本实用新型专利技术公开了一种二极管酸洗设备,包括酸液箱、酸洗箱和回收池,酸液箱通过供液管与酸洗箱上部相连通,供液管上设有进液阀和进液泵,酸洗箱下部通过出液管与回收池相连通,出液管上设有排液阀,酸液箱顶部设有进酸管,酸液箱内部设有温控装置,酸洗箱内底部开设有环状滑槽,酸洗箱内下部横向设置有转动盘,转动盘底部设置有滑动块,滑动块滑动设置在环状滑槽内,酸洗箱底部设置有驱动电机,驱动电机的输出端贯穿酸洗箱底部与转动盘底部中间处相连接,转动盘上方设置有酸洗框,酸洗框底部与转动盘顶部之间设有摆动装置。其保持酸洗箱内酸洗溶液温度恒定,并使得二极管表面与酸洗溶液充分接触,提高了二极管的酸洗效率和酸洗效果。
【技术实现步骤摘要】
一种二极管酸洗设备
本技术涉及二极管生产设备
,具体涉及一种二极管酸洗设备。
技术介绍
二极管是是指利用半导体特性的两端电子器件,最常见的半导体二极管是PN结型二极管和金属半导体接触二极管。它们的共同特点是伏安特性的不对称性,即电流沿其一个方向呈现良好的导电性,而在相反方向呈现高阻特性。可用作为整流、检波、稳压、恒流、变容、开关、发光及光电转换等。二极管在制造过程中需要经过酸洗,即利用各种酸和水,对芯片P-N结周围边缘表面进行化学腐蚀,以改善机械损伤,祛除表面吸附的杂质,降低表面电场,使P-N结的击穿首先从体内发生,以获得于理论值接近的反向击穿电压和极小的表面漏电流,因此,酸洗效果的好坏对二极管的成品质量起到重要的影响作用。而现有的二极管酸洗设备在使用时存在以下缺陷:(1)现有的酸洗设备在酸洗操作时,通常是将二极管直接放置在酸洗板上,通过喷头对二极管进行酸洗,由于酸洗板及二极管在酸洗设备内的位置基本是固定的,因此二极管下部及相互重叠部分很难与酸洗溶液充分接触,导致二极管表面酸洗均匀性差;(2)现有的酸洗设备无法实时对酸洗溶液温度进行调节,导致酸洗设备内酸洗溶液的温度不稳定,进而导致二极管的酸洗达不到要求。
技术实现思路
为了解决上述
技术介绍
中存在的问题,本技术提供一种二极管酸洗设备,其保持酸洗箱内酸洗溶液温度恒定,并使得二极管表面与酸洗溶液充分接触,提高了二极管的酸洗效率和酸洗效果。为了实现上述目的,本技术采用以下技术方案:本技术提供一种二极管酸洗设备,包括酸液箱、酸洗箱和回收池,所述酸液箱通过供液管与所述酸洗箱上部相连通,所述供液管上设有进液阀和进液泵,所述酸洗箱下部通过出液管与所述回收池相连通,所述出液管上设有排液阀,所述酸液箱顶部设有进酸管,所述酸液箱内部设有温控装置,所述酸洗箱内底部开设有环状滑槽,所述酸洗箱内下部横向设置有转动盘,所述转动盘底部设置有滑动块,所述滑动块滑动设置在所述环状滑槽内,所述酸洗箱底部设置有驱动电机,所述驱动电机的输出端贯穿所述酸洗箱底部与所述转动盘底部中间处相连接,所述转动盘上方设置有酸洗框,所述酸洗框底部与所述转动盘顶部之间设有摆动装置。进一步地改进在于,所述摆动装置包括固定件、调节杆、滑块、滑动杆和支撑件,所述滑动杆位于所述转动盘上方,且所述滑动杆两端分别通过支撑件固定在所述转动盘顶部,所述固定件固定在所述酸洗框底部,所述固定件底部两侧分别铰接设置有滑动杆,所述滑动杆底部通过滑块与所述滑动杆滑动连接,位于所述滑块与靠近于其一侧的支撑件之间的滑动杆外侧设有第一弹性件。工作时,在驱动电机的带动下转动盘旋转,滑动杆底部滑块沿滑动杆左右移动,进而带动酸洗框在酸洗箱内的酸洗溶液中上下晃动,以增加酸洗框内的二极管与酸洗溶液的接触面积,提高酸洗效果,通过第一弹性件可对酸洗框上下晃动过程进行缓冲,避免酸洗框上下运动幅度过大对二极管造成损坏。进一步地改进在于,所述摆动装置相对两侧分别设置有辅助摆动装置,所述辅助摆动装置包括升降杆、固定杆、升降腔和第二弹性件,所述固定杆沿竖直方向固定设置在所述转动盘顶部,所述固定杆顶部开设有升降腔,所述升降杆一端固定设置在所述酸洗框底部,所述升降杆另一端活动设置在所述升降腔内,所述升降杆上部外侧套设有所述第二弹性件。通过辅助摆动装置中升降杆、固定杆、升降腔和第二弹性件的配合作用,使得酸洗框两侧受力平衡,使得酸洗框上下晃动更加均匀,避免酸洗框发生倾斜。进一步地改进在于,所述温控装置包括制热制冷盘管、压缩机和温度传感器,所述温度传感器固定设置在所述酸洗箱内侧壁,所述制热制冷盘管安装在所述酸液箱内,且所述制热制冷盘管与位于所述酸液箱外侧的压缩机相连接。通过温度传感器可实时检测酸洗箱内温度变化,通过制热制冷盘管和压缩机可实现对酸液箱的酸洗溶液进行冷却和加热,从而保证了酸洗箱内酸洗溶液温度在一定范围内维持恒定,保证了二极管的酸洗效果。进一步地改进在于,所述酸洗框侧壁和底部均呈镂空结构。与现有技术相比,本技术具有如下有益效果:本技术中通过设置酸液箱,并在酸液箱内设置温控装置,可对进入至酸洗箱内的酸洗溶液进行温度调控,使得酸洗箱内的酸洗溶液在一定范围内维持恒定,通过回收池对酸洗箱内使用后的酸洗溶液进行回收处理后再进行循环使用;通过在酸洗箱内设置转动盘,通过驱动电机带动转动盘转动,一方面可对酸洗溶液进行搅拌,保证了酸洗箱内各处酸洗溶液浓度的一致性,同时也带动了转动盘上方设置的酸洗框转动,使得酸洗框内二极管表面与酸洗溶液充分接触,转动过程中转动盘底部滑动块在酸洗箱内底部的环状滑槽内滑动,保证了转动盘及酸洗框转动过程的稳定性;通过酸洗框底部与转动盘顶部之间设置的摆动装置,可带动酸洗框在酸洗箱内的酸洗溶液中上下晃动,以进一步增加酸洗框内的二极管与酸洗溶液的接触面积,提高酸洗效果。附图说明下面结合附图与具体实施例对本技术作进一步详细说明。图1为本技术中二极管酸洗设备的外部结构示意图;图2为本技术中酸液箱的内部结构示意图;图3为本技术中酸洗箱的内部结构示意图;图4为本技术中酸洗箱内底部处结构示意图;图5为本技术中酸洗箱内摆动装置的结构示意图;图6为本技术中酸洗箱内辅助摆动装置的结构示意图;其中,具体附图标记为:酸液箱1,进酸管2,供液管3,进液阀4,进液泵5,制热制冷盘管6,压缩机7,酸洗箱8,环状滑槽9,转动盘10,滑动块11,驱动电机12,酸洗框13,摆动装置14,固定件15,调节杆16,滑块17,滑动杆18,支撑件19,第一弹性件20,辅助摆动装置21,升降杆22,固定杆23,升降腔24,第二弹性件25,出液管26,排液阀27,回收池28,控制装置29。具体实施方式本技术的实施例公开了一种二极管酸洗设备,如图1所示,包括酸液箱1、酸洗箱8和回收池28,酸液箱1通过供液管3与酸洗箱8上部相连通,供液管3上设有进液阀4和进液泵5,酸洗箱8下部通过出液管26与回收池28相连通,出液管26上设有排液阀27,酸液箱1顶部设有进酸管2,酸液箱1内部设有温控装置,如图3和图4所示,酸洗箱8内底部开设有环状滑槽9,酸洗箱8内下部横向设置有转动盘10,转动盘10底部设置有滑动块11,滑动块11滑动设置在环状滑槽9内,酸洗箱8底部设置有驱动电机12,驱动电机12的输出端贯穿酸洗箱8底部与转动盘10底部中间处相连接,转动盘10上方设置有酸洗框13,酸洗框13底部与转动盘10顶部之间设有摆动装置14,酸洗框13侧壁和底部均呈镂空结构。其中,如图5所示,摆动装置14包括固定件15、调节杆16、滑块17、滑动杆18和支撑件19,滑动杆18位于转动盘10上方,且滑动杆18两端分别通过支撑件19固定在转动盘10顶部,固定件15固定在酸洗框13底部,固定件15底部两侧分别铰接设置有滑动杆18,滑动杆18底部通过滑块17与滑动杆18滑动连接,位于滑块17与靠近于其一侧的支撑件19之间的滑本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种二极管酸洗设备,其特征在于,包括酸液箱、酸洗箱和回收池,所述酸液箱通过供液管与所述酸洗箱上部相连通,所述供液管上设有进液阀和进液泵,所述酸洗箱下部通过出液管与所述回收池相连通,所述出液管上设有排液阀,所述酸液箱顶部设有进酸管,所述酸液箱内部设有温控装置,所述酸洗箱内底部开设有环状滑槽,所述酸洗箱内下部横向设置有转动盘,所述转动盘底部设置有滑动块,所述滑动块滑动设置在所述环状滑槽内,所述酸洗箱底部设置有驱动电机,所述驱动电机的输出端贯穿所述酸洗箱底部与所述转动盘底部中间处相连接,所述转动盘上方设置有酸洗框,所述酸洗框底部与所述转动盘顶部之间设有摆动装置。/n
【技术特征摘要】
1.一种二极管酸洗设备,其特征在于,包括酸液箱、酸洗箱和回收池,所述酸液箱通过供液管与所述酸洗箱上部相连通,所述供液管上设有进液阀和进液泵,所述酸洗箱下部通过出液管与所述回收池相连通,所述出液管上设有排液阀,所述酸液箱顶部设有进酸管,所述酸液箱内部设有温控装置,所述酸洗箱内底部开设有环状滑槽,所述酸洗箱内下部横向设置有转动盘,所述转动盘底部设置有滑动块,所述滑动块滑动设置在所述环状滑槽内,所述酸洗箱底部设置有驱动电机,所述驱动电机的输出端贯穿所述酸洗箱底部与所述转动盘底部中间处相连接,所述转动盘上方设置有酸洗框,所述酸洗框底部与所述转动盘顶部之间设有摆动装置。
2.根据权利要求1所述的二极管酸洗设备,其特征在于,所述摆动装置包括固定件、调节杆、滑块、滑动杆和支撑件,所述滑动杆位于所述转动盘上方,且所述滑动杆两端分别通过支撑件固定在所述转动盘顶部,所述固定件固定在所述酸洗框底部,所述固定件底部两侧分别铰接设置有滑动杆...
【专利技术属性】
技术研发人员:郑刚,
申请(专利权)人:上海禾馥电子有限公司,
类型:新型
国别省市:上海;31
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。