显影浓度控制系统的脱气装置、方法及显影浓度控制系统制造方法及图纸

本发明专利技术公开了显影浓度控制系统的脱气装置、方法及显影浓度控制系统，其中，脱气装置包括脱气模块、联动阀门、隔膜真空泵，脱气模块通过管道连接采样泵，接收采样泵传输的显影液样本，脱气模块连接显影液浓度监测模块并将脱气处理后的显影液传输给显影液浓度监测模块；联动阀门设置于连接脱气模块和隔膜真空泵的管道上，当隔膜真空泵停止时联动阀门开启、脱气模块和联动阀门之间的管道失去真空状态，当隔膜真空泵启动时联动阀门关闭。本发明专利技术的技术方案可以提高显影浓度监测的准确度并避免隔膜泵再启动时故障。

【技术实现步骤摘要】
显影浓度控制系统的脱气装置、方法及显影浓度控制系统
本专利技术涉及平板显示
，具体地涉及一种显影浓度控制系统的脱气装置、脱气方法及显影浓度控制系统。
技术介绍
由于全球信息社会的兴起，以及科技的发展，显示
日新月异，显示技术种类也越来越多，例如包括传统的液晶显示技术，蓝相液晶显示技术，有机电致发光二极管(OrganicLightEmittingDiode，OLED)显示技术，电泳显示技术等。在显示
，液晶基板、印刷电路板等的制造工程需要进行显影处理，而显影处理中对显影液的浓度进行监测和控制非常重要。四甲基氢氧化铵(TMAH，分子式C4H13NO)，是一种在半导体制程光刻工艺时使用到的显影液主要成分。在湿法刻蚀工艺中，越来越多的半导体芯片厂或者面板厂逐步倾向于使用TMAH作为显影液的主要成分，而监测显影液中TMAH的浓度可帮助用户控制刻蚀效果，提高刻蚀效果的质量与效率。目前的显影浓度控制系统(DeveloperControlSystem,DCS)采样过程如下：采样泵(SamplingPump)抽取显影机显影液盒(tank)内的显本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显影浓度控制系统的脱气装置(1)，其特征在于，包括脱气模块(11)、联动阀门(12)、隔膜真空泵(13)，/n所述脱气模块(11)通过管道连接采样泵(2)，接收采样泵(2)传输的显影液样本，所述脱气模块(11)连接显影液浓度监测模块(3)并将脱气处理后的显影液传输给所述显影液浓度监测模块(3)；/n所述联动阀门(12)设置于连接所述脱气模块(11)和所述隔膜真空泵(13)的管道上，当所述隔膜真空泵(13)停止时所述联动阀门(12)开启使得所述脱气模块(11)和所述联动阀门(12)之间的管道失去真空状态，当所述隔膜真空泵(13)启动时所述联动阀门(12)关闭。/n

【技术特征摘要】
1.一种显影浓度控制系统的脱气装置(1)，其特征在于，包括脱气模块(11)、联动阀门(12)、隔膜真空泵(13)，
所述脱气模块(11)通过管道连接采样泵(2)，接收采样泵(2)传输的显影液样本，所述脱气模块(11)连接显影液浓度监测模块(3)并将脱气处理后的显影液传输给所述显影液浓度监测模块(3)；
所述联动阀门(12)设置于连接所述脱气模块(11)和所述隔膜真空泵(13)的管道上，当所述隔膜真空泵(13)停止时所述联动阀门(12)开启使得所述脱气模块(11)和所述联动阀门(12)之间的管道失去真空状态，当所述隔膜真空泵(13)启动时所述联动阀门(12)关闭。


2.根据权利要求1所述的显影浓度控制系统的脱气装置，其特征在于，所述联动阀门(12)为定时阀。


3.一种显影浓度控制系统(5)，其特征在于，包括脱气装置(1)、采样泵(2)、显影液浓度监测模块(3)；
所述采样泵(2)通过管道连接显影液盒(4)并从显影液盒(4)抽取显影液样本；
所述脱气装置(1)包括脱气模块(11)、联动阀门(12)、隔膜真空泵(13)，
所述脱气模块(11)通过管道连接采样泵(2)，接收采样泵(2)传输的显影液样本，所述脱气模块(11)连接显影液浓度监测模块(3)并将脱气处理后的显影液传输给所述显影液浓度监测模块(3)，
所述联动阀门(12)设置于连接所述脱气模块(11)和所述隔膜真空泵(13)的管道上，当所述隔膜真空泵(13)停止时所述联动阀门(12)开...

【专利技术属性】
技术研发人员：韦智强，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东;44