【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有用于接收样本的两个或更多个图像的两个或更多个光敏子区域的图像传感器
该描述涉及图像传感器。
技术介绍
例如,通常从晶片获得数码相机应用中使用的各个离散图像传感器,在该晶片上,通过切割晶片将以行和列形成的传感器分开。在某些切割过程中,在晶片上沿两个正交方向进行切片,以在传感器的行和列之间形成锯道。每个图像传感器具有光敏像素阵列,其通常以与布置传感器本身所沿着的行和列平行的行和列布置。当传感器形成在晶片上时,在传感器之间形成不包含光敏像素的子区域,以提供用于制造切割切片或切缝的空间而不损坏传感器。为了将传感器结合到电路中,从电路到通常沿着传感器的两个或更多个侧面布置的互连触点进行电连接。图像传感器有时用于在物体和传感器之间不包括透镜的应用,例如用于接触成像系统,比如在2014年2月5日提交的美国专利申请序列号14/173500中描述的系统,该专利申请通过引用并入本文。
技术实现思路
通常,一方面,整体图像传感器包括具有表面区域的传感器表面,在该表面区域处以行和列布置光敏像素。表面区域包括两个或更多个光敏子区域,每个子区域配置为沿着两个正交维度从晶片切割以形成离散图像传感器。沿着两个正交维度之一布置两个或更多个光敏子区域。整体图像传感器的传感器表面在两个或更多个子区域上是平坦且连续的。实施方式可以包括以下特征中的一个或者两个或更多个的组合。晶片被切割所沿着的两个正交维度平行于像素的行和列的方向。子区域的单个行或列沿着两个正交维度之一布置。沿着图像传感器的侧面有互连,以与光敏子区域进行 ...
【技术保护点】
1.一种设备,包括:/n整体图像传感器,其包括具有表面区域的传感器表面,在该表面区域处以行和列布置光敏像素,/n所述表面区域包括两个或更多个光敏子区域,每个子区域配置为沿着两个正交维度从晶片切割以形成离散图像传感器,沿着所述两个正交维度之一布置所述两个或更多个光敏子区域,/n所述整体图像传感器的传感器表面在两个或更多个子区域上是平坦且连续的。/n
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】20180426 US 15/963,894;20181205 US 16/210,098;20191.一种设备,包括:
整体图像传感器,其包括具有表面区域的传感器表面,在该表面区域处以行和列布置光敏像素,
所述表面区域包括两个或更多个光敏子区域,每个子区域配置为沿着两个正交维度从晶片切割以形成离散图像传感器,沿着所述两个正交维度之一布置所述两个或更多个光敏子区域,
所述整体图像传感器的传感器表面在两个或更多个子区域上是平坦且连续的。
2.根据权利要求1所述的设备,其中,所述晶片被切割所沿着的两个正交维度平行于所述像素的行和列的方向。
3.根据权利要求1所述的设备,其中,所述子区域的单个行或列沿着所述两个正交维度之一布置。
4.根据权利要求3所述的设备,包括沿着所述图像传感器的侧面的互连,以与所述光敏子区域进行电接触。
5.根据权利要求3所述的设备,包括沿着跨越两个或更多个子区域的行或列的一个或多个侧面的互连,以与所述光敏子区域进行电接触。
6.根据权利要求3所述的设备,包括沿着跨越两个或更多个子区域的行或列的不超过两个相对侧面的互连,以与所述光敏子区域进行电接触。
7.根据权利要求1所述的设备,其中,所述表面区域包括在两个光敏子区域之间的至少一个非光敏子区域。
8.根据权利要求7所述的设备,其中,所述非光敏子区域配置为在所述晶片被切割的情况下成为锯道。
9.根据权利要求1所述的设备,包括耦合到所述整体图像传感器的传感器驱动电路。
10.根据权利要求9所述的设备,包括耦合到所述传感器驱动电路的存储器。
11.根据权利要求10所述的设备,包括处理器和耦合到所述存储器的应用。
12.根据权利要求1所述的设备,包括与所述传感器表面相关的室。
13.根据权利要求12所述的设备,其中,所述室包括与所述传感器表面间隔开预定距离的表面,所述预定距离与样品的单层相关。
14.一种设备,包括:
整体图像传感器,其包括具有表面区域的传感器表面,在该表面区域中以行和列布置光敏像素,
所述表面区域包括以行或列的两个或更多个光敏子区域,沿着该行或列的连续光敏子区域被非光敏区域分开,
所述整体图像传感器的传感器表面在两个或更多个子区域上是平坦且连续的。
15.根据权利要求14所述的设备,包括沿着所述图像传感器的侧面的互连,以与所述光敏子区域进行电接触。
16.根据权利要求14所述的设备,包括沿着跨越两个或更多个子区域的行或列的一个或多个侧面的互连,以与所述光敏子区域进行电接触。
17.根据权利要求14所述的设备,包括沿着跨越两个或更多个子区域的行或列的不超过两个相对侧面的互连,以与所述光敏子区域进行电接触。
18.根据权利要求14所述的设备,其中,所述表面区域包括在两个光敏子区域之间的至少一个非光敏子区域。
19.根据权利要求14所述的设备,其中,所述非光敏子区域配置为在所述晶片被切割的情况下成为锯道。
20.根据权利要求14所述的设备,包括耦...
【专利技术属性】
技术研发人员:AM法恩,MS兰卡杜瓦,
申请(专利权)人:阿兰蒂克微科学股份有限公司,
类型:发明
国别省市:加拿大;CA
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