光机模块制造技术

本发明专利技术公开一种光机模块，包括一支撑结构、一第一模块及一第二模块。支撑结构包括一本体部及一调整部。本体部具有相对的第一平面及第二平面。调整部包括第一挠性件及第二挠性件，分别凸设于本体部，并突出于第二平面。第一模块设置于第一平面。第二模块设置于第二平面之上，并抵靠于第一挠性件以及第二挠性件。其中，通过调整调整部而调整第二模块的设置平面，以由此调整第一模块及第二模块的平行度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种光机模块及其组装方法，特别是涉及一种可调整投影镜头以及数字微镜元件的平行度的光机模块及其组装方法。
技术介绍
数字光学处理(digital light processing，DLP)投影机主要包括投影镜头、光机(light engine)、数字微镜元件(digital micro-mirror device，DMD)以及灯泡。灯泡用以提供光线投射到光机上的数字微镜元件，再经由投影镜头将影像投射而出。由于数字光学处理投影机通过投影镜头成像，对投影镜头而言，数字微镜元件为一物。因此当数字微镜元件与投影镜头的距离改变时，成像距离也随之变动。由于数字微镜元件是由许多镜面元件组成，每个镜面元件是对应到影像中各个画素。若是数字微镜元件上不同位置的镜面元件与投影镜头之间的距离不为一定值，则无法将各画素同时成像在同一个平面上。此时聚焦的品质将无法达到最佳化，亦即无法于一屏幕上将影像清楚的呈现出来。因此投影镜头以及数字微镜元件之间的平行度影响投射画面品质的一重要因素。数字光学处理投影机中，投影镜头以及数字微镜元件主要装设在光机机壳上。投影镜头本身由多个透镜组合而成，而数字微镜元件也有其本身的承靠面。因此，投影镜头以及数字微镜元件之间的平行度受到光机机壳的公差、投影镜头本身的组装公差以及数字微镜元件与其本身承靠面之组装公差三项因素所影响。此三项因素所累积的公差对于聚焦的品质影响甚巨。若是单就机壳、投影镜头以及数字微镜元件分别着手去改善其公差，所花费的成本非常高且不适于量产。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种光机模块及其组装方法，在光-->机模块的光机机壳上设计挠性结构，运用挠性结构的特性，在组装光机模块的过程中调整投影镜头及数字微镜元件的平行度。用以解决光机机壳、投影镜头以及数字微镜元件的累积公差所造成的成像问题。根据本专利技术的目的，提出一种光机模块，包括一支撑结构、一第一模块及一第二模块。支撑结构包括一本体部及一调整部。本体部具有相对的第一平面及第二平面。调整部包括第一挠性件及第二挠性件，分别凸设于本体部，并突出于第二平面。第一模块设置于第一平面。第二模块设置于第二平面之上，并抵靠于第一挠性件以及第二挠性件。其中，通过调整调整部而调整第二模块的设置平面，以由此调整第一模块及第二模块的平行度。根据本专利技术的另一目的，提出一种光机模块的组装方法，首先，提供一支撑结构。支撑结构包括一本体部及一调整部。本体部具有相对的第一平面及第二平面，调整部包括第一挠性件及第二挠性件，分别凸设于本体部，并突出于第二平面。接着，将一第一模块设置于第一平面上。然后，预设置一第二模块于第二平面之上，使第一挠性件及第二挠性件抵靠于第二模块上。接着，产生一光线通过第一模块及第二模块，以投射一影像于一屏幕上。然后，根据影像，施压或释放第一挠性件与第二挠性件，使得第二模块被转动，由此调整第一模块及第二模块的平行度。为让本专利技术的上述目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举一较佳实施例，并配合所附图式，作详细说明如下：附图说明【图式简单说明】第1图绘示乃依照本专利技术一较佳实施例之投影装置的示意图。第2A图绘示乃第1图投影装置之支撑结构的构造图。第2B图绘示乃第2A图支撑结构的前视图。第3A图绘示乃第1图投影装置的光机模块之部份示意图。第3B图绘示乃第3A图光机模块之前视图。第4图绘示乃第1图投影装置的聚焦调整之示意图。第5图绘示乃第1图投影装置的光机模块组装调整之流程图。-->【主要元件符号说明】1：投影装置2：屏幕10：外壳20：支撑结构22：本体部22A：第一锁孔24：调整部30：第一模块40：第二模块40A：第二锁孔50：灯泡60：反射镜片70：锁件71：第一螺丝72：第二螺丝73：第三螺丝74：第四螺丝224：基座224A：第一平面226：间隔材226A：第二平面242：第一挠性件244：第二挠性件d1：第一垂直距离d2：第二垂直距离P1：第一投影位置P2：第二投影位置P3：第三投影位置P4：第四投影位置L：光线-->F：投影画面δ：突出高度具体实施方式请参照图1，其绘示的是依照本专利技术一较佳实施例的投影装置的示意图。如图1所示，投影装置1包括外壳10、支撑结构20、第一模块30、第二模块40。灯泡50及反射镜片60。其中支撑结构20、第一模块30、第二模块40及反射镜片60等为投影装置1的光机模块。支撑结构20及灯泡50分别设置于外壳10的内部，第一模块30、第二模块40及反射镜片60分别设置于支撑结构20内。其中，灯泡50用以产生光线L以经过反射镜片60并依序通过第一模块30及第二模块40，将影像由投影装置1送出。第一模块30，例如是数字微镜元件(digital micro-mirror device，DMD)，是由多个镜面元件构成。第二模块40，例如是投影镜头，是由多个不同的透镜组合而成。光学成像原理中，数字微镜元件为一物。通过数字微镜元件的驱动器去控制这些镜面元件的偏转，使光线L产生不同角度的偏折，以通过或不通过投影镜头。第一模块30及第二模块40之间的平行度为投射影像是否清晰的关键因素。第一模块30及第二模块40为对应设置于支撑结构20上，支撑结构20例如是投影装置1中的光机机壳，以下附图详细说明。请同时参照图2A～图2B，图2A绘示的是图1投影装置的支撑结构的构造图，图2B绘示的是图2A支撑结构的前视图。如图2A～图2B所示，支撑结构20包括本体部22及调整部24。本体部22包括基座224及间隔材226，并具有相对的第一平面224A及第二平面226A。其中基座224构成第一平面224A，间隔材226的一侧凸设于基座224上，另一侧则构成与第一平面224A相对的第二平面226A。调整部24具有第一挠性件242及第二挠性件244，分别凸设于本体部22，且位于间隔材24的另一侧并突出于第二平面226A。本体部22更包括多个第一锁孔22A，这些第一锁孔22A位于间隔材226的第二平面226A上。较佳地，可将第一挠性件242及第二挠性件244设计成长度不相等的二凸条。此二凸条的一端分别固接于间隔材226，另一端分别朝远离第一平面224A的方向突出于第二平面226A，同时此二凸条的一侧边分别与基座-->224及间隔材226相隔二个不同的间距。例如第一挠性件242的突出部分与第二平面226A之间具有第一垂直距离d1，而第二挠性件244的突出部分与第二平面226A具有第二垂直距离d2。实质上，第一垂直距离d1及第二垂直距离d2为可相等或不相等，本实施例是以第一垂直距离d1及第二垂直距离d2等同于一突出高度δ作说明。由于制造时，支撑结构20必定具有其本身的尺寸公差，而第一模块30及第二模块40也分别有其制造上的组装公差。因此，设计上可使突出高度δ(见图2B)的值大于前述三项公差的累积值，使第一模块30及第二模块40之间具有一最佳的调整范围。以下将附图说明于组装光机模块的过程中，调整第一模块及第二模块的平行度的方法。请同时参照图3A～图3B、图4～图5，图3A绘示的是图1投影装置的光机模块的部分示意图，图3B绘示的是图3A光机模块的前视图，图4绘示的是图1投影装置的聚焦调整的示意图，图5绘示的是图1投影装置的光机模块组装调整本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光机模块，包括：一支撑结构，包括：一本体部，具有相对的一第一平面及一第二平面；以及一调整部，包括一第一挠性件及一第二挠性件，分别凸设于该本体部，并突出于该第二平面；一第一模块，设置于该第一平面；以及　 　一第二模块，设置于该第二平面之上，并抵靠于该第一挠性件以及该第二挠性件；其中，通过调整该调整部而调整该第二模块的设置平面，由此调整该第一模块及该第二模块的平行度。

【技术特征摘要】
1.一种光机模块，包括：一支撑结构，包括：一本体部，具有相对的一第一平面及一第二平面；以及一调整部，包括一第一挠性件及一第二挠性件，分别凸设于该本体部，并突出于该第二平面；一第一模块，设置于该第一平面；以及一第二模块，设置于该第二平面之上，并抵靠于该第一挠性件以及该第二挠性件；其中，通过调整该调整部而调整该第二模块的设置平面，由此调整该第一模块及该第二模块的平行度。2.如权利要求1所述的光机模块，其中该本体部具有一基座及一间隔材，该基座构成该第一平面，该间隔材的一侧凸设于该基座，另一侧构成与该基座相对的该第二平面。3.如权利要求2所述的光机模块，其中该第一挠性件以及该第二挠性件设置于该间隔材的该另一侧。4.如权利要求2所述的光机模块，其中该第一挠性件为一凸条，其一端...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭建峰，
申请(专利权)人：明基电通股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71[中国|台湾]