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一种高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法技术
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文档序号:2752022
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一种X射线衍射光学元件-高分辨率自支撑全镂空透射光栅的制作方法,步骤如下:1.在自支撑X射线掩模衬基上淀积薄铬薄金层;2.在薄铬薄金层表面上甩电子束光刻胶,得到光栅图形;3.所得片子放在电镀液中电镀出X射线掩模吸收体金图形;4.所得片子去除...
该专利属于中国科学院微电子研究所所有,仅供学习研究参考,未经过中国科学院微电子研究所授权不得商用。
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