光阻剂剥离液组合物制造技术

本发明专利技术涉及一种光阻剂剥离液组合物，提供一种包含环形胺、溶剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。并且，本发明专利技术还提供一种包含环形胺、溶剂、防腐剂及剥离促进剂的光阻剂剥离液组合物。本发明专利技术光阻剂剥离液组合物不仅在适用于现有ＬＣＤ模块制备中包括异丙醇（以下简称“ＩＰＡ”）清洗阶段的一般工程时，而且在适用于最近省略ＩＰＡ清洗阶段的工程时，不存在对金属布线多余的腐蚀影响，特别是可大大提高剥离能力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于剥离金属布线形成中所使用的光阻剂的剥离液组合物，特别是一种对包含环形胺(cyclic amine)、溶剂等的双组份以上的剥离液、或者对上述组份中再包含有防腐剂而防止因贾凡尼效应(galvanic effect)产生腐蚀等的三组份以上的剥离液，添加剥离促进剂，从而可提高剥离性能的光阻剂剥离液组合物(Compositionfor removing a photoresist)。
技术介绍
在集成电路(IC)、大规模集成电路(LSI)、超大规模集成电路(VLSI)等半导体装置和液晶显示装置(LCD)等的制造中，为金属布线的形成，采用照相平版印刷术(Photo-lithography)工程。为去除这种用于光刻过程中的光阻剂，在产业初期采用了由苯酚及其衍生物和烷基苯磺酸(alkylbenzenesulfonic acid)及氯化物系列有机溶剂所构成的溶液。但是这种剥离剂含有苯酚系列化合物及氯系列有机溶剂，因此具有毒性，会腐蚀其下的金属层，且其废液难以处理，而且由于非水溶性而难免使剥离后清洗工程变得复杂。并且，随着所加工金属布线的细微化倾向，增加了金属和氧化膜蚀刻条件的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光阻剂剥离液组合物，其特征在于：包含环形胺、溶剂及剥离促进剂。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：尹锡壹，金圣培，金玮溶，郑宗铉，许舜范，金柄郁，
申请(专利权)人：株式会社东进世美肯，
类型：发明
国别省市：KR[韩国]