一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置，其特征在于：所述布气装置包括源布气管以及散气机构，其中所述源布气管上开设有出气孔，所述散气机构位于所述源布气管上开设的所述出气孔的出气路径上。本实用新型专利技术的优点是：1）可以实现单等离子体增强原子层沉积腔体内多种类型不同材质的膜层的同时生产；2）可以实现工艺腔体内的气流均匀分布，并且可以快速实现不同源气体的迅速吹扫和切换；3）可以实现工件膜层均匀性和膜层光学常数的快速调节；4）结构简单合理，便于安装及后期维护，适于推广。广。广。

【技术实现步骤摘要】
一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置


[0001]本技术涉及薄膜制备
，尤其是一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置。

技术介绍

[0002]对于传统的原子层沉积设备，往往只用于制备简单的单层膜，比如，SiO2或者Al2O3的单一镀层。所以，在原子层沉积设备的工艺腔体内往往只有针对简单的单一膜层相关的布气系统。光学薄膜通常包含两种或者两种以上的膜层，因此其对于直接影响成膜效果的布气系统要求显著提高；比如，光学薄膜对光学常折射率、吸收率和厚度的均匀性等的要求较高；而传统的原子层沉积设备的布气系统已无法满足光学薄膜的生产需求。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是根据上述现有技术的不足，提供了一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置，通过在设备内的气体源的流通路径上布置多道可实现均气的装置或结构，实现单层的或者不同材料的多层光学薄膜的均匀沉积。
[0004]本技术目的实现由以下技术方案完成：
[0005]一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置，设置在等离子体增本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置，设置在等离子体增强原子层沉积设备上，所述等离子体增强原子层沉积设备包括等离子体腔体和工艺腔体，且所述等离子体腔体与所述工艺腔体相连通，其特征在于：所述布气装置包括源布气管以及散气机构，其中所述源布气管上开设有出气孔，所述散气机构位于所述源布气管上开设的所述出气孔的出气路径上。2.根据权利要求1所述的一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置，其特征在于：所述散气机构位于所述源布气管上的所述出气孔的正对面，即所述出气孔正对所述散气机构。3.根据权利要求1所述的一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置，其特征在于：所述源布气管和所述散气机构布置于所述工艺腔体内且临近所述等离子体腔体的位置。4.根据权利要求1所述的一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置，其特征在于：所述布气装置包括设置在所述等离子体腔体内部且临近于所述等离子体腔体的进气口的等离子体进气板，所述等离子体进气板上开设有均匀布置的进气板孔。5.根据权利要求1所述的一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置，其特征在于：所述布气装置包括设置在所述等离子体腔体和所述工艺腔...

【专利技术属性】
技术研发人员：靳伟，崔国东，戴秀海，
申请(专利权)人：光驰科技上海有限公司，
类型：新型
国别省市：