投影光学系统及投影装置制造方法及图纸

技术编号:26968814 阅读:20 留言:0更新日期:2021-01-05 23:56
本发明专利技术涉及投影光学系统以及投影装置。投影光学系统实质上从放大侧起依次由第一光学系统和第二光学系统组成。第二光学系统形成图像的中间像。第一光学系统将中间像进行放大投影。第一光学系统实质上从放大侧起依次由第一透镜组、第一反射光学元件、以及第二透镜组的一部分组成。第二光学系统实质上从放大侧起依次由第二透镜组的剩余部分、第二反射光学元件、以及第三透镜组组成。第二反射光学元件将从第三透镜组射出的光朝向第二透镜组反射。第一反射光学元件将从第二透镜组射出的光朝向第一透镜组反射。相对于第二透镜组,第一透镜组和第三透镜组被配置在投影侧。投影光学系统满足条件式:T1/T3>1.0。

【技术实现步骤摘要】
投影光学系统及投影装置
本公开涉及投影光学系统及投影装置。
技术介绍
近年来,对在投影装置上安装具有紧凑的结构和较宽的视场角的投影光学系统的要求越来越强烈。为了应对这种要求,(日本)特开2018-138944号公报以及(日本)特开2018-97375号公报公开了在形成中间像的中继型投影光学系统中,使用两个反射光学元件将投影光学系统的光轴弯折两次。
技术实现思路
然而,在(日本)特开2018-138944号公报所公开的投影光学系统中,在两个反射光学元件之间没有配置透镜组,两个反射光学元件之间的距离较短。相对于两个反射光学元件被配置在放大侧的放大侧的透镜组,在与放大侧的透镜组的光轴垂直的方向上被配置在包含图像显示元件的投影装置的主体部的附近。此外,放大侧的透镜组的长度与相对于两个反射光学元件被配置在缩小侧(主体部侧)的缩小侧的透镜组相比,具有更短的长度。因此,存在从投影光学系统投影的光的一部分被投影装置的主体部遮挡的问题。在(日本)特开2018-97375号公报所公开的投影光学系统中,相对于两个反射光学元件被配置在放大侧的放大侧的透镜组与相对于两个反射光学元件被配置在缩小侧(主体部侧)的缩小侧的透镜组相比,也具有更短的长度。因此,存在从投影光学系统投影的光的一部分被投影装置的主体部遮挡的问题。本专利技术是鉴于这样的课题而完成的,其目的在于提供一种投影光学系统及投影装置,其具有紧凑的结构和较宽的视场角,并且能够防止投影光的一部分被投影装置的主体部遮挡。本专利技术的投影光学系统是将在图像显示面上显示的图像进行放大投影的投影光学系统,实际上从放大侧起依次由第一光学系统和第二光学系统组成。第二光学系统形成图像的中间像。第一光学系统将中间像进行放大投影。第一光学系统实际上从放大侧起依次由第一透镜组、第一反射光学元件、以及第二透镜组的一部分组成。第二光学系统实际上从放大侧起依次由第二透镜组的剩余部分、第二反射光学元件、以及第三透镜组组成。第二反射光学元件将从第三透镜组射出的光朝向第二透镜组反射。第一反射光学元件将从第二透镜组射出的光朝向第一透镜组反射。相对于第二透镜组,第一透镜组及第三透镜组被配置在投影侧。投影光学系统满足以下条件式(1)。T1/T3>1.0···(1)其中,T1:从第一透镜组的最靠近放大侧的面到第一透镜组的最靠近缩小侧的面的在光轴上的距离,T3:从第三透镜组的最靠近放大侧的面到第三透镜组的最靠近缩小侧的面的在光轴上的距离。优选地,投影光学系统满足以下的条件式(2):1.5<T2/T3<5.0···(2)其中,T2:从第二透镜组的最靠近放大侧的面到第二透镜组的最靠近缩小侧的面的在光轴上的距离。优选地,投影光学系统满足以下的条件式(3),0.3<T2/Tw<0.5···(3)其中,Tw:从投影光学系统的最靠近放大侧的面到投影光学系统的最靠近缩小侧的面的在光轴上的距离。优选地,投影光学系统作为能够以100°以上的视场角进行投影的单焦点透镜起作用。优选地,第一透镜组的光轴与第三透镜组的光轴实际上相互平行。优选地,第一反射光学元件将投影光学系统的光路以90°的第一角度弯折。优选地,第二反射光学元件将投影光学系统的光路以90°的第二角度弯折。优选地,第一反射光学元件或第二反射光学元件是平面镜。优选地,第一反射光学元件或第二反射光学元件是直角棱镜,直角棱镜的斜面是反射面。本专利技术的投影装置包括具有图像显示面的图像显示元件和对在图像显示面上显示的图像进行放大投影的本专利技术的投影光学系统。通过结合附图理解的与本专利技术相关的以下的详细的描述,本专利技术的上述和其他目的、特征、方面和优点将变得显而易见。附图说明图1是表示第一实施方式涉及的投影光学系统的结构的图。图2是第一实施方式涉及的投影光学系统的展开图。图3是表示第二实施方式涉及的投影光学系统的结构的图。图4是第二实施方式涉及的投影光学系统的展开图。图5是表示第三实施方式涉及的投影光学系统的结构的图。图6是第三实施方式涉及的投影光学系统的展开图。图7是表示第四实施方式涉及的投影光学系统的结构的图。图8是第四实施方式涉及的投影光学系统的展开图。图9是表示第五实施方式涉及的投影光学系统的结构的图。图10是第五实施方式涉及的投影光学系统的展开图。图11是表示第六实施方式涉及的投影光学系统的结构的图。图12是第六实施方式涉及的投影光学系统的展开图。图13是表示第七实施方式涉及的投影光学系统的结构的图。图14是第七实施方式涉及的投影光学系统的展开图。图15是表示第八实施方式涉及的投影光学系统的结构的图。图16是第八实施方式涉及的投影光学系统的展开图。图17是实施例1的纵向像差图。图18是实施例2的纵向像差图。图19是实施例3的纵向像差图。图20是实施例4的纵向像差图。图21是实施例5的纵向像差图。图22是实施例6的纵向像差图。图23是实施例7的纵向像差图。图24是实施例8的纵向像差图。图25是表示投影装置的实施方式的示意图。图26是投影装置的主体部的示意图。具体实施方式下面,参照附图说明本专利技术的实施方式涉及的投影光学系统及投影装置。本实施方式的投影光学系统将显示在图像显示面上的图像进行放大投影,从放大侧起实际上依次由第一光学系统和第二光学系统组成。第二光学系统形成图像的中间像。第一光学系统将中间像进行放大投影。第一光学系统从放大侧起实际上依次由第一透镜组、第一反射光学元件和第二透镜组的一部分组成。第二光学系统从放大侧起实际上依次由第二透镜组的剩余部分、第二反射光学元件和第三透镜组组成。第二反射光学元件将从第三透镜组射出的光朝向第二透镜组反射。第一反射光学元件将从第二透镜组射出的光朝向第一透镜组反射。相对于第二透镜组,第一透镜组及第三透镜组被配置在投影侧。T1/T3满足以下条件式(1):T1/T3>1.0···(1)其中,T1:从第一透镜组的最靠近放大侧的面到第一透镜组的最靠近缩小侧的面的在光轴上的距离,T3:从第三透镜组的最靠近放大侧的面到第三透镜组的最靠近缩小侧的面的在光轴上的距离。另外,放大侧是指在投影光学系统的光轴上的投影有放大后的光学图像的屏幕面(放大侧的像面)的一侧(所谓的前侧)。缩小侧是指在投影光学系统的光轴上的配置有具有图像显示面的图像显示元件的一侧(所谓的后侧)。投影侧表示投影有放大后的光学图像的屏幕面(放大侧的像面)的一侧。本实施方式的投影光学系统是实际上由形成中间像的第二光学系统和将中间像进行放大投影的第一光学系统组成的中继型的投影光学系统。此外,投影光学系统的光轴被第一反射光学元件及第二反射光学元件弯折两次,并本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种对在图像显示面上显示的图像进行放大投影的投影光学系统,/n所述投影光学系统实质上从放大侧起依次由第一光学系统和第二光学系统组成,所述第二光学系统形成所述图像的中间像,所述第一光学系统将所述中间像进行放大投影,/n所述第一光学系统实质上从所述放大侧起依次由第一透镜组、第一反射光学元件、以及第二透镜组的一部分组成,/n所述第二光学系统实质上从所述放大侧起依次由所述第二透镜组的剩余部分、第二反射光学元件、以及第三透镜组组成,/n所述第二反射光学元件将从所述第三透镜组射出的光朝向所述第二透镜组反射,/n所述第一反射光学元件将从所述第二透镜组射出的所述光朝向所述第一透镜组反射,/n相对于所述第二透镜组,所述第一透镜组及所述第三透镜组被配置在投影侧;/n所述投影光学系统满足以下条件式(1):/nT1/T3>1.0···(1)/n其中,/nT1:从所述第一透镜组的最靠近放大侧的面到所述第一透镜组的最靠近缩小侧的面的在光轴上的距离,/nT3:从所述第三透镜组的最靠近放大侧的面到所述第三透镜组的最靠近缩小侧的面的在所述光轴上的距离。/n

【技术特征摘要】
20190701 JP 2019-1228661.一种对在图像显示面上显示的图像进行放大投影的投影光学系统,
所述投影光学系统实质上从放大侧起依次由第一光学系统和第二光学系统组成,所述第二光学系统形成所述图像的中间像,所述第一光学系统将所述中间像进行放大投影,
所述第一光学系统实质上从所述放大侧起依次由第一透镜组、第一反射光学元件、以及第二透镜组的一部分组成,
所述第二光学系统实质上从所述放大侧起依次由所述第二透镜组的剩余部分、第二反射光学元件、以及第三透镜组组成,
所述第二反射光学元件将从所述第三透镜组射出的光朝向所述第二透镜组反射,
所述第一反射光学元件将从所述第二透镜组射出的所述光朝向所述第一透镜组反射,
相对于所述第二透镜组,所述第一透镜组及所述第三透镜组被配置在投影侧;
所述投影光学系统满足以下条件式(1):
T1/T3>1.0···(1)
其中,
T1:从所述第一透镜组的最靠近放大侧的面到所述第一透镜组的最靠近缩小侧的面的在光轴上的距离,
T3:从所述第三透镜组的最靠近放大侧的面到所述第三透镜组的最靠近缩小侧的面的在所述光轴上的距离。


2.根据权利要求1所述的投影光学系统,其中,满足以下条件式(2):
1.5<T2/T3<5.0···(2)
其中,
T2:从所述第二透镜组的最靠近放大侧的面到所述第二透镜组的最靠近缩小侧的面的在光轴上的...

【专利技术属性】
技术研发人员:增井淳雄井上和彦
申请(专利权)人:柯尼卡美能达株式会社
类型:发明
国别省市:日本;JP

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