匀胶显影设备用胶泵制造技术

本发明专利技术涉及应用于光刻工艺中的光刻胶涂敷装置，具体为一种轨道式匀胶显影设备用胶泵，包括在管路上依次设置的隔膜泵、通断阀、回吸阀，隔膜泵与胶瓶连通，回吸阀与出胶口连通。本发明专利技术用气控隔膜泵配合通断阀和回吸阀来完成整个的吸胶打胶工作，能够顺利的完成喷胶－关断－回吸功能，控制模块和胶泵模块能够可靠的相互连接、协调完成工作，在达到使用性能的前提下大大的降低了生产成本，实现了胶泵的国产化。本发明专利技术胶泵系统主要适用于半导体生产领域。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及应用于光刻工艺中的光刻胶涂敷装置，具体为一种轨道式匀胶显影设备用胶泵。
技术介绍
光刻工艺的应用非常广泛，例如凡半导体元件、光电元件等，都需要用到光刻工艺以将所需的电子零件和线路，一层一层的转移到衬底(晶片或玻璃基板)上。一般而言，光刻的基本工艺是由光刻胶涂敷、曝光及显影等三大步骤构成的。由于光刻胶内含有溶剂，使得光刻胶本身能以液态的形式存在，因此在光刻胶涂敷工序中大多利用高速旋转的方式，借助离心力将光刻胶均匀的涂敷于衬底上，以期于衬底表面形成一层厚度均匀、附着性强，且无任何缺陷的光刻胶层。胶泵是匀胶/显影系统中的关键部件，其主要用于涂光刻胶。原有的胶泵性能好、精度高，但价格相对比较昂贵，并不是所有的使用厂家都能接受。考虑到轨道式匀胶/显影设备的市场定位，寻找一款造价便宜、性能优良、拥有自主知识产权的胶泵就显得格外重要。因为关系到整机的开发能否进行，所以意义重大。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种轨道式匀胶显影设备用胶泵，该胶泵操作使用方便、成本低。本专利技术的技术方案是一种匀胶显影设备用胶泵，包括在管路上依次设置的隔膜泵、通断阀、回吸阀，隔膜泵与胶瓶连通，回吸阀与出胶口连通。本专利技术气源分三路，分别与隔膜泵、通断阀、回吸阀连通。本专利技术气源与隔膜泵、通断阀、回吸阀连通的管路上设有气压调节阀。本专利技术气源与隔膜泵、通断阀、回吸阀连通的管路上设有三通电磁阀。本专利技术三通电磁阀与单片机控制电路相连，单片机的控制信号输出，控制三通电磁阀启闭，单片机可与人机交互界面相连。本专利技术的有益效果是1、本专利技术用气控隔膜泵配合通断阀和回吸阀来完成整个的吸胶打胶工作，能够顺利的完成喷胶-关断-回吸功能，控制模块和胶泵模块能够可靠的相互连接、协调完成工作。2、本专利技术胶泵最大的优势是价格，全套胶泵总计价格不超过4000元人民币，在达到使用性能的前提下大大的降低了生产成本，实现了胶泵的国产化。3、本专利技术胶泵系统主要适用于半导体生产领域。附图说明图1为本专利技术结构示意图。图中，1、气源；2、过滤器；3、气压调节阀；4、胶瓶；5、隔膜泵；6、通断阀；7、回吸阀；8、三通电磁阀；9、气压调节阀；10、三通电磁阀；11、气压调节阀。图2为本专利技术所在的系统原理框图。图3为本专利技术通断阀、回吸阀、隔膜泵电压脉冲示意图。具体实施例方式如图1-2所示，本专利技术主要由隔膜泵5、通断阀6、回吸阀7等构成，通过气控隔膜泵5配合通断阀6和回吸阀7的配合工作来完成整个的吸胶打胶工作。来自气源1的压缩空气，经过滤器2过滤后分三路，第一路经气压调节阀(减压阀)3进入隔膜泵5，通过控制隔膜泵内三通电磁阀的开关，由压缩空气实现隔膜泵的开启和关闭，该路压缩空气的压力为0.15MPa；第二路经气压调节阀(减压阀)9、三通电磁阀8进入通断阀6，通过控制三通电磁阀8的开关，由压缩空气实现通断阀6的开启和关闭，该路压缩空气的压力为0.4MPa；第三路经气压调节阀(减压阀)11、三通电磁阀10进入回吸阀7，通过控制三通电磁阀10的开关，由压缩空气实现回吸阀7的开启和关闭，该路压缩空气的压力为0.4MPa。以上数据是表示在一种胶的工作状态值，在胶液不同粘度的条件下压力也随着调整；该组数据只作为一个参考数据量。如图2所示，本专利技术可以通过人机交互界面对单片机进行初始化的参数(包括脉冲频率以及每一个脉冲打胶的胶量)设定，单片机接受来自设备现场通信总线传来的信号后，按照命令来控制胶的量和工作的参数进行喷胶；单片机在喷胶前检测外部工作相关的外部信号来检测状态正常，发出控制信号给三通电磁阀，驱动隔膜泵、通断阀、回吸阀，然后进行喷胶。如图3所示，其中(a)为控制通断阀中电磁阀上的电压，说明该状态电磁阀打开；(b)为回吸阀中电磁阀上的电压，说明该状态电磁阀打开，准备回吸；(c)为隔膜泵中电磁阀上的电压脉冲，说明了隔膜泵在每来一个脉冲值时，其工作一次。本专利技术胶泵的主要特点和原理有1、利用隔膜泵5内膜片下移时形成的真空腔，与胶瓶4内形成一个大气压差，从而把胶液压入隔膜泵5内，配合着液体通断阀6完成滴胶工作。2、为了防止胶液在管路口外因溶剂的挥发而凝固，影响正常的工作，特别在通断阀6后加了回吸单元，通过回吸阀7将出胶口的胶液可调节的进行回吸，有效的防止上述问题。3、采用脉冲信号控制胶泵工作，脉冲信号的频率和个数可以设定，通过使用频率控制使胶液流速稳定，通过脉冲的控制实现流量精度达到0.1ml可控可调；4、拥有友好的人机交互界面，操作简便；5、整个胶泵使用方便，采用单片机来实现使用中的智能化控制。本胶泵的详细工作过程如下外电源控制隔膜泵5内的三通电磁阀开启，使隔膜泵5内的膜片向下移动形成一个真空腔，这样其与外界形成了一个大气压差。这时这个大气压差将胶液压入了隔膜泵5内。当胶液被吸入隔膜泵5后，三通电磁阀开启可使压缩空气被导入通断阀6，进而控制通断阀6的开闭来实现胶液流动。由于该胶泵系统主要用于半导体的生产中，所以要求精度较高，本专利技术还具有胶液的回吸功能，其与控制通断的原理相似，利用三通电磁阀开启使压缩空气进入回吸阀内，完成回吸过程。本专利技术加入回吸效果的实验，在实验中完全可以完成预定的工作过程即泵胶→停止泵胶→关断同时回吸胶液。停止泵胶的时候关断阀门，同时回吸，回吸的效果很明显(气压较大时会把管外液体吸回管内)。权利要求1.一种匀胶显影设备用胶泵，其特征在于包括在管路上依次设置的隔膜泵(5)、通断阀(6)、回吸阀(7)，隔膜泵(5)与胶瓶(4)连通，回吸阀(7)与出胶口连通。2.按照权利要求1所述的匀胶显影设备用胶泵，其特征在于气源分三路分别与隔膜泵(5)、通断阀(6)、回吸阀(7)连通。3.按照权利要求2所述的匀胶显影设备用胶泵，其特征在于气源与隔膜泵(5)、通断阀(6)、回吸阀(7)连通的管路上设有气压调节阀。4.按照权利要求2所述的匀胶显影设备用胶泵，其特征在于气源与隔膜泵(5)、通断阀(6)、回吸阀(7)连通的管路上设有三通电磁阀。5.按照权利要求4所述的匀胶显影设备用胶泵，其特征在于三通电磁阀与单片机控制电路相连，单片机的控制信号输出，控制三通电磁阀启闭。6.按照权利要求5所述的匀胶显影设备用胶泵，其特征在于单片机与人机交互界面相连。全文摘要本专利技术涉及应用于光刻工艺中的光刻胶涂敷装置，具体为一种轨道式匀胶显影设备用胶泵，包括在管路上依次设置的隔膜泵、通断阀、回吸阀，隔膜泵与胶瓶连通，回吸阀与出胶口连通。本专利技术用气控隔膜泵配合通断阀和回吸阀来完成整个的吸胶打胶工作，能够顺利的完成喷胶－关断－回吸功能，控制模块和胶泵模块能够可靠的相互连接、协调完成工作，在达到使用性能的前提下大大的降低了生产成本，实现了胶泵的国产化。本专利技术胶泵系统主要适用于半导体生产领域。文档编号G03F7/16GK101071270SQ200610046529公开日2007年11月14日 申请日期2006年5月10日 优先权日2006年5月10日专利技术者程金胜, 于海川, 张军 申请人:沈阳芯源先进半导体技术有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种匀胶显影设备用胶泵，其特征在于：包括在管路上依次设置的隔膜泵（５）、通断阀（６）、回吸阀（７），隔膜泵（５）与胶瓶（４）连通，回吸阀（７）与出胶口连通。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：程金胜，于海川，张军，
申请(专利权)人：沈阳芯源先进半导体技术有限公司，
类型：发明
国别省市：89[中国|沈阳]