可调高度真空吸平台模块制造技术

本发明专利技术公开了可调高度真空吸平台模块，属于晶圆片加工设备技术领域，它包括真空吸附平台；位置调整部件，真空吸附平台分为上中下三层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，真空吸附平台中层设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。本发明专利技术提出了一种可调高度真空吸平台模块，其吸附作用面积分为若干个区间，不同区间相互组合形成多种规格，用以适应晶圆的加工要求。

【技术实现步骤摘要】
可调高度真空吸平台模块
本专利技术涉及晶圆片加工设备
，更具体地说，涉及可调高度真空吸平台模块。
技术介绍
在公开号为CN1235270C的中国专利技术专利中，公开了一种切削机，其在阳螺纹轴上连接着电动马达，通过电动马达的正转及反转使滑动块沿着导轨朝向X轴方向移动。在滑动块上固定有圆筒状支承构件，在支承构件上以实质上垂直延伸的中心轴线为中心旋转自如地安装有吸附构件。在支承构件内配设有可用来使吸附构件旋转的电动马达的旋转驱动源。圆板状的吸附构件由像多孔性陶瓷的多孔性材料所形成。该专利中，吸附构件的吸附作用面积是固定的，只能吸附小于等于该吸附面积的晶圆。在miniLED、micronLED制造领域中，待加工的晶圆大小规格不一，应用上述专利中的吸附构件，不能满足市场需求。针对以上问题，本专利技术提出了一种可调高度真空吸平台模块，其吸附作用面积分为若干个区间，不同区间相互组合形成多种规格，用以适应晶圆的加工要求。
技术实现思路
本专利技术所采取的技术方案是：提供可调高度真空吸平台模块，包括：真空吸附平台；位置调整部件，用于在相互垂直的X轴和Y轴方向上移动所述真空吸附平台；其中，真空吸附平台分为上中下三层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，真空吸附平台中层设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。采用以上结构后，不同长度的导气槽以及与其连接的面板导槽构成了若干个气室区间，由气室区间组合构成不同大小面积的真空吸附表面，用于吸附不同规格大小的晶圆。作为优选，所述位置调整部件包括相互垂直堆叠的Y轴直线导轨和X轴直线导轨，Y轴直线导轨安装有第一伺服电机，第一伺服电机的输出轴连接有沿Y轴直线导轨线性方向设置的第一滚珠丝杆，X轴直线导轨与第一滚珠丝杆螺合，X轴直线导轨安装有第二伺服电机，第二伺服电机的输出轴连接有沿X轴直线导轨线性方向设置的第二滚珠丝杆，第一滚珠丝杆螺合有载板；位置调整部件能够在由X轴和Y轴构成的平面上自由移动真空吸附平台。作为优选，所述X轴直线导轨底部设有与所述Y轴直线导轨滑动连接的滑动块，所述载板与Y轴直线导轨滑动连接。作为优选，还包括高度调整部件，高度调整部件设置在所述位置调整部件的输出位置上，所述真空吸附平台安装在高度调整部件上。作为优选，所述高度调整部件包括有底座和水平设置在底座上的旋转驱动精密丝杠，旋转驱动精密丝杠螺合有楔形块，底座上竖直滑动连接有横截面为直角三角形的上平台，上平台的斜面与楔形块表面贴合，上平台表面的水平面上安装有加大面板。作为优选，所述楔形块与所述底座沿所述旋转驱动精密丝杠平行方向滑动连接。作为优选，所述底座侧壁表面上设有高度刻度尺，所述加大面板上设有与高度刻度尺配合的指示针。作为优选，所述导气槽的数量为五个，单条导气槽与与其接通的面板导槽构成一个气室区间，长度最短的导气槽构成了一个矩形区间，其位于所述真空吸附平台的四角中任一一角。作为优选，所述真空吸附平台上的五个气室区间包括一个矩形区间和4个L形区间，L形区间端部宽度相等。作为优选，还包括电缆链条，用于所述位置调整部件在X轴和Y轴方向上的电连接。作为优选，包括：真空吸附平台；位置调整部件，用于在相互垂直的X轴和Y轴的方向上移动所述真空吸附平台；其中，真空吸附平台分为上下两层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，下层还设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。本专利技术与现有技术相比，具有以下优点：1、本专利技术中，真空吸附平台在安装在位置调整部件作用端，位置调整部件可以由相互垂直的X轴和Y轴构成的平面上自由移动，且位置调整部件上的X轴和Y轴均是通过驱动电机驱动滚珠丝杆转动，进而驱动真空吸附平台在该方向的精确移动。2、本专利技术中真空吸附平台的待吸附面由若干个区间组成，长度最短的导气槽构成了一个矩形区间，余下的区间与该矩阵区间组成新的矩形的待吸附面。现有的真空吸附平台主要为圆形，用于对晶圆进行加工处理，而本专利技术中的待吸附面为矩形，适用于LED等面板加工领域，其规格兼容性好，大面积和大行程的定位精准。3、本专利技术中，应用了高度调整部件，高度调整部件中的上平台与底座侧壁滑动连接，通过旋转驱动精密丝杠驱动楔形块沿丝杆方向移动，楔形块带动高度调整部件上下移动。附图说明图1为本专利技术整体的结构示意图；图2为本专利技术总共位置调整部件的结构示意图；图3为本专利技术中高度调整部件的爆炸图；图4为本专利技术中高度调整部件的结构图；图5为本专利技术中真空吸附平台底表面的结构示意图；图6为本专利技术中真空吸附平台上表面的结构示意图。图中标号说明：其中1、位置调整部件；11、Y轴直线导轨；12、第一伺服电机；13、第一滚珠丝杆；14、X轴直线导轨；15、第二伺服电机；16、第二滚珠丝杆；17、载板；2、高度调整部件；21、底座；22、旋钮驱动精密丝杠；23、楔形块；24、上平台；25、加大面板；26、高度刻度尺；3、真空吸附平台；31、底板；32、导气槽；34、面板导槽；4、电缆链条。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。本说明书中的负压发生装置是指真空发生器、真空泵等能够产生负压的设备，该设备的输入输出气道连接本说明书中进气口和出气口，此为现有技术，故不多加赘述。本说明书中的旋转驱动精密丝杠是指丝杠上至少有一端设有连接驱动转轴驱动的齿轮，旋转驱动精密丝杠的两端与底座21之间转动连接，此为现有技术，故不多加赘述。但是现有技术中丝杠中的移动端为螺帽，本专利技术中的移动端为与旋转驱动精密丝杠螺合的楔形块23。本专利技术中，真空吸附平台3的吸附作用面积随实际应用而改动，优选的，真空吸附平台3的吸附作用面积不小于20㎜*20㎜，更优选的，真空吸附平台3的吸附作用面积不小于20㎜*20㎜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.可调高度真空吸平台模块，包括：/n真空吸附平台；/n位置调整部件，用于在相互垂直的X轴和Y轴方向上移动所述真空吸附平台；/n其中，真空吸附平台分为上中下三层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，真空吸附平台中层设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。/n

【技术特征摘要】
1.可调高度真空吸平台模块，包括：
真空吸附平台；
位置调整部件，用于在相互垂直的X轴和Y轴方向上移动所述真空吸附平台；
其中，真空吸附平台分为上中下三层，该下层设有若干个相互平行且长度呈递增或递减的导气槽，真空吸附平台中层设有若干条与导气槽接通的面板导槽，面板导槽与导气槽覆盖住真空吸附平台的待吸附面，真空吸附平台上层均匀设有气孔，气孔将由面板导槽与导气槽接通构成气室与真空吸附平台表面接通，真空吸附平台上还设有用于连接负压发生装置的进气口和出气口。


2.根据权利要求1所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：所述位置调整部件包括相互垂直堆叠的Y轴直线导轨和X轴直线导轨，Y轴直线导轨安装有第一伺服电机，第一伺服电机的输出轴连接有沿Y轴直线导轨线性方向设置的第一滚珠丝杆，X轴直线导轨与第一滚珠丝杆螺合，X轴直线导轨安装有第二伺服电机，第二伺服电机的输出轴连接有沿X轴直线导轨线性方向设置的第二滚珠丝杆，第一滚珠丝杆螺合有载板。


3.根据权利要求2所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：所述X轴直线导轨底部设有与所述Y轴直线导轨滑动连接的滑动块，所述载板与Y轴直线导轨滑动连接。


4.根据权利要求1-3任一所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：还包括高度调整部件，高度调整部件设置在所述位置调整部件的输出位置上，所述真空吸附平台安装在高度调整部件上。


5.根据权利要求4所述的可调高度真空吸平台模块，其特征在于：所述高度调整部件包括有底座和水平设置在底座上的旋转驱动精密丝杠，旋转驱动精密丝杠螺合有楔形块，底座上竖直滑动连...

【专利技术属性】
技术研发人员：贺云波，言益军，王波，刘青山，崔成强，
申请(专利权)人：宁波阿凡达半导体技术有限公司，
类型：发明
国别省市：浙江;33