电子照相感光体及其制造方法技术

公开一种电子照相感光体，它包括导电基片和在该导电基片上至少含有酞菁化合物作为光敏材料的光敏层，其中，按１摩尔所述酞菁化合物计，所述光敏层包括１００ｎｍｏｌ－２００ｍｍｏｌ带邻苯二甲腈化合物作为配位体的金属酞菁化合物。该感光体具有优良的电位保持率。还提供该感光体的制造方法，包括用涂料液涂覆形成光敏层的步骤，从而使得到的光敏层具有高的电位保持率。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及电子照相感光体(下面简称为感光体)及其制造方法，具体地说，本专利技术涉及由有机材料于导电基片上形成的光敏层中包括改进的光敏材料的感光体，从而显示出优良的电位保持率。这种电子照相用感光体适用于采用电子照相法的打印机、复印机或传真机。本专利技术还涉及这种感光体的制造方法。电子照相感光体一般需要具有在黑暗中保持表面电荷，受光后产生电荷并且受光后转移电荷的功能。已知类型的感光体包括所谓的单层型感光体(它在单一层中具有所述功能)和所谓功能分离的叠层型感光体，叠层型感光体具有一层主要用于产生电荷的层和一层用于在黑暗中保持表面电荷而受光转移电荷的层。这些类型的感光体用于用已知的电子照相方法(如Carlson法)形成影象。用这种方法形成影象是通过在黑暗中利用电晕放电对感光体充电，在该感光体带电表面上形成静电潜影(如原文的字符或图画)，用上色剂粉末显影如此形成的静电影象并将构成影象的该上色剂粉末转移并固定在载体(如纸)上而实现的。上色剂粉末转移后，使感光体消除静电，除去残留的上色剂粉末，用光照抹去残留的电荷就可重新使用该感光体。对于电子照相感光体的光敏材料，业已使用的有分散在树脂粘合剂中的无机光电导剂，如硒、硒合金、氧化锌和氧化镉，以及例如分散在树脂粘合剂中或者真空沉积的有机光电导剂，如聚N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、酞菁化合物或双偶氮化合物。在这些有机光敏材料中，已对酞菁化合物的合成方法进行了广泛的研究，包括研究在合成过程中作为副产品的衍生杂质。日本未审查专利公开No.平3-35245公开了对合成钛氧基氧代酞菁过程中副产品氯化钛氧基酞菁的研究结果，确认过去的实施例中氯的含量为0.38-5重量％。该文献还公开了对不产生氯化酞菁副产品的钛氧基氧代酞菁合成方法的详细研究结果。另外，如I.M.Keen和B.W.Malerbi在J.Inorg.Nucl.Chem.,Vol.27,p1311-1319(1965)所述，已知酞菁化合物分子结构，可以邻苯二甲腈化合物作为配位体。作为分子结构中邻苯二甲腈化合物作为配位体的金属酞菁化合物的例子，该文献公开了邻苯二甲腈(酞菁)氯合钌(Ⅲ)、邻苯二甲腈(酞菁)氯合锇(Ⅲ)、邻苯二甲腈(酞菁)二氧合锇(Ⅵ)和邻苯二甲腈(一氯酞菁)氯合铱(Ⅲ)。但是除了上述I.M.Keen等的文献以外，其它文献均未提到过这类金属酞菁。具体地说，该文献例举的金属酞菁限于铂族元素，未公开过带有邻苯二甲腈化合物作为配位体的其它金属酞菁化合物。因此，从未研究过感光体中这类金属酞菁的用量与电位保持率之间的关系。日本未审查专利申请No.平5-273775和平9-230615报道了钛氧基酞菁与二元醇反应形成钛配合物。但是，这些文献的目的是要获得高灵敏度的感光体，而与获得高电位保持率无关。另外，这些文献未提到带有邻苯二甲腈化合物作为配位体的金属酞菁化合物。如上所述，已知在感光体中使用酞菁化合物作为光敏材料，并且对该化合物的合成、纯化和副产品进行了许多研究工作。但是，目前为止不知道不含氯的邻苯二甲腈化合物的聚合产物与电子照相感光体特性的关系。尽管已经公开了酞菁化合物的各种合成方法，但是不知道合成酞菁化合物时的副产品的类型和含量与电子照相特性，尤其是电位保持率之间的关系。具体地说，带有邻苯二甲腈化合物作为配位体的金属酞菁的含量与电位保持率之间的关系从未得到过研究。因此，本专利技术的目的是通过了解这种关系，提供一种具有优良电子照相特性，尤其是电位保持率的电子照相感光体。本专利技术另一个目的是提供一种电子照相感光体的制造方法，它包括涂覆涂料液形成光敏层的步骤，该涂覆步骤能形成具有优良电位保持率的光敏层。本专利技术人经过对解决问题的方法进行大量研究以后，发现光敏层中当带有邻苯二甲腈化合物作为配位体的金属酞菁化合物(下面也称之为带配位体的金属酞菁)在含酞菁化合物的层中的含量在特定的范围内时，可明显提高感光体的电位保持率。本专利技术是在该发现的基础上完成的。因此，本专利技术电子照相感光体包括导电基片和在该导电基片上至少含有酞菁化合物作为光敏材料的光敏层，其中，按1摩尔酞菁化合物计，所述含酞菁化合物的光敏层包括100nmol-200mmol带邻苯二甲腈化合物作为配位体的金属酞菁化合物。另外，本专利技术人发现，在含酞菁化合物和带配位体的金属酞菁化合物(相对于前者，后者的含量在一定的范围内)的感光体的制造方法中，在涂覆步骤中使用这种含电荷产生剂的涂料液时，可明显提高感光体的电位保持率。在该发现的基础上完成了本专利技术制造方法。因此，本专利技术感光体的制造方法包括用含电荷产生剂的涂料液涂覆导电基片形成光敏层的方法，其中所述涂料液包括酞菁化合物和带邻苯二甲腈化合物作为配位体的金属酞菁化合物，按1摩尔酞菁化合物计，金属酞菁的含量为100nmol-200mmol。本专利技术感光体的光敏层可以是单层型或叠层型的，并且不限于某种类型。本专利技术制造方法中的涂覆方法可选自浸涂、喷涂和其它各种方法，并且不限于任何特定的方法。下面将参照较好的实例和附图详细说明本专利技术。附图说明图1是本专利技术负电荷充电叠层型感光体一个例子的剖面图；图2是本专利技术带配位体金属酞菁化合物的钛氧基氧代酞菁的TOF-MS光谱的一个例子中，表示阳离子检测分析结果的谱图；图3是本专利技术带配位体金属酞菁化合物的钛氧基氧代酞菁的TOF-MS光谱的一个例子，表示质量数为704的带配位体的金属酞菁化合物分子离子的MS/MS分析结果谱图；图4是本专利技术带配位体金属酞菁化合物的钛氧基氧代酞菁的TOF-MS光谱的一个例子，表示阴离子检测分析结果的谱图；图5是本专利技术一个实例中带配位体金属酞菁化合物的钛氧基氧代酞菁的TOF-MS光谱的一个例子，表示阳离子检测分析结果的谱图。附图中标号1表示导电基片，标号2表示底涂层，标号3表示电荷产生层，标号4表示电荷转移层，标号5表示光敏层。电子照相感光体具有数种已知的类型，如负电荷充电叠层型感光体、正电荷充电叠层型感光体和正电荷充电单层型感光体。尽管下面以负电荷充电叠层型感光体作为例子进行详细描述，但是除了涉及金属酞菁化合物(其金属原子带有邻苯二甲腈配位体)的材料和方法以外，用于形成和制造本专利技术感光体的材料和方法可适当地选自任何已知的材料和方法。图1是负电荷充电叠层型感光体，它包括导电基片1，叠合在该基片上的底涂层2，和叠合在底涂层上的光敏层5。光敏层5包括电荷产生层3和叠合在该电荷产生层上的电荷转移层4。因此，该光敏层是由独立的电荷产生层3和电荷转移层4组成的功能独立型光敏层。在上述类型的感光体中底涂层2是非必要的。导电基片1用作感光体的电极，还用于支承其它各层。导电基片1可具有圆筒形、平面形或薄膜形的形状，并可由金属或合金(如铝、不锈钢或镍)或者经处理具有合适导电性的玻璃或树脂制成。底涂层2可由醇溶性聚酰胺、可溶剂溶解的芳族聚酰胺或热固性聚氨酯树脂等制成。所述醇溶性聚酰胺较好是，如尼龙6、尼龙8、尼龙12、尼龙66、尼龙610或尼龙612等的共聚物，或者N-烷基改性的或N-烷氧基烷基改性的尼龙。上述化合物的具体例子有AMILAN CM8000(一种购自Toray Industries Inc.的6/66/610/12共聚尼龙)、ELBAMIDE 9061(一种购自Du Pont Japan Co本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电子照相感光体，它包括： 导电基片，和 在该导电基片上含有至少一种酞菁化合物作为光敏材料的光敏层，其中，按１摩尔所述酞菁化合物计，所述光敏层包括１００ｎｍｏｌ－２００ｍｍｏｌ带邻苯二甲腈化合物作为配位体的金属酞菁化合物。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐佐木辉夫，原健一，中村洋一，铃木信二郎，喜纳秀树，
申请(专利权)人：富士电机影像器材有限公司，
类型：发明
国别省市：JP[日本]