一种金制品表面纳米多层复合抗划花膜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种金制品表面纳米多层复合抗划花膜，其特征是：在所述的金制品或镀金制品的镀金层的表面上从里到外依次覆盖有金过渡层、由至少一组纳米多层复合保护膜单元构成的纳米多层结构、Si过渡层、以及最外表层的AF抗指纹膜，所述的每组纳米多层复合保护膜单元是由纳米透明介质层和覆盖其上的纳米金层构成。本实用新型专利技术的金制品表面纳米多层复合抗划花膜，很好地解决了金、金饰品或不锈钢、黄铜等上镀金层的不耐划花问题。黄铜等上镀金层的不耐划花问题。黄铜等上镀金层的不耐划花问题。

【技术实现步骤摘要】
一种金制品表面纳米多层复合抗划花膜


[0001]本技术涉及一种金制品(或镀金制品的镀金层)的表面离子镀保护膜，尤其是涉及一种金制品表面纳米多层复合抗划花膜。

技术介绍

[0002]各种金和玫瑰金手饰一直为人们喜爱青睐，但金或镀金类饰品比较软，佩带过程经受碰撞、摩擦则表面容易出现碰痕、划道，影响其耀眼亮丽美感。长时间以来人们努力提高金的耐划花性能，途径有二：其一是合金化，在Au加入各种合金元素，其中包括贵金属和轻重稀土等，但其效果并不理想，要不硬度改善不大，要不改变了原有色调；其二是表面镀透明保护膜，多为介质膜，包括SiO2、Al2O3等，有人试用单层透明介质层，但若膜太薄，不耐磨，膜太厚产生干涉色。有人采用射频溅射镀SiO2，发现沉积速度太慢，跟不上离子镀正常生产节奏。这些难题长期得不到解决。纯金手饰其基体太软，对顶层透明介质层缺乏有力支撑，更容易被划花。在不锈钢基体表面离子镀仿金(TiN)仿玫瑰金(TiCN)层后，其上再镀真金或真玫瑰金的制品，如手表件、眼镜框、手机外壳等，虽然不锈钢基体稍硬一些，但对所支撑表面的单层软而薄的金层，也同样存在不耐划花的问题。因此无论金制品或不锈钢、黄铜上等镀金层的不耐划花问题极待解决。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题，就是在金制品表面上或在不锈钢、黄铜表面的镀金层(水法电镀或离子镀)上，提供一种金制品表面纳米多层复合抗划花膜，本技术的金制品表面纳米多层复合抗划花膜，很好地解决了金饰品或不锈钢、黄铜等上镀金层的不耐划花问题。
[0004]解决上述技术问题，本技术所采用的技术方案如下：
[0005]一种金制品表面纳米多层复合抗划花膜，其特征是：在所述的金制品或镀金制品的镀金层的表面上从里到外依次覆盖有金过渡层、由至少一组纳米多层复合保护膜单元构成的纳米多层结构、Si过渡层、以及最外表层的AF抗指纹膜，所述的每组纳米多层复合保护膜单元是由纳米透明介质层和覆盖其上的纳米金层构成。
[0006]在上述基础上，本技术还可以有各种优选型：
[0007]所述的纳米多层复合保护膜的纳米透明介质层厚度为20—300nm、纳米金层厚度为50—500nm。
[0008]所述的纳米透明介质层为氧化物膜或氮化物膜，氧化物包括氧化铝、氧化钛、氧化铌、氧化硅、氧化锌和氧化钇等，氮化物除优选氮化硅外，还包括氮化钛和氮化锆等。
[0009]所述的纳米金层材质与基体的金成分相同，包括纯金、各种K金、各种玫瑰金以及各种金合金，也包括铂和铂合金。
[0010]所述的Si过渡层厚5—20nm，AF抗指纹层厚20
--
30nm。
[0011]本技术还可适用于在不锈钢、黄铜表面以水法电镀或离子镀的镀金层上。此
时所述的纳米金层质材与镀金制品上已有的金镀层成分相同。
[0012]本技术还可适用于在不锈钢、黄铜表面以离子镀的仿金(TiN)或仿玫瑰金(TiCN或TiAlN)镀层上。此时以所述的纳米多层复合抗划花膜直接取代传统的镀金层和玫瑰金层。这种情况下的纳米金膜或玫瑰金膜成分另行指定。
[0013]本技术还可以应用于在银饰品上：与基体连接处先镀银过渡层，纳米透明介质层选择同上所述，颜色层可选用与基体成分相同的银或银合金，如选用金或金合金，则成为银基体的金饰品。
[0014]以下以纳米Al2O3/纳米金为单元的多层复合抗划花膜为例说明制备方法。所述纳米Al2O3代表上述所提及的纳米透明介质层为氧化物膜或氮化物膜，氧化物包括氧化铝、氧化钛、氧化铌、氧化硅、氧化锌和氧化钇等，氮化物除优选氮化硅外，还包括氮化钛和氮化锆等。所述的纳米金代表上述所提及的包括纯金、各种K金、各种玫瑰金以及各种金合金，也包括铂和铂合金，也包括银和银合金等。
[0015]一种金制品表面纳米多层复合抗划花膜的制备方法，其特征是包括以下步骤：
[0016]1)炉抽真空：己经清洗干净的金制品或镀金制品装入炉内的公自转挂具上，抽本底真空3
--
6x10-3
Pa；
[0017]如果上一工序是在本炉内完成不锈钢、黄铜离子镀或仿金(TiN)镀层的饰品，则停钛靶、停供氮，充Ar气至1—5Pa，3
--
10分钟，停供Ar，抽本底真空达3—6x10-3
Pa；
[0018]2)辉光离子清洗：充入Ar气达1—3Pa，开脉冲偏压电源，-400至-700V，占空比50—70％，辉光清洗3
--
10分钟；
[0019]3)打过渡层
[0020]对于金制品，充Ar气1—5x10-1
Pa，偏压-50至-100v，同时开金的阴极电弧源40—70A和直流磁控溅射金靶2—5A，混镀0.5
--
1.5分钟，关金阴极电弧源，而金靶继续溅射达50—500nm，停镀；
[0021]对于不锈钢、黄铜离子镀仿金(TiN)镀层饰品，充Ar气1—5x10-1
Pa，偏压-50至-100v，同时开钛的阴极电弧(40—70A)和直流磁控溅射金靶(2—5A)，钛与金混镀0.5
--
1.5分钟，关钛电弧源，金靶继续溅射达50—500nm，停镀；
[0022]4)镀纳米多层第一单元
[0023]镀第一层：开启专用陶瓷靶电源，(注：该专用陶瓷靶电源是外购品)运行Al2O3磁控溅射孪生陶瓷靶(Al2O3靶，5—12A)，控制膜厚达20—300nm，停镀；
[0024]镀第二层：开金靶溅射(2—5A)，控制膜厚达50—500nm停镀。
[0025]5)镀纳米多层第二单元
[0026]镀第一层：开启专用陶瓷靶电源，运行磁控溅射孪生陶瓷靶(Al2O3靶，5—12A)，控制膜厚达20—300nm停镀；
[0027]镀第二层：开金溅射靶(2—5A)，控制膜厚达50—500nm停镀；
[0028]6)镀纳米多层第三单元至N单元
[0029]各单元分别重复第二单元工艺操作；
[0030]7)镀纳多层最后单元
[0031]镀第一层：开专用陶瓷靶电源，运行磁控溅射孪生陶瓷靶(Al2O3靶，5—12A)控制膜厚20—300nm停镀；
[0032]镀第二层：开金溅射靶(2—5A)，控制膜厚达50—500nm，最后一层金层，一般增加10—20％厚度，停镀；
[0033]8)溅射Si过渡层：开Si靶，靶压：450—550V，靶流：5-15A，控制膜厚约5—20nm；
[0034]9)蒸镀AF：把置于电阻发热坩埚内AF药丸，通电加热蒸发，沉积到Si过渡层成AF膜，厚约20
--
30nm；
[0035]10)冷却至100度以下出炉。
[0036]改进工艺：为了使纳米透明介质层/纳米金层/纳米透明介质层/纳米金层
……
的纳米多层结构中，降低因上下界面之间材质改变而引起应力突变，在界面本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金制品表面纳米多层复合抗划花膜，其特征是：在所述的金制品或镀金制品的镀金层的表面上从里到外依次覆盖有金过渡层、由至少一组纳米多层复合保护膜单元构成的纳米多层结构、Si过渡层、以及最外表层的AF抗指纹膜，所述的每组纳米多层复合保护膜单元是由纳米透明介质层和覆盖其上的纳米金层构成。2.根据权利要求1所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：周鸿奎，
申请(专利权)人：深圳市矽谷溅射靶材有限公司，
类型：新型
国别省市：