基板处理装置和基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板处理装置和基板处理方法。该基板处理装置抑制在设于处理容器内部的喷射器旋转时产生颗粒，具有：处理容器；喷射器，设于处理容器内部，呈沿长度方向延伸的形状，供给处理气体；保持架，固定于喷射器；风车，固定于保持架；第1驱动用气体供给部，供给使风车向一方向旋转的驱动用气体；第2驱动用气体供给部，供给使风车向与一方向相反的另一方向旋转的驱动用气体；驱动用气体控制部，控制第1驱动用气体供给部和第2驱动用气体供给部的驱动用气体的供给，利用驱动用气体控制部的控制，自第1驱动用气体供给部和第2驱动用气体供给部中的至少一者供给驱动用气体使风车旋转，而使喷射器以长度方向为轴线旋转。使喷射器以长度方向为轴线旋转。使喷射器以长度方向为轴线旋转。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置和基板处理方法


[0001]本专利技术涉及基板处理装置和基板处理方法。

技术介绍

[0002]公知有一种能够在处理容器内在将多个基板分多层地保持于基板保持件的状态下对多个基板进行成膜处理等的批处理式基板处理装置。
[0003]在该批处理式基板处理装置中，成为如下构造：沿着处理容器的内壁设有喷射器，将L字型喷射器的水平部分插入并固定于被形成在处理容器的下端凸缘的贯通孔。另外，公开有这样的构造：在喷射器的垂直部分沿着基板层叠的方向(铅垂方向)设有多个气体喷出口，而且设有使喷射器旋转的机构。
[0004]专利文献1：日本特开2018－56232号公报

技术实现思路

[0005]专利技术要解决的问题
[0006]然而，若用于使喷射器旋转的构件设于处理容器的内部，则在使其进行动作时，有时会产生颗粒。因此，期望尽可能地抑制在使喷射器旋转时产生颗粒。
[0007]用于解决问题的方案
[0008]根据本实施方式的一观点，具有：处理容器；喷射器，其设于所述处理容器的内部，呈沿长度方向延伸的形状，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其中，该基板处理装置具有：处理容器；喷射器，其设于所述处理容器的内部，呈沿长度方向延伸的形状，用于供给处理气体；保持架，其固定于所述喷射器；风车，其固定于所述保持架；第1驱动用气体供给部，其供给使所述风车向一方向旋转的驱动用气体；第2驱动用气体供给部，其供给使所述风车向与所述一方向相反的另一方向旋转的驱动用气体；以及驱动用气体控制部，其控制所述第1驱动用气体供给部的驱动用气体的供给和所述第2驱动用气体供给部的驱动用气体的供给，通过利用所述驱动用气体控制部的控制，自所述第1驱动用气体供给部和所述第2驱动用气体供给部中的至少一者供给驱动用气体来使所述风车旋转，从而使所述喷射器以所述长度方向为轴线旋转。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述驱动用气体控制部的控制为交替进行以下操作的控制：来自所述第1驱动用气体供给部的驱动用气体的供给；以及来自所述第2驱动用气体供给部的驱动用气体的供给。3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述驱动用气体控制部的控制为交替进行以下操作的控制：相比于所述第1驱动用气体供给部，增加自所述第2驱动用气体供给部供给的驱动用气体的流量；以及相比于所述第2驱动用气体供给部，增加自所述第1驱动用气体供给部供给的驱动用气体的流量。4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，该基板处理装置具有支承所述处理容器的歧管，所述保持架安装于所述歧管，所述保持架在外周设有突起，在所述歧管的位于所述保持架的附近的位置设有两个销，所述喷射器的所述一方向上的旋转旋转到所述保持架的突起与一个所述销接触为止，所述喷射器的所述另一方向上的旋转旋转到所述保持架的突起与另一个所述销接触为止。5....

【专利技术属性】
技术研发人员：三浦嘉隆，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：