一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法技术

一种Ｘ射线衍射光学元件－高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法，步骤如下：１．在自支撑Ｘ射线掩模衬基上淀积薄铬薄金层；２．在薄铬薄金层表面上甩电子束光刻胶，得到光栅图形；３．所得片子放在电镀液中电镀出Ｘ射线掩模吸收体金图形；４．所得片子去除电子束光刻胶；５．再去除电子束光刻胶图形下的薄铬薄金层；６．玻璃上旋涂聚酰亚胺，并固化；７．在聚酰亚胺表面上淀积金；８．在金表面旋涂Ｘ射线光刻胶，完成的高分辨率光栅Ｘ射线掩模进行Ｘ射线光刻并显影；９．对Ｘ射线光刻后的片子进行金去除；１０．去除聚酰亚胺；１１．去除Ｘ射线光刻胶；１２．背面腐蚀透玻璃；完成高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种X射线衍射光学元件-高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法，这种X射线衍射光学元件主要用于X射线波段的谱学诊断。它的特点采用电子束光刻技术手段制作一块X射线掩模，然后以并行的X射线光刻为手段进行复制，从而制作出自支撑全镂空透射光栅，这种制作方法具有分辨率高、生产效率高，工艺稳定的特点，具有很强的实用价值。
技术介绍
高分辨率自支撑全镂空透射光栅是一种方便使用的中、高等级别能量分辨水平X光分光元件，主要应用于极端高温物质辐射特性的测量。高分辨率自支撑全镂空透射光栅传统制作方法主要有机械刻划、激光全息光刻、电子束直写等三种。机械刻划条件极为苛刻，不仅时间长而且精度不高，很难刻划出亚微米的线条。激光全息光刻虽然能够制作出深亚微米水平的自支撑全镂空透射光栅，但是它的控制精度和分辨率是不能够与电子束直写相比较的。目前世界上主要利用电子束直写来制作高分辨率自支撑全镂空透射光栅。电子束制作可以制作出纳米级的高分辨率图形，但是效率非常低，而且不能够制作高高宽比的图形。X射线光刻能在很厚的材料上定义出分辨率非常高的图形，能得到非常大的光刻线条高宽比，这对满足后步光刻图形的转移及加本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种Ｘ射线衍射光学元件－高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法，这种Ｘ射线衍射光学元件主要用于Ｘ射线波段的谱学诊断，它的特点采用电子束光刻技术手段制作一块Ｘ射线掩模，然后并行的以Ｘ射线光刻为手段进行复制，从而制作出自支撑全镂空透射光栅，其步骤如下：步骤１、在自支撑Ｘ射线掩模衬基上淀积薄铬薄金层，作为电镀衬基；步骤２、在薄铬薄金层表面上甩电子束光刻胶，并进行电子束光刻，得到高分辨率光栅图形，形成电镀模子；步骤３、将步骤２所得片子放在金电镀液中电镀出Ｘ射线 掩模吸收体金图形；步骤４、对步骤３所得片子去除电子束光刻胶；步骤５、再去除电子束光刻胶图形下的薄...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：谢常青，叶甜春，
申请(专利权)人：中国科学院微电子研究所，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]