Open the exhaust a coating machine control device, the device comprises a coating machine exhaust pipe, a main exhaust pipe, sensor, controller and control valve; the sensor is positioned on the glue machine exhaust pipe, the exhaust volume for the induction sealing machine; the regulating valve in the exhaust pipe and coating machine the total exhaust pipe, exhaust for controlling the coating machine; the controller and the sensor and the regulating valve is used for receiving the sensor sensing signal, and generates a control signal to the control valve. The exhaust control device of the glue spreading machine of the invention can realize the accurate automatic control of the exhaust amount of the gluing machine, and improves the quality and repeatability of the photoresist rotary coating process.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造
，特别涉及一种涂胶机的排气控制装置。技术背景半导体制造工艺中，光刻工艺一直被认为是集成电路制造中最关键的步 骤，在整个工艺过程中需要被多次使用，其稳定性、可靠性和工艺成品率对 产品的质量、良率和成本有着重要的影响。光刻的本质是把临时电路结构以 图形的形式复制到以后要进行刻蚀或离子注入的晶片上。光刻工艺是一个复 杂的过程，首先在晶片上覆盖一层感光材料--光刻胶，再将平行光经过一 掩膜版照射在光刻胶上使其曝光而变质，最后利用显影液进行显影完成图形 转移。其中光刻胶的均匀度对光刻工艺的质量有很大的影响，只有光刻胶具 有良好的附着性、抗刻蚀性及高分辨率才能实现完整的图形转移。所以对于 半导体制造工艺，光刻胶的形成质量非常重要。申请号为97111875.2的中国专利公开了一种形成光刻胶膜的方法，该方法 在旋涂光刻胶后，用高压氮气分散在晶片上消除胶膜上的微波紋、针孔和脱 皮部分，再用高温干燥的氮气除去胶膜内的溶剂，改善了光刻胶膜中出现的 一些缺陷，但是该方法不能防止这类缺陷的产生，只能是在一定程度上降低 其危害性。此外，该方法对涂胶机的改...
【技术保护点】
一种涂胶机的排气控制装置，包括涂胶机排气管和总排气管；其特征在于：所述装置还包括感应器、控制器和调节阀；所述感应器位于所述涂胶机排气管内，用于感应所述涂胶机的排气量；所述控制器与所述感应器和所述调节阀相连，用于设置目标排气量值和接收所述感应器的感应信号，并向所述调节阀发出调节控制信号；所述调节阀位于所述涂胶机排气管与所述总排气管之间，用于根据接收到的所述调节控制信号，调节所述涂胶机的排气量。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：黄良志，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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