一种面差规及归零治具制造技术

本实用新型专利技术公开了一种面差规，包含：主尺，主尺具有沿轴向方向相对的第一端部和第二端部；沿主尺轴向可滑动的游标尺，游标尺具有垂直于轴向方向延伸的爪臂；设置于主尺的第一端部的基座，基座具有垂直于轴向方向延伸的固定基面；连接至爪臂的探脚，探脚具有垂直于轴向方向延伸的移动测量面，其中，固定基面与移动测量面彼此相反朝向地设置。该面差规能够简单直观地获得准确的间隙值，还可有效保护喷嘴尖端不被磨损。本实用新型专利技术同时提供一种用于该面差规的归零治具。差规的归零治具。差规的归零治具。

【技术实现步骤摘要】
一种面差规及归零治具


[0001]本技术涉及测量工具
，特别涉及一种面差规及适用于该面差规的归零治具。

技术介绍

[0002]光刻是芯片制造过程中必不可少的工序，其需要使用喷嘴将显影液均匀地喷洒到晶圆表面。现有喷嘴通常具有沿晶圆径向方向延伸的纵长结构，在其面向晶圆的尖端并排分布有数十至数百个喷射孔。为了确保均匀的喷射效果，喷嘴尖端与晶圆表面的距离需严格控制在适当的范围内。测量喷嘴尖端与晶圆间的间隙的现有方法为：将具有不同厚度(例如0.8mm，1.0mm和1.2mm)的标准片放置于晶圆上，转动晶圆使标准片依次经过喷嘴尖端与晶圆间的间隙。若能顺利通过，则间隙大于标准片的厚度；若不能顺利通过，则间隙小于标准片的厚度。以此确定间隙的范围，例如0.8-1.0mm或1.0-1.2mm。然而，现有测量方法具有以下缺陷：测量过程中标准片频繁接触或摩擦喷嘴尖端，造成污染或磨损；测量结果是一个范围而非精确数值；测量过程中标准片的位置不固定，易丢失。
[0003]因此，如何准确测量喷嘴尖端到晶圆的距离成为芯片制造领域亟待解决的技术问题。

技术实现思路

[0004]为了解决现有的技术问题，本技术提出了一种面差规，该面差规能够以探脚上移的方式测量喷嘴与晶圆间的间隙。同时，本技术还公开了一种用于该面差规的调零治具。
[0005]依据本技术，提供一种面差规，包含：
[0006]主尺，主尺具有沿轴向方向相对的第一端部和第二端部；
[0007]沿主尺轴向可滑动的游标尺，游标尺具有垂直于轴向方向延伸的爪臂；
[0008]设置于主尺的第一端部的基座，基座具有垂直于轴向方向延伸的固定基面；
[0009]连接至爪臂的探脚，探脚具有垂直于轴向方向延伸的移动测量面，其中，固定基面与移动测量面彼此相反朝向地设置。
[0010]依据本技术的一个实施例，移动测量面上设置有沿轴向方向并且朝向第二端部突出的半球状凸起。
[0011]依据本技术的一个实施例，面差规包含连接爪臂和探脚的微动框，微动框相对于爪臂沿垂直于轴向方向的方向可滑动。
[0012]依据本技术的一个实施例，探脚具有Z字型结构。
[0013]依据本技术的一个实施例，游标尺上设置有数显装置，数显装置显示固定基面与移动测量面之间的距离。
[0014]依据本技术的一个实施例，面差规具有用于锁定游标尺的第一锁定装置和用于锁定微动框的第二锁定装置。
[0015]依据本技术，提供用于上述面差规的归零治具，包含：
[0016]上部，上部具有第一平面；
[0017]下部，下部具有与第一平面相对且平行的第二平面；
[0018]连接上部和下部的连接部；
[0019]其中，第一平面与第二平面之间具有规定的标准距离，并且第二平面的面积大于第一平面的面积。
[0020]依据本技术的一个实施例，标准距离为面差规归零时基座的水平基面与探脚的钢珠顶部的垂直距离。
[0021]依据本技术的一个实施例，标准距离显示于归零治具的可视表面上。
[0022]依据本技术的一个实施例，归零治具由不锈钢制成。
[0023]由于采用以上技术方案，本技术与现有技术相比具有如下优点：
[0024]1.通过以探脚上移的方式测量晶圆到喷嘴下表面的距离，该距离减去喷嘴尖端高度(已知)即可获得喷嘴尖端到晶圆的间隙的准确值。
[0025]2.测量过程中面差规不会与喷嘴尖端接触，避免污染及磨损。
[0026]3.借助于配套的归零治具，可直接测出喷嘴尖端到晶圆的间隙。
附图说明
[0027]图1示出了用于光刻工序的喷嘴的示意图；
[0028]图2示出了喷嘴与晶圆的侧视图；
[0029]图3示出了依据本技术的面差规的一个实施例的示意图；
[0030]图4示出了依据本技术的归零治具的一个实施例的框图；
[0031]图5示出了图4中归零治具的侧视图。
[0032]图中，
[0033]1喷嘴，11喷嘴主体，12喷嘴尖端，2晶圆，3面差规，31主尺，311第一端部，312第二短柱，32游标尺，321爪臂，322数显装置，323第一锁定装置，33基座，331固定基面，34探脚，341移动测量面，342半球状凸起，35微动框，351第二锁定装置，4归零治具，41上部，411第一平面，42下部，421第二平面，43连接部。
具体实施方式
[0034]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，下面结合实施例，对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0035]图1和图2示出了用于光刻工序的喷嘴1以及其工作时的示意图。如图所示，喷嘴1总体具有纵长结构，包含喷嘴主体11和位于其底部的喷嘴尖端12。其中，喷嘴尖端12自喷嘴主体11的平坦底面向下延伸，并且大体上具有倒三角形的截面，沿其底部并排分布有多个喷射孔。光刻过程中，喷嘴1垂直地布置于晶圆2的上方，以使多个喷射孔沿晶圆2的径向方向排列于晶圆2上方同一高度x处。通常，特定型号的喷嘴尖端12具有其固定的高度h，例如为E2型和E3型的喷嘴尖端12高度h＝8mm，LD型的喷嘴尖端12高度h＝7mm。由此，可测量喷嘴主体11的平坦底面到晶圆2的距离H，通过该距离H减去喷嘴尖端12高度h即可获得喷嘴尖端
到晶圆的间隙的准确值。
[0036]图3示出了依据本技术的面差规的一个实施例，其能够通过以探脚上移的方式测量喷嘴主体11的平坦底面到晶圆2的距离H。具体地，面差规3总体包含主尺31和沿主尺31轴向可滑动的游标尺32。其中，主尺31具有沿轴向方向相对的第一端部311和第二端部312，并且在主尺31的第一端部311设置有基座33，该基座33具有垂直于主尺31轴向方向延伸的固定基面331。游标尺32具有垂直于主尺31轴向方向延伸的爪臂321。探脚34可连接至爪臂321，该探脚34具有垂直于主尺31轴向方向延伸的移动测量面341，其中，移动测量面341与基座33的固定基面331彼此相反朝向地设置。测量时，仅需将基座33的固定基面331紧贴晶圆2的表面水平放置，沿轴向移动游标尺32直至探脚34的移动测量面341接触喷嘴主体11的平坦底面，此时探脚34的移动测量面341与基座33的固定基面331之间的垂直距离则为喷嘴主体11的平坦底面到晶圆2的距离H。
[0037]优选地，可以在移动测量面341上设置有沿主尺31轴向方向并且朝向第二端部312突出的半球状凸起342，使得探脚34与喷嘴主体11的平坦底面之间为点接触，以进一步提高测量精度与准确度。在本技术的实施例中，探脚34可以具有Z字型结构。作为选择地，探脚34也可以具有其他便于测量的结构，例如L型等。
[0038]面差规3还可以包含连接爪臂321和探脚34的微动框35，其中，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种面差规，其特征在于，包含：主尺，所述主尺具有沿轴向方向相对的第一端部和第二端部；沿所述主尺轴向可滑动的游标尺，所述游标尺具有垂直于所述轴向方向延伸的爪臂；设置于所述主尺的所述第一端部的基座，所述基座具有垂直于所述轴向方向延伸的固定基面；连接至所述爪臂的探脚，所述探脚具有垂直于所述轴向方向延伸的移动测量面，其中，所述固定基面与所述移动测量面彼此相反朝向地设置。2.根据权利要求1所述的面差规，其特征在于，所述移动测量面上设置有沿所述轴向方向并且朝向所述第二端部突出的半球状凸起。3.根据权利要求1所述的面差规，其特征在于，所述面差规包含连接所述爪臂和所述探脚的微动框，所述微动框相对于所述爪臂沿垂直于所述轴向方向的方向可滑动。4.根据权利要求1所述的面差规，其特征在于，所述探脚具有Z字型结构。5.根据权利要求1所述的面差规，其特征在于，所述游标尺上设置有数显...

【专利技术属性】
技术研发人员：李长江，王波，韩立斌，凌明，
申请(专利权)人：和舰芯片制造苏州股份有限公司，
类型：新型
国别省市：