光源定位调整方法技术

本发明专利技术公开一种光源定位调整方法。首先，提供椭圆反射罩及光源。光源邻置于反射罩的第一焦点，且光源具有光轴。光轴、第一方向及第二方向为两两垂直。光源发出的光束在邻近于反射罩的第二焦点处聚焦而为一光点，且光束通过第二焦点之后，与光轴夹一角度。接着，沿着第一方向及第二方向调整光源相对于反射罩的位置，使光点的直径实质上小于第一预定尺寸，且角度实质上小于第一预定角度。然后，沿着光轴调整光源相对于反射罩的位置，使光点的直径实质上小于第二预定尺寸，且角度实质上小于第二预定角度。之后，固定光源于反射罩。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，特别是涉及一种应用于椭圆反射罩的。
技术介绍
投影机的灯泡配置于椭圆反射罩中，用以产生光束。灯泡产生的光束经由椭圆反射罩反射之后，通过光学组件而投射至成像元件，再由成像元件接收光束而产生影像。在投影机的光路设计中，灯泡相对于椭圆反射罩的位置影响光束的聚焦程度及发散角度，进而影响光源的发光效果。若光束聚焦效果不良，光束投射至成像元件时容易出现亮度不足的问题，使得投影机所投射的影像不清晰。若光束的发散角度偏移，光束投射至成像元件时所形成的照光区无法完全覆盖成像元件，导致成像元件无法产生不完整的影像，严重影响投影机的影像品质。因此，如何调整灯泡相对于椭圆反射罩的位置，为相当重要的课题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种，其分两阶段调整光源相对于椭圆反射罩的位置，使光源具有良好的近场及远场效果，进而使得应用本方法的投影机可投射出完整且清晰的影像。根据本专利技术的目的，提出一种。首先，提供椭圆反射罩及光源。光源邻置于反射罩的第一焦点，且光源具有光轴。光轴、第一方向及第二方向为两两垂直。光源发出的光束在邻近于反射罩的第二焦点处聚焦而为一光点，且光束通过第二焦点之后，与光轴夹一角度。接着，沿着第一方向及第二方向调整光源相对于反射罩的位置，使光点的直径实质上小于第一预定尺寸，且角度实质上小于第一预定角度。然后，沿着光轴调整光源相对于反射罩的位置，使光点的直径实质上小于第二预定尺寸，且角度实质上小于第二预定角度。之后，固定光源于反射罩。为让本专利技术的上述目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举一较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下附图说明图1为本专利技术的较佳实施例的的流程图；图2A～图2C为图1的调整方法的示意图；图3为本专利技术的较佳实施例的的投影机的示意图。具体实施例方式请同时参照图1及图2A～图2B，图1绘示依照本专利技术的较佳实施例的的流程图，图2A～图2C绘示依照图1的调整方法的示意图。本实施例的较佳地包括步骤12～18。首先，如步骤12及图2A所示，提供光源102及椭圆反射罩104。光源102，例如为一灯管，具有一发光处102a。光源102是邻置于椭圆反射罩104的第一焦点，例如是发光处102a邻置于椭圆反射罩104的第一焦点。光源102具有光轴A，光轴A、第一方向B及第二方向C为两两垂直。光源102所发出的光束是在邻近于椭圆反射罩104的第二焦点处聚焦而为光点P，且光束P通过第二焦点之后，与光轴夹一角度θ。接着，如步骤14及图2A所示，沿着第一方向B及第二方向C调整光源102相对于椭圆反射罩104的位置，使得光点P的直径实质上小于第一预定尺寸，且角度θ实质上小于第一预定角度θ1。第一预定尺寸较佳地为3mm，第一预定角度θ1较佳地为30°。调整光源102相对于椭圆反射罩104的位置例如是调整灯管的发光处102a相对于椭圆反射罩104的位置。更具体地来说，先将第一孔径(Aperture)122配置于椭圆反射罩104的第二焦点，且第一孔径122的直径实质上小于第一预定尺寸。再将第二孔径124配置于第一孔径122的异于光源102的一侧，使得角度θ实质上小于第一预定角度θ1的光束通过第二孔径124。第二孔径124的直径长度是由第一孔径122及第二孔径124间的距离D1决定，例如第二孔径124的直径实质上小于D1×tanθ1。之后再沿着第一方向B及第二方向C调整光源102相对于椭圆反射罩104的位置，使得光束依序通过第一孔径122及第二孔径124后的能量为最大。例如是以光检查器130测量光束依序通过第一孔径122及第二孔径124后的能量，以使此能量为最大。光检查器130例如为积分球。然后，如步骤16及图2B所示，沿着光轴A调整光源102相对于椭圆反射罩104的位置，使得光点P的直径实质上小于第二预定尺寸，且角度实质上小于第二预定角度θ2。第二预定尺寸较佳地为6mm，第二预定角度θ2较佳地为15°。调整光源102相对于椭圆反射罩104的位置例如是调整灯管的发光处102a相对于椭圆反射罩104的位置。更具体地来说，先将第三孔径126配置于椭圆反射罩104的第二焦点，且第三孔径126的直径实质上小于第二预定尺寸。再将第四孔径128配置于第三孔径126的异于光源102的一侧，使得角度θ实质上小于第二预定角度θ2的光束通过第四孔径128。第四孔径128的直径长度是由第三孔径126及第四孔径128间的距离D2决定，例如第四孔径128的直径实质上小于D2×tanθ2。之后再沿着光轴A调整光源102相对于椭圆反射罩104之位置，使得光束依序通过第三孔径126及第四孔径128后的能量为最大。例如是以光检查器130测量光束依序通过第三孔径126及第四孔径128后的能量，以使此能量为最大。之后，如步骤18及图2C所示，固定光源102于椭圆反射罩104。例如是以胶体132填充于光源102及椭圆反射罩104之间，以固定光源102于椭圆反射罩104。由于本实施例的能让光源102具有良好的近场效果及远场效果，因此，将本实施例的应用于投影机中，可使投影机具有良好的显像效果。请参照图3，其绘示应用本专利技术的较佳实施例的的投影机的示意图。投影机100包括光源102、椭圆反射罩104、色轮(Color Wheel)106、光管(Light Pipe)108、透镜模块(Lens Module)110、折镜(Fold Mirror)112、成像元件114及镜头116。光源102产生的光束经由椭圆反射罩104反射之后，是通过色轮106而分色，之后投射至光管108。由于应用本实施例的的光源102可有效地将光束聚焦于椭圆反射罩104的第二焦点，因此，只要将光管108的一端配置于椭圆反射罩104的第二焦点，即可使光束准确地进入光管108中。光管108用以使得光束均匀化。均匀化的光束经由透镜模块110聚焦后，再经由折镜112反射至成像元件114。成像元件114例如是数字微镜元件(Digital Micromirror Device，DMD)，用以接受光束，并据以产生影像。由于光源102已经过调整及定位，可改善光束投射至成像元件114时，容易发生照光区115无法完全覆盖成像元件114而使得影像不完整的问题。此外，由于椭圆反射罩104可有效地聚焦光束，使得光束投射成像元件114时的亮度提高，进而使得投影机100可投射出明亮清晰的影像。镜头116用以接收影像，并将影像投射至屏幕118上，以供使用者观赏。从上述可知，本专利技术的可应用于投影机。然而本专利技术所属
中具有通常知识者当可明了，本专利技术并不限定应用于投影机。只要是具有椭圆反射罩的光源，都可应用本专利技术的以调整光源相对于椭圆反射罩的位置。本实施例的是分两阶段调整光源相对于椭圆反射罩的位置，使光源可兼具有良好的近场效果及远场效果。因此，本实施例的可有效地改善光源的发光效果。若将采用本实施例的的光源配置于投影机中，将可使得投影机投射出完整且清晰的影像。综上所述，虽然结合以上一较佳实施例揭露了本专利技术，然而其并非用以限定本专利技术，任何熟悉此技术者，在不脱离本专利技术的精神和范围内，可作各种的更动与润饰，因此本专利技术的保护范围应以权利要求所界定的为准。权利要求1.一种，包括(a)提供一光源及一椭圆反射罩，该本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光源定位调整方法，包括：（ａ）提供一光源及一椭圆反射罩，该光源邻置于该反射罩的一第一焦点，且该光源具有一光轴，该光轴、一第一方向及一第二方向为两两垂直，该光源所发出的一光束在邻近于该反射罩的一第二焦点处聚焦而为一光点，且该光束通 过该第二焦点之后，与该光轴夹一角度；（ｂ）沿着该第一方向及该第二方向调整该光源相对于该反射罩的位置，使该光点的直径实质上小于一第一预定尺寸，且该角度实质上小于一第一预定角度；（ｃ）沿着该光轴调整该光源相对于该反射罩之位置，使 该光点的直径实质上小于一第二预定尺寸，且该角度实质上小于一第二预定角度；以及（ｄ）固定该光源于该反射罩。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：林颖芳，
申请(专利权)人：明基电通股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]