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本实用新型涉及薄膜制备技术领域，尤其是一种光学薄膜用等离子体增强原子层沉积设备的布气装置，其特征在于：所述布气装置包括源布气管以及散气机构，其中所述源布气管上开设有出气孔，所述散气机构位于所述源布气管上开设的所述出气孔的出气路径上。本实用新...
该专利属于光驰科技（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过光驰科技（上海）有限公司授权不得商用。

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