管(17)远离水箱(16)的一端连通有水泵(18)，所述水泵(18)的内侧通过支撑座与箱体(1)的两侧固定连接，所述水泵(18)的顶部连通有出水管(19)，所述出水管(19)远离水泵(18)的一端贯穿至箱体(1)的内腔并连通有喷水管(20)，所述喷水管(20)的内侧连通有喷头(29)。...

【专利技术属性】
技术研发人员：张心晖，
申请(专利权)人：上海耀烁电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：上海;31