一种基于硅片酸洗的自动供酸装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种基于硅片酸洗的自动供酸装置，包括底板以及万向轮组件，所述万向轮组件安装于底板下壁面上，所述底板上安装有支撑组成结构以及酸液加注结构；本实用新型专利技术涉及自动供酸装置技术领域,本装置在结构方面进行研究改进，通过添加大酸箱进行酸液的储存，通过第一液位检测仪实施检测大酸箱中的酸液储量，在储量低于阈值时通过显示器和蜂鸣器提醒工作人员进行添加，在硅片生产清洗工作中，装置中的防腐蚀计量泵自动进行酸液输送，配合第一防酸四氟管和第二防酸四氟管输送至酸槽，酸槽中设置有第二液位检测仪，当第二液位检测仪检测酸槽中酸液较少时，装置进行加酸，实现自动加酸。实现自动加酸。实现自动加酸。

【技术实现步骤摘要】
一种基于硅片酸洗的自动供酸装置


[0001]本技术涉及自动供酸装置
，具体为一种基于硅片酸洗的自动供酸装置。

技术介绍

[0002]半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，会导致各种缺陷。
[0003]在现有技术条件下，硅片进行硅酸清洗时，酸液需要工作人员手动添加，劳动强度大，且酸液具有腐蚀性，工作人员手动添加的方式危险性较大，容易造成安全事故，并且，工作人员手动加液误差大，工艺规范执行不严格，影响产品质量，这给硅片生产工作带来了较大的影响，鉴于此，针对上述问题深入研究，遂有本案产生。

技术实现思路

[0004]针对现有技术的不足，本技术提供了一种基于硅片酸洗的自动供酸装置，解决了现有的硅片进行硅酸清洗时，酸液需要工作人员手动添加，劳动强度大、危险性较大以及手动加酸误差大，工艺规范执行不严格的问题。
[0005]为实现以上目的，本技术通过以下技术方案予以实现：一种基于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于硅片酸洗的自动供酸装置，包括底板(1)以及万向轮组件(2)，其特征在于，所述万向轮组件(2)安装于底板(1)下壁面上，所述底板(1)上安装有支撑组成结构以及酸液加注结构；所述支撑组成结构包括：支撑组件(3)、中间板(4)以及支撑组成部；所述支撑组件(3)安装于底板(1)上壁面上，所述中间板(4)竖直安装于底板(1)上壁面上，且位于支撑组件(3)中间侧，所述支撑组成部安装于支撑组件(3)上。2.根据权利要求1所述的一种基于硅片酸洗的自动供酸装置，其特征在于，所述支撑组成部包括：桌板(5)、挡板(6)以及支撑组成组件；所述桌板(5)安装于支撑组件(3)上端，且连接于中间板(4)上端，所述挡板(6)竖直安装于桌板(5)上壁面上，所述支撑组成组件安装于底板(1)上。3.根据权利要求2所述的一种基于硅片酸洗的自动供酸装置，其特征在于，所述支撑组成组件包括：垫块(7)以及防护箱(8)；所述垫块(7)安装于底板(1)上壁面上，且位于中间板(4)右侧，所述防护箱(8)安装于底板(1)上，且位于中间板(4)左侧。4.根据权利要求1所述的一种基于硅片酸洗的自动供酸装置，其特征在于，所述酸液加注结构包括：大酸箱(9)、第一液位检测仪(10)以及酸液加注部；所述大酸箱(9...

【专利技术属性】
技术研发人员：鹿庆文，张锐，
申请(专利权)人：济南紫源电子有限公司，
类型：新型
国别省市：